半導体ウエハの端部を検査する装置に関し、照明用経路（１０）と解析用経路（２０）を有する共焦点色顕微鏡（７）を有し、照明用経路（１０）は多色光源（１１）とスロット（１２）と少なくともアッベ数５０未満の材料からなるレンズからなる軸上色収差対物レンズ（１５）とを有し、解析用経路（２０）は対物レンズと、色フィルタスロット（２２）と光強度センサ（２４）をこの順番に有し、照明用経路のスロットおよび解析用経路のスロットは検査されるウエハの端部からの光学距離がほぼ同じ場所に設けられている。 （もっと読む）

【課題】二次元測定機で線幅を測定する際に、照明レベルが線幅測定の安定領域に維持されるように、自動調光のパラメータ設定を作業員に負担をかけずに短時間で容易にできるようにする。
【解決手段】測定物を照明する照明装置と、測定物を撮像する撮像部と、該撮像部からの映像信号の輝度変化から線の縁を検出して線幅を測定できる二次元測定装置において、照明装置の照明レベルを段階的に変化させる照明レベル変化手段（Ｓ６、Ｓ７、Ｓ８、Ｓ１５）と、照明レベルの各段階毎に線幅を測定する線幅測定手段（Ｓ９〜Ｓ１３）と、線幅、該線幅を測定したときの照明レベル、最大輝度及び最小輝度を記憶する測定値記憶手段（Ｓ１４）と、記憶した測定値に基づいて線幅測定の安定領域を検出して映像信号の輝度範囲を設定する輝度設定手段（Ｓ１６）と、映像信号の輝度を設定された範囲内に保持する自動調光手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】軸上色収差量が可変の結像光学系を提供する。
【解決手段】結像光学系は、結像レンズ３と、結像レンズ３の光軸方向に移動可能な第１レンズ１及び第２レンズ２とを備え、第１レンズ１及び第２レンズ２のうち少なくとも一方のレンズを光軸方向に移動させることにより結像光学系の軸上色収差量が可変的に調節され、第１レンズ１及び第２レンズ２の光軸方向の位置関係を変化させることにより、軸上色収差量の変動に伴う結像光学系の倍率色収差の変動が抑制される。 （もっと読む）

【課題】
被検体測定面の水平面に対する傾きと、回転する被検体の場合には回転中心に対する偏芯をほぼ同時に検出し測定する。
【解決手段】
レーザ光源１からの光束を回転する被検体Ｄに向かわせ、その測定面ｄ１からの反射光をテレセントリック対物レンズ７で検出して対物レンズ１０で受光部１１に投影する傾き測定用光学系１３を形成する。また被検体測定面ｄ１に予め施した指標をテレセントリック対物レンズ７で検出して対物レンズ１０で受光部１１に投影する顕微鏡用光学系１５を形成する。
両光学系１３、１５を結合し、夫々が検出した像を共通の受光部１１に投影し、表示部Ｃに表示して測定する。


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【課題】見えにくい箇所に付着した異物を効率良く除去する手段の提供。
【解決手段】測定ユニット１６の外装部には、プローブカード２の触針３_ｎを上方、左方、右方の異なる３方向からブラッシングするための３種類のブラシが取り付けられたクリーニングプローブを有するクリーニングユニット２１が設けられており、このクリーニングユニット２１は、プローブカード２と測定ユニット１６とが３次元方向に相対的に移動することで、３種類のブラシによって、上方、左方、右方の異なる３方向から触針３_ｎをブラッシングする。これにより、触針３_ｎの見えにくい箇所に付着している異物を効率良く取り除くことが可能となり、プローブカードに設けられた触針の形状を測定する測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、機能液滴ヘッドの各ノズルから吐出された機能液滴の着弾ドットの体積について、信頼性の高い測定結果を得ることができる着弾ドットの体積測定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド１の検査吐出により、検査基板に着弾した着弾ドット１０の体積を、干渉計９９を用いて測定する着弾ドット１０の体積測定方法であって、撥水性の異なる複数種の検査基板１６を用意し、周囲雰囲気の湿度と、測定のための着弾ドット１０が適正ドーム形状となる複数種の検査基板１６と、の関係を表した湿度−撥水性データ２０に基づいて、測定した周囲雰囲気の湿度に応じた１の検査基板１６を用いて、検査吐出および着弾ドット１０の体積測定を実施する。 （もっと読む）

【課題】目視観察用のモニター装置を用いて、大型基板上の欠陥部位を観察するに当たり、当該部位が該モニター画面上のどこにあるのか容易に認識できる手段及びこの手段を備える目視検査システムを提供する。
【解決手段】自動欠陥検査装置で取得したパターンの欠陥に関する情報を欠陥情報データベースに蓄積する手段と、目視検査装置で取得したパターンの欠陥に関する情報を欠陥情報データベースに蓄積する手段と、蓄積された前記パターンの欠陥に関する情報を目視検査支援システムに備わるモニター装置で閲覧する手段と、被検査基板上に形成されたパターンの撮像映像を目視検査装置に備わるモニター装置に表示する手段と、被検査基板上に形成されたパターンの欠陥部位を、前記欠陥情報データベースに蓄積された情報に基づいて、レーザポインタにより照射する手段と、を備えることを特徴とする目視検査システム。 （もっと読む）

【課題】透明膜で形成されたパターンは、コントラストの変化が場所によりことなる現象が発生し、輝度変化のパターンと一致しないパターンを測定することができなかった。透明膜パターンのコントラストの変化が変化した場合でも測定が可能な線幅測定方法を実現する。
【解決手段】透明膜のコントラスト変化に合わせて、複数の輝度変化パターンを登録し、登録された複数の輝度変化パターン毎に対応する測定条件を設定し、複数の測定条件で測定する。 （もっと読む）

【課題】短時間にスペクトル測定を行うことができる光学顕微鏡、及びスペクトル測定方法を提供すること。
【解決手段】本発明の第１の態様にかかる光学顕微鏡は、対物レンズ２３を介してレーザ光を試料２４に照射するステップと、対物レンズ２３を介して、試料で反射した反射光を検出するステップと、レーザ光の焦点位置を光軸方向に変化させるステップと、レーザ光の焦点位置を変化させたときの反射光の検出結果に基づいて、スペクトル測定を行う焦点位置を抽出するステップと、抽出された焦点位置になるように調整するステップと、焦点位置を調整した状態で、レーザ光の照射により試料から出射される出射光をレーザ光から分岐するステップと、レーザ光から分岐された出射光のスペクトルを分光器３１で測定するステップと、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】回転対称で複雑な被検面の形状を高精度に光干渉計測できるようにする。
【解決手段】面中心軸Ｃが測定光軸Ｌと一致した基準姿勢から、被検面８０を径方向に分割してなる複数の輪帯状領域上に測定光軸Ｌが順次移動するように、被検面８０の相対姿勢を順次変更し、相対姿勢が変更される毎に被検面８０を回転軸Ｅ回りに回転せしめる。回転する被検面８０に対して、ミロー対物干渉光学系２３より収束しながら進行する測定光を照射し、複数の回転位置毎に、各回転位置別干渉縞を１次元イメージセンサ３２により撮像する。撮像された各回転位置別干渉縞に基づき各輪帯領域別形状情報を求め、これらを繋ぎ合わせることにより測定領域全域の形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】エラー領域の判定精度を向上させて、対象物の表面形状の計測をより適切に行えるようにする。
【解決手段】制御部１８は、焦点位置が異なる標本１の複数の顕微鏡画像を構成する各画素についてのコントラスト評価値を算出する。また、各画素に対し、所定の閾値を、画素の輝度に基づき画素毎に設定する。そして、各顕微鏡画像での位置が同一である画素についての最大コントラスト評価値と該閾値とを画素毎に比較し、最大コントラスト評価値が閾値よりも低い画素で構成されるエラー領域を抽出する。非エラー領域の画素については、該画素で表されている標本１の部位の高さの情報を、各顕微鏡画像の焦点位置の情報に基づき取得する。エラー領域の画素については、該高さの情報を、非エラー領域に含まれている各画素について取得した高さの情報に基づく補間演算により取得する。 （もっと読む）

被験物体からの試験光と参照光とを合成して、検出器上に干渉パターンを形成する光学系を含む広帯域走査干渉計システムから構成される装置。本装置は、共通の光源から検出器への試験光と参照光との間の光路差（ＯＰＤ）を走査するように構成されたステージと、一連のＯＰＤ増分の各々に対する干渉パターンを記録する検出器を含む検出系であって、各ＯＰＤ増分の周波数がフレームレートを定義する、検出系とを含む。光学系は、走査時のＯＰＤの変化を示す少なくとも２つの監視干渉信号を生成するように構成され、検出系は、監視干渉信号を記録するように構成される。本装置は、フレームレートより高い周波数において、ＯＰＤ増分への摂動に対する感度でＯＰＤ増分に関する情報を決定するように構成されたプロセッサを含む。
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【課題】顕微鏡の被写界深度を大幅に超えた立体形状を持つ被測定物を、被測定物や顕微鏡等を移動させることなく、短時間で効率的に、高精度な形状測定を行うことができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る形状測定装置１は、被測定物１００に向けて平行光Ｒを照射する照明装置３０と、被測定物１００を挟んで照明装置３０と対向する位置に、前記平行光の光軸と自身の光軸が一致するように配置される被写界深度の大きな顕微鏡４０と、顕微鏡４０により拡大された被測定物１００の像を、０．２μｍ乃至２μｍの分解能で撮像するカメラ５０と、平行光Ｒが被測定物１００の測定部分の外周形状を映し出すように平行光Ｒ内に被測定物１００の測定部分を配置する保持装置２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 撮影により得られた細胞画像を利用して、細胞の移動距離、ベクトル情報を定量化することが可能な細胞画像解析装置を提供する。
【解決手段】 所定のラインパターンを設けた細胞培養ディッシュ内で培養された細胞を時間を変化させて撮影することにより得られた各細胞画像を用意しておく。時間的に先行する細胞画像に映されている細胞上と、時間的に後の細胞画像に映されている同一細胞上の点が位置指定手段３０により指定されると、指定位置定義手段４１が、上記指定された２点をそれぞれ移動開始位置、移動終了位置として定義する。移動距離算出手段４２は、定義された移動開始位置、移動終了位置および撮影画像の縮尺より移動距離を算出する。また、ベクトル情報算出手段４３は、定義された移動開始位置、移動終了位置を結ぶ直線の傾きを利用してベクトル情報を算出する。このようにして、細胞の動きを定量化することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】観察対象である標本の濃淡変化が乏しい領域の適切な高さ情報を得る。
【解決手段】画像処理部２０７は、まず、顕微鏡画像の構成画素のうちの一部の画素群である第一画素群に属する各画素について、その画素で表されている標本２０３の部位の高さを、標本２０３の高さ方向に焦点位置が互いに異なり視野範囲は同一である標本２０３の複数の顕微鏡画像に基づいて取得する。次に、画像処理部２０７は、顕微鏡画像を複数の小領域に分割し、この複数の小領域の各々に対し、小領域に表されている標本２０３の部位の高さの代表値を、第一画素群に属する画素について取得した高さに基づき生成する。そして、顕微鏡画像の構成画素のうち第一画素群に属さない画素群である第二画素群に属する各画素について、その画素で表されている標本２０３の部位の高さを、複数の小領域の各々に対して生成した高さの代表値に基づく補間演算により算出して取得する。 （もっと読む）

【課題】プロファイルラインの指定と関心領域の指定との相互間の位置関係を容易に把握できるようにする。
【解決手段】画像表示領域１０８での試料の平面画像の表示に対してなされる、試料のプロファイルを表すプロファイル画像における当該プロファイルの表示範囲の指定を、演算部１０３が取得する。プロファイル描画部１０５は、当該表示範囲のプロファイル画像をプロファイル表示領域１０９に表示させる。演算部１０３は、画像表示領域１０８での平面画像の表示に対してなされる関心領域の指定を取得し、プロファイル描画部１０５でのプロファイル画像での表示において、当該関心領域に対応する範囲を判別する。プロファイル描画部１０５は、プロファイル表示領域１０９でのプロファイル画像における、当該関心領域の範囲内の画像と当該範囲外の画像とを、異なる態様にして表示させる。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに対する着色画素の位置ズレを算出するバーニアで、顕微鏡の焦点深度に影響されず、測定用マークのフリンジ部に影響されず精度よく、安定して位置ズレを算出するバーニア、及び露光位置の測定方法を提供する。
【解決手段】１）バーニアＶ２は、第一測定用マークＭ１１と第二測定用マークＭ１２で構成され、２）第一測定用マークは、遮光部Ｓと第一開口部Ｋａ−Ａと第二開口部Ｋａ−Ｂからなり、第二測定用マークは、遮光部上に形成されており、３）第二測定用マークの重心Ｄは、第一開口部の重心Ａと第二開口部の重心Ｂを結ぶ直線を底辺とする二等辺三角形又は直角二等辺三角形の頂点Ｃに位置すること。バーニアから一定距離離れた位置に、測定に用いる顕微鏡を移動させるためのターゲットマークＴＭを備えていること。 （もっと読む）

インプリント・リソグラフィは、インプリントの際にテンプレートと基板間の正確なアライメントから利益を得る。テンプレートと基板上の表示から生じるモアレ信号が、高帯域幅の低遅延信号を提供するライン走査カメラとデジタル・マイクロミラー装置（ＤＭＤ）を含むシステムによって取得される。取得した後、モアレ信号をそのまま使用して、個別の位置／角度エンコーダの必要なしにテンプレートと基板を位置合わせすることができる。
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【課題】撮像した画像を用いて被検査体における凸部について正面の形状とともに側面をも同時に観察し、検査工程に要する時間を短縮するとともに、簡易な構成により被検査体における凸部の高さを求められるようにする。
【解決手段】一方の面において断面が二等辺三角形で同形同大の山形形状部が複数反復して一方向に延在するように連接された形状とされ他方の面が平坦な面であり透明材料からなるマイクロプリズムシート（ＭＰＳ）を被検査体（Ｓ）に近接した位置に配置し、このマイクロプリズムシートを介して被検査体を撮像可能な位置に撮像装置１０を配置する。撮像装置で撮像された画像により被検査体における凸部の正面とともに凸部の側面が観察され、被検査体上の１点に対応する画像上の２点の間隔に比例する量として被検査体における凸部の高さが求められる。 （もっと読む）

【課題】基板アライメント装置が緊急停止した場合に、マーク保持部が基板及び基板保持部と衝突することを防止する。
【解決手段】上ステージ部と下ステージ部とにより互いに面方向に相対移動されて位置合せされる一対のウエハに設けられたアライメントマークを撮像する上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との視野内に、上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０とにより撮像される上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との相対位置検出用の基準マーク１４６を出し入れする基準マーク移動装置１００であって、基準マーク１４６を保持するボード１４４と、ボード１４４におけるマーク形成部分をウエハ及びウエハホルダの移動通路に出入りさせると共に、駆動が停止された場合に、ボード１４４の全体を移動通路の外部へ退避させる昇降装置１０２と、を備える。 （もっと読む）