【課題】表面形状の計測処理を効率的に行い、撮像装置のスループットを向上させる技術を提供する。
【解決手段】撮像装置が、被写体を保持する保持手段と、前記被写体の表面形状を計測する表面形状計測手段と、前記表面形状計測手段により計測された表面形状に合わせて撮像面を調整して、前記被写体の撮像を行う撮像手段と、前記被写体の全体領域のなかから撮像すべき対象物が存在する存在領域を特定する特定手段とを備える。前記表面形状計測手段は、前記特定手段により特定された存在領域の表面形状のみを計測する。 （もっと読む）

【課題】被検出形状に縁部における輝度変化を除去し、欠けや異物の検出を確実に行える孔形状検査方法および孔形状検査プログラムを提供する。
【解決手段】孔形状良否を判定する孔形状検査方法およびプログラムであって、前記孔の孔形状撮像工程と、前記孔形状画像の２値化画像形成工程と、前記孔の面積が既定値であるかを判定する孔面積判定工程と、前記孔の内形状の孔重心を求める孔重心演算工程と、前記孔形状画像に前記孔重心を中心とする同心フィルターをかけ、前記孔重心を中心とする同心形状上の画素の平均輝度と、１画素の画素輝度と、の差によるフィルタリング画像形成工程と、前記フィルタリング画像の２値化フィルタリング画像形成工程とを有し、前記２値化フィルタリング画像の画素数が所定の値以下である場合、前記孔を良品と判定する良否判定工程を有する孔形状検査方法、およびその検査方法をコンピューターに実行させるプログラム。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの上部及び下部の寸法を明確に区別して測定する。
【解決手段】基板５上に形成された凹凸パターンを拡大観察する顕微鏡１と、前記顕微鏡１を通して観察される前記凹凸パターンを撮像する撮像カメラ２と、前記顕微鏡１の対物レンズ７の視野外からその視野内に散乱光を照射する照明光学系３と、前記撮像カメラ２の画像を入力して表示部１７の画面１７ａ上に表示し、入力手段１６により入力して前記表示画面１７ａ上に指定された範囲内の前記凹凸パターンの上部及び下部のいずれか一方、又は両方の寸法を測定する制御手段４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】位置測定装置における可動部材をできる限り他の部材と機械的に接続せずに成る高精度の位置測定装置を提供すること。
【解決手段】検出ユニット２０と信号ユニット３０を構造的に分離されたユニットとして形成し、検出ユニット２０を測定標準１０に対して少なくとも１つの測定方向ｘに沿って変位可能に配置し、光源から照射されるビームを信号ユニット３０から検出ユニット２０の方向へ照射し、少なくとも１対の部分ビームを検出ユニット２０から信号ユニット３０の方向へ照射し、検出ユニット２０及び信号ユニット３０を互いに平行な平面内に配置し、信号ユニット３０と検出ユニット２０の間におけるビームの少なくとも一部の拡がり方向を前記平面に対して垂直に配向するよう構成した。 （もっと読む）

【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡を用いて、一つの立体的な試料に対して、焦点距離の異なる多数の画像を得、これらの画像を組み合わせて、全領域の焦点が合った１枚の２次元合成画像を得るため、試料の高さ情報を表示する３次元プロファイルマップの作成方法を提供する。
【解決手段】試料を異なる高さから撮像して、焦点部位の異なる２次元試料画像を得、離散ウェーブレット変換を行うことにより得られた詳細サブーバンドにおいて、最大の詳細サブーバンド係数値を示す画像の撮像高さで、初期の高さ地図を作成し、それぞれの入力画像において、焦点整合度を計算し、フィルターをかけて、非合焦点のピクセル（非境界点）の高さ情報は除去し、除去されたピクセル（非境界点）の高さを、フィルターを通過したピクセル（境界点）の高さ値から内挿して算出し、前記高さ情報の除去されたピクセルに対して前記内挿によって算出された高さを代入して高さ地図を作成する。 （もっと読む）

【課題】細胞内で起こる高速現象を測定する装置を提供する。
【解決手段】ヒルベルト位相顕微鏡を使用し、透光性物体に関連した高解像度位相情報から、一フレーム毎の形状、体積のようなパラメータを得、ミリ秒の時間スケールで取得した多数の画像をもとに、ダイナミックな変動をナノメートルオーダーの分解能で定量化する。 （もっと読む）

【課題】液浸法で露光を行う露光装置の液体に接する部分に異常があるかどうかを効率的に判定する。
【解決手段】露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐを露光する露光方法において、液体１に接する接液部を光学的に観察し、得られる第１画像データを記憶する第１工程と、接液部の液体１との接触後、例えば液浸露光後に接液部を光学的に観察して第２画像データを得る第２工程と、第１画像データと第２画像データとを比較して、その観察対象部の異常の有無を判定する第３工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ノズル穴に生じる欠陥の種類を特定可能なノズル外観検査装置、およびノズル外観検査方法を提供すること。
【解決手段】ノズル外観検査装置１００は、ノズル穴の開口部の画像を取得する画像入力手段６０と、画像の二値化画像を生成する二値化手段６１と、二値化画像からノズル穴の内輪郭および外輪郭を検出する輪郭検出手段６２と、内輪郭の近似円である内輪郭近似円および外輪郭の近似円である外輪郭近似円を算出する近似円算出手段６３と、内輪郭および外輪郭と内輪郭近似円および前記外輪郭近似円とを比較して、内輪郭および外輪郭の形状の特徴を示す特徴フラグを内輪郭および外輪郭上の各点に対して設定するフラグ設定手段６４と、特徴フラグに基づいて欠陥の種類を示す欠陥フラグを設定し、欠陥の種類とその位置を検出する欠陥検出手段６５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】管腔形成試験で撮影された培養細胞画像から作用させた物質について、５０％阻害濃度が簡易に得られる管腔形成阻害作用の評価方法および装置を提供する。
【解決手段】評価対象画像データから網目領域を抽出し、各網目領域の面積と数を計測する段階と、網目領域の属性評価項目を計測する段階と、濃度別に各評価項目の管腔形成能を相対値として算出する段階と、評価項目数に応じて放射状に伸びた軸上に、前記算出された管腔形成能の相対値をプロットして、濃度別にレーダーチャートを作成する段階と、前記濃度別のレーダーチャートの原点とプロットした点までの距離によって算出したチャート多角形の大きさと歪みに基づいて管腔形成能を合算し、濃度別に合算値である管腔形成能を算出する段階と、算出した濃度別の合算値である管腔形成能をシグモイド曲線へ当てはめて濃度依存的阻害曲線と５０％阻害濃度を算出する段階とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】物体の位置を取得する方法を提供する。
【解決手段】画像形成システムの第１座標空間が定められ、該第１座標空間における座標が指定される。第２の画像形成システムの第２座標空間が定められ、該第２座標空間における座標が指定される。第１座標空間の指定された座標を用いることにより、座標変換パラメータが計算される。その後、第１座標空間において少なくとも１つの物体の座標が指定され、該物体の第１座標空間座標が第２座標空間における独自の座標に変換される。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズとピンホールとの間にビームスプリッタを設けずともマイクロレンズを介すことなく反射光を光検出器に導くことができる三次元画像取得装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系を用いた三次元画像取得装置１０であって、マイクロレンズ板１３は、照明光を集光する複数のマイクロレンズが二次元に配設される。照明側開口板１４は、マイクロレンズの集光位置に設けられた照明側開口部を有し、照明側開口部によりマイクロレンズが集光した照明光を被計測体１７に向けて通過させる。偏光ビームスプリッタ１５は、照明側開口板１４を通過した照明光を透過するとともに、被計測体１７からの反射光を照明光の光路とは異なる光路に反射する。検出側開口板２１は、照明側開口部と光学的に共役な位置に設けられた検出側開口部を有し、検出側開口部により偏光ビームスプリッタ１５で反射された反射光を光検出器に向けて通過させる。 （もっと読む）

【課題】観察対象物の表面の断面曲線を正確でかつ高速に検出することが可能な共焦点顕微鏡システム、画像処理方法および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】使用者が観察対象物Ｓの断面曲線データの取得範囲を指示する。ＣＰＵ２１０は、その指示に基づいてＸ方向に沿って連続的に並ぶ複数の帯状領域を設定するとともに、各帯状領域においてＸ方向に平行な複数の測定ライン上でレーザ光を走査することにより、複数の測定ラインに基づく画素データを制御部３００から取得する。ＣＰＵ２１０は、取得した複数の測定ラインの画素データに基づいて帯状領域の複数の断面曲線データを生成し、作業用メモリ２３０に記憶する。ＣＰＵ２１０は、複数の帯状領域の複数の測定ラインについて生成された断面曲線データをＸ方向に沿って連続する測定ラインごとに連結することにより、連結された複数の断面曲線データを得る。 （もっと読む）

【課題】回折格子の形状特徴物などの小寸法の形状特徴物のプロフィールを見出すためのシステムを提供する。
【解決手段】シード・プロフィールのギャラリが作られ、半導体装置についての製造プロセス情報を用いて該プロフィールに関連する初期パラメータ値が選択される。回折構造および関連するフィルムを測定するとき、反射率Ｒ_s，Ｒ_pなどのいろいろな放射パラメータおよび楕円偏光パラメータを使用することができる。放射パラメータのうちのあるものは、該プロフィールまたは該フィルムのパラメータ値の変化に対してより敏感な１つ以上の放射パラメータを選択してより精密な測定に到達することができる。プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】 ショット領域間の相対位置の計測を容易に行いうるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、基準マークが形成されたモールドを保持する支持体と、各ショット領域に第１マーク及び第２マークが形成された基板を保持する基板ステージと、前記各ショット領域に形成された前記第１マーク及び前記第２マークと前記モールドに形成された前記基準マークとを検出することによって前記各ショット領域間の相対位置を計測する検出器とを備える。前記検出器は、隣接しあう２つのショット領域のそれぞれに形成された隣接しあう前記第１マーク及び前記第２マークそれぞれの前記基準マークに対する位置を検出することによって、隣接しあう前記２つのショット領域間の相対位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】迅速に欠陥レビューを行うことができる欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム３１を試料８の表面に照射し、試料８の表面の観察領域内で電子ビーム３１を走査させる電子鏡筒１と、電子ビーム３１の光軸周りに相互に９０°の角度を開けて配置された４つの電子検出器９ａ〜９ｄと、電子検出器９ａ〜９ｄの検出信号に基づいて、観察領域をそれぞれ異なる方向から写した複数の画像データを生成する信号処理部１１とを備えた欠陥レビュー装置１００において、観察領域のパターンがラインアンドスペースパターンである場合には、欠陥検査部１２によってラインパターンに平行であって電子ビーム３１を挟んで対抗する２方向からの画像データの差分をとった差分画像に基づいて、欠陥の検出を行う。 （もっと読む）

【課題】表面形状測定機の測定視野以上の測定領域の測定をするに際して、複数の測定結果の繋ぎ合せを簡易に行うことを可能とし、オーバーラップ領域を低減して全体の測定時間を削減し、さらに一定の累積誤差の発生を低減することが可能な表面形状測定方法を提供すること。
【解決手段】面測定データの繋ぎ合せ時に回転方向の補正を行わず、面測定データの平行移動のみを行い面測定データを合成して合成面測定データを取得するようにする。 （もっと読む）

【目的】パターン領域と非パターン領域の間に段差がある被検査試料であっても、効率的に検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン領域内に指定される被検査領域を記憶する被検査領域記憶部と、被検査試料上のパターン面高さ測定位置に対するパターン面高さ信号を検出するパターン面高さ検出部と、パターン面高さ検出部で検出されるパターン面高さ信号を用いて、被検査試料に対するフォーカスを合わせるオートフォーカス機構と、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置するか否かを判定する判定部と、判定部が、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置すると判定する場合にはオートフォーカス機構を駆動し、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置しないと判定する場合にはオートフォーカス機構を停止するオートフォーカス機構制御部と、を有することを特徴とするパターン検査装置 （もっと読む）

【課題】高さの異なる第一物面および第二物面の位置合わせマーク像を同時に倍率を変えることなく取り込むことができる結像型の観察装置および観察方法を提供する。
【解決手段】観察装置１Ａは、同軸上に配置された部分反射ミラー２，３と、部分反射ミラー２，３を経由して、ホログラム面２１ａおよび光検出器面２２ａ上の物点から発せられた光線を検出する光学顕微鏡１９とを備える。光学顕微鏡１９は、光検出器面２２ａ（第一物面）については部分反射ミラー２，３の透過光により観察し、ホログラム面２１ａ（第二物面）については部分反射ミラー２と部分反射ミラー３との間を往復後の透過光により観察する。これにより、観察装置１Ａは、同軸上に配置された高さの異なる光検出器面２２ａ（第一物面）およびホログラム面２１ａ（第二物面）を光学的に同時に観察することができる。 （もっと読む）