【課題】着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度で硬化し、未硬化部の良好な現像性を維持しつつ、支持体との優れた密着性と耐現像性に優れた硬化部を形成しうる、パターン形成性に優れた硬化性組成物、該硬化性組成物を用いて着色パターンを形成してなる解像力に優れたカラーフィルタ、それを高い生産性で製造しうる製造方法高及び解像度の着色パターンを有するカラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性基と２つ以上の水酸基とを有する重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）着色剤、を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ノンハロゲン組成で環境負荷が少ないと共に難燃性及び保存安定性が共に優れ、可撓性に富む硬化皮膜を形成できる難燃性光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の難燃性硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】難燃性光硬化性樹脂組成物は、（Ａ）カルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）上記カルボキシル基含有樹脂（Ａ）又はそのワニスに５ｗｔ％以上可溶である可溶性ホスファゼン化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。好ましくは、上記カルボキシル基含有樹脂（Ｂ）はカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂である。好適にはさらに（Ｄ）光重合性モノマーを含有し、あるいはさらに（Ｅ）熱硬化性樹脂を含有する。このような難燃性光硬化性樹脂組成物、特に熱硬化性樹脂（Ｅ）を含有する光硬化性・熱硬化性樹脂組成物は、ソルダーレジストとして好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】高感度化とネガパターン化が可能となり、更に高硬度及び耐熱性と保存性とを両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物、好ましくは熱架橋剤を含有してなる感光性組成物である。


ＸはＯ、Ｓ又はＮＲ（Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル基を表す）を表す。ｎは０又は１の整数を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に水素原子又は中性の一価の置換基を表す。なお、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ隣接する２つが互いに連結して環を形成していてもよい。Ｒ^５又はＲ^６とＲ^７又はＲ^８は互いに連結して脂肪族環を形成してもよいが、芳香族環を形成することはない。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物、並びに特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤。 （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】
現像処理において現像浴槽内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定的に処理をすることができる現像液を提供する。また、感光性組成物を用いた平板印刷版の現像性及び耐刷性を良好なものとする現像液を提供する。
【解決手段】
式（I）で表わされるアニオン界面活性剤とキレート剤とを含むネガ型感光性平板印刷版用の現像液であって、現像液はアニオン界面活性剤を１．０質量％〜１０質量％の範囲で含み、かつキレート剤を０．０５質量％〜１．０質量％の範囲で含み、ｐＨが１１〜１２．５である現像液。
【化１】
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【課題】十分な感度を有すると共に、高い透過率の塗膜又はパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、光重合開始剤（Ｃ）が、アセトフェノン骨格を含有する化合物（Ｃ１）と、少なくとも２個のチオール基を有する化合物（Ｃ２）とを含んでなる光重合開始剤である、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ノンハロゲン化による環境面が考慮され、優れた難燃性を備え、絶縁信頼性が良好で、難燃成分の析出が抑制されたカバー絶縁層を形成することのできるフレキシブルプリント配線回路基板用の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリル酸アリルの（メタ）アクリロイル基に９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドが付加した化合物の残基で表される構造単位とカルボキシル基を含有する線状重合体、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）熱硬化性化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する
【解決手段】本酸転写樹脂膜形成用組成物は、（Ａ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｂ）末端にシアノ基を有する重合体、を含有することを特徴とする。本本酸転写樹脂膜は、本酸転写樹脂膜形成用組成物を用いてなることを特徴とする。本パターン形成方法は、（Ｉ）酸解離性基を有する樹脂を含有し、且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、本酸転写樹脂膜形成用組成物からなる第２樹脂膜を形成する工程と、（ＩＩ）マスクを介して第２樹脂膜に露光し、第２樹脂膜に酸を発生させる工程と、（ＩＩＩ）第２樹脂膜に発生した酸を第１樹脂膜に転写する写工程と、（ＩＶ）第２樹脂膜を除去する工程と、をこの順に備える。 （もっと読む）

【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性および弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
カルボキシル基を有する親水性樹脂（Ａ）、多官能アクリレートモノマー（Ｂ）、液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）および光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物であって、該液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）がアクリロニトリル成分（ａ）を該液状ポリブタジエン共重合体（Ｃ）の固形分重量に対して１０〜５０重量％以上含有する感光性樹脂組成物（Ｑ）であって、該感光性樹脂組成物（Ｑ）を光硬化させて形成されたガラス基板上の硬化膜の４００ｎｍ光透過率が９０％以上であることを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】２つ以上のフェノール性水酸基、及び、アルキルチエニル基を有する芳香族環を繰り返し構造単位として含むノボラック樹脂（Ａ）と、有機溶剤（Ｂ）と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、該組成物による硬化膜、及び該硬化膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】フッ素を含むシルセスキオキサン基とアルカリ可溶性官能基とを有する、フッ素を含む重合体（Ａ）及び１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）を含有する感光性組成物を構成し、該組成物を焼成して硬化膜を形成し、該硬化膜を有する表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】密着性の高い、品質の良好なブラックマトリクス（または遮光膜）を形成することができるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ウレイド基を含有するシランカップリング剤、（ｂ）黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材からなる群から選ばれる１以上の遮光成分を含有する遮光性分散液、（ｃ）エポキシ基を２個以上有する化合物と、（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有樹脂、（ｄ）少なくとも１個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、及び（ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される基を、１分子中に少なくとも２個有するシリコーン樹脂、（Ｂ）グリシジル基を有するシロキサン化合物、（Ｃ）ジアゾナフトキノン類及び（Ｄ）有機溶剤を含有する。永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、１２０〜３５０℃の温度でポストベークして製造される。
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【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシスチレン系構造単位（ａ１）と、アルキルビニルエーテル系構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤、を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、金属配線上でパターニング開口部に残渣の発生を抑制でき、信頼性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 本発明の感光性樹脂組成物は、金属配線上に製膜され、パターニングされる感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂と、感光剤と、前記パターニングされた際の残渣を抑制する残渣抑制剤と、密着助剤と、を含むことを特徴とする。また、本発明の硬化膜は、上記に記載の感光性樹脂組成物の硬化物で構成されていることを特徴とする。また、本発明の保護膜および絶縁膜は、上記に記載の硬化膜で構成されていることを特徴とする。また、本発明の半導体装置および表示体装置は、上記に記載の硬化膜を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性及び感度が良好であり、かつ、その色純度に優れたカラーフィルター形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
カルボキシル基を有する親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、着色粒子（Ｃ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物であって、前記カルボキシル基の少なくとも一部が、超強塩基性化合物（Ｅ）で中和されていることを特徴とするアルカリ現像可能なカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物による硬化膜、及びこの膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】ケイ素数３以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有するラジカル重合性モノマー（ａ−１）と、フェノール性水酸基を有するビニルケトンであるラジカル重合性モノマー（ａ−２）とを含むモノマーのラジカル重合体（Ａ）と、１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）とを含有し、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）を含有していてもよい感光性組成物を構成し、この感光性組成物から硬化膜を形成し、この硬化膜を表示素子中の膜に用いる。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する感活性光線性樹脂組成物。


式中、Ａｒは、芳香族環を表し、−（Ａ−Ｂ）基以外に更に置換基を有してもよい。ｎは、１以上の整数を表す。Ａは、単結合、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ(＝Ｏ)―、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、及び−ＯＳ（＝Ｏ）_２−から選択されるいずれか、あるいは２以上の組み合わせ（但し、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を除く）を表す。Ｂは、３級若しくは４級炭素原子を含む、炭素原子数が４以上の炭化水素基を有する基を表す。ｎが２以上のとき、複数の−（Ａ−Ｂ）基は同一でも異なっていてもよい。Ｍ^＋は、有機オニウムイオンを表す。 （もっと読む）