【課題】より微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）第一パターン部及び第一スペース部をそれぞれ複数有する第一のレジストパターン群を、所定のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して不溶な不溶化レジストパターン群とする工程と、（２）ポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて、第一パターン部の上及び第一スペース部にレジスト層を形成し、形成したレジスト層を、マスクを介して選択的に露光する工程と、（３）現像して、少なくとも一の第一パターン部の上面の一部を露出させた状態で、少なくともその一部が第一パターン部上に重畳的に配置された第二パターン部を形成し、第一パターン部と第二パターン部とが組み合わされた複数の複合パターン部を有する第二のレジストパターン群を形成する工程と、を有するレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつレジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターンの疎密度への依存性が小さい新規な光酸発生剤、当該光酸発生剤を構成する新規なスルホン酸塩、当該光酸発生剤から発生するスルホン酸、当該光酸発生剤を合成する原料ないし中間体として有用なスルホン酸誘導体、並びに当該スルホン酸塩を製造するための方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で表される重合性含フッ素スルホン酸オニウム塩およびこれを重合させた重合体。
【化】


（式中、ZおよびＲは前記一般式（１）におけるZおよびＲと同義である。Ｑ⁺は、スルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】一浴現像処理にも拘らず、画像露光前に、平版印刷版原版を保存した場合でも形成される画像の特性に変動が無く、且つ耐刷性及び耐汚れ性に優れた平版印刷版を作製する平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】ポリビニルホスホン酸水溶液で処理した後、２価の陽イオンを含む水溶液で洗浄することにより、２価の陽イオンを０．５〜３．０ｍｇ／ｍ²吸着させたアルミニウ
ム支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有する感光層を有する平版印刷版原版を画像露光した後、現像液で一浴現像処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法及び現像液で一浴現像処理することができる当該平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】基材成分として低分子材料を用いた新規なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によって分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が向上する酸発生剤からなる基材成分と、アルカリ可溶性化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジストパターン上に１分子内に少なくとも１つのアミノ基又はアンモニウム塩を有するアミノシラン化合物を吸着させ、その上にＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法又はＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によりシラン、クロロシラン、アルコキシシラン及びイソシアネートシランから選ばれるシランガスを酸化して珪素酸化膜を形成するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、レジストパターンに直接珪素酸化膜系の膜を形成し、レジストパターンのピッチを縮小するサイドウォールスペーサー法において、上記シラン化合物でレジストパターン表面を覆うことで、その後のＣＶＤ法又はＡＬＤ法による珪素酸化膜形成を促進させ、パターンの変形やＬＷＲの増大を防ぎ、精度高くサイドウォールスペーサーパターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】長期間保管した後においても、表面張力が増加せず、ストリエーションの発生等の問題を生じることのない塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】レジスト膜に直接接する被膜を形成するための塗布膜形成用組成物であって、少なくとも（ａ）膜形成成分、（ｂ）酸性成分、及び（ｃ）界面活性剤を含有し、且つ前記塗布膜形成用組成物の調製直後からの表面張力の経時変化量が６０℃において、０．２０ｍＮ／ｍ・ｄａｙ以下である塗布膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素化合物成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤（Ｓ１）と、沸点１５０℃未満のアルコール系有機溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にノルボルナンラクトン構造を有する構成単位（ａ０）、および前記構成単位（ａ０）に該当しない、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した中間調の平網ムラの均一性が良好であるとともに、ドットロスを抑制した印刷版を提供できる平版印刷版原版、さらに、一液による現像においても、カス分散性に優れた平版印刷版原版、そして、該平版印刷版原版を用い、一浴現像において、平網ムラとドットロスを抑制した印刷版を作製する方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ネガ型感光層、露光波長±５０ｎｍの光を吸収可能な、染料及び顔料の少なくもいずれかを含有する保護層、をこの順に有するネガ型の平版印刷版原版を画像様露光した後、一液で現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ^３は一価の置換基を表す。
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【課題】弱アルカリ性〜弱酸性水溶液による簡易現像処理型の平版印刷版原版において、現像により非画像部における顔料を良好に除去することができ、非画像部における残色をなくして検版性を高め、かつ印刷中の汚れも防止することのできる平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも（Ａ１）支持体吸着性基を有する単位及び（Ａ２）親水性基を有する単位を有する高分子化合物を含有する下塗り層、及び前記高分子化合物に吸着しない顔料を含有する感光層をこの順に有するｐＨが２〜１１の現像液で現像可能な平版印刷版原版、並びに、該平版印刷版原版をレーザーで画像露光した後、ｐＨが２〜１１の現像液の存在下で非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】高感度であり且つセーフライト性、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）分子内に下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１はアルキル基を示し、Ｒ^２は水素原子又は１価の置換基を示す。
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【課題】本発明の課題は、高感度で、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクスを提供することにあり、また、該フォトマスクブランクスを用いて作製された解像度、及び画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供することにある。
【解決手段】透明基材上に、増感色素、重合開始剤、エチレン性不飽和基を有する化合物、バインダーポリマー、遮光材料を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクスであって、前記増感色素が一般式（Ｓ１）〜（Ｓ５）で表される特定の化合物群より選ばれる少なくとも１種である。
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【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用ケイ素含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能なケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜されるケイ素含有膜を形成するための熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤、を含むことを特徴とする熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版および製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ラジカル重合開始剤、増感色素、重合性化合物、および側鎖にスルホンアミド基を介して末端にエチレン性不飽和基を有しているバインダーポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする、平版印刷版原版；上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（A-1）ジアルキルアミノベンゼン系化合物または(A-2)一般式（Ｖ）、(VI)、および(VII）で表される化合物から選択される少なくとも１種の増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。
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【課題】レジスト膜との良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）で示される繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することを特徴とする。
（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又は１価の有機基であり、Ｒ^２は、電子吸引性基を有する１価の有機基である。繰返しにおける複数のＲ^１同士又はＲ^２同士は互いに異なっていてもよい。ａは、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】低ｐＨ領域（例えばｐＨ１１以下）において、現像性、処理性、汚れ防止性、及び、耐刷性に関して充分な特性を両立するとともに、安全かつ、優れた現像性及び処理能力を示し、また現像後印刷までに印刷版を保存した場合でも耐刷性の低下が起こらない、1液処理が可能な平版印刷版の作製方法を提供することにある。
【解決手段】親水性支持体上に、下記（i）、（ii）、（iii）および（iv）を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版を、画像露光した後、炭酸イオンと炭酸水素イオンとを含有する水溶液で処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
（i）増感色素
（ii）光重合開始剤
（iii）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物
（iv）一般式（Ｉ）で表わされる構造を側鎖に有するバインダーポリマー
−Ｌ_１―Ｘ−ＮＨ−Ｙ−Ｒ_１ （Ｉ）
（式中、Ｌ_１は、ポリマー主鎖に結合する単結合または２価の連結基を表す。Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ただし、Ｘ、Ｙの少なくとも一方は、−ＳＯ_２−を表す。Ｒ_１は水素原子または１価の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】弱アルカリ性〜弱酸性水溶液による簡易現像処理型の平版印刷版原版において、現像により非画像部における顔料を良好に除去することができ、非画像部における残色をなくして検版性を高め、かつ印刷中の汚れも防止することのできる平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも（Ａ１）支持体吸着性基及び（Ａ２）親水性基を有する高分子化合物を含有する下塗り層、及び前記高分子化合物に吸着しない顔料を含有する感光層をこの順に有するｐＨが２〜１１の現像液で現像可能な平版印刷版原版、並びに、該平版印刷版原版をレーザーで画像露光した後、ｐＨが２〜１１の現像液の存在下で非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｘは、窒素原子又は−Ｃ（Ｒ^６）−を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子又は一価の置換基を表す。但し、Ｒ^１〜Ｒ^８のうち隣接する２つ、Ｒ^８とＲ^５、Ｒ^７とＲ^６のうちの１又は２以上の組み合せで結合して環を形成していてもよい。
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