【課題】耐刷性及び現像時における処理性に優れ、指紋跡汚れを抑制できる平版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）ラジカル発生剤、（Ｂ）ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体、（Ｃ）ビニル基が置換したフェニル基を２個以上有する化合物、及び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する感光層を有する平版印刷版原版を画像露光する露光工程、並びに、ｐＨが８．５〜１０．８である処理液により非露光部の感光層の除去及び版面親水性化処理を１液で行う１液処理工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】優れた保存安定性と、優れためっき耐性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、エポキシ化合物、及び硬化剤を含有してなり、
前記エポキシ化合物が、１５０℃で６０分間加熱したときのエポキシ基反応率（ａ）が８０％以上であり、
かつ、１５０℃で６０分間加熱したときのエポキシ基反応率（ａ）に対する、１５０℃で１５分間加熱したときのエポキシ基反応率（ｂ）が、ｂ／ａ＜０．８０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸基含有感放射線性酸発生剤（Ａ）と、樹脂成分全体を１００ｍｏｌ％としたとき、酸解離性基を有する繰り返し単位の合計が２５〜４０ｍｏｌ％である樹脂（Ｂ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


〔前記一般式（１）において、Ｒ^１は炭化水素基等を示し、Ｍ^＋は１価のオニウムカチオンを示す。〕 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を有し、かつ平版印刷版原版作製後に経時した場合においても機上現像性が良好な平版印刷版原版、およびその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、さらに（Ｄ）分子量１０００以下のエポキシ化合物を含有する画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版、および機上現像による製版方法。 （もっと読む）

【課題】安全で、優れた現像性及び処理能力を発揮する平版印刷版の作製方法を提供する。また、得られた版において耐刷性を損なうことなく、現像後印刷までに印刷版を保存した場合でも耐刷性の低下が起こらず、また、指紋跡汚れの発生を抑えることができる、１液処理が可能な平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、下記（i）、（ii）、（iii）および（iv）を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版を画像露光した後、低分子ヒドロキシカルボン酸イオン、ｐＨ緩衝剤、及び界面活性剤を含有するｐＨ８．５〜１０．８の水溶液で処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
（i）増感色素
（ii）重合開始剤
（iii）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物
（iv）バインダーポリマー （もっと読む）

【課題】現像性、感度、耐刷性及び網点再現性に優れ、現像時の現像液における現像カスの生成が少ない平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（i）バインダーポリマー、（ii）エチレン性不飽和化合物、及び、（iii）重合開始剤を含有する感光層を有し、前記（ii）エチレン性不飽和化合物が、下記式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版、並びに、並びに、平版印刷版の製造方法。式（１）中、Ｌは（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｄは下記式（Ａ）〜（Ｄ）で表される基よりなる群から選ばれた基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは２以上の整数を表す。
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【課題】高速スリット塗布を行った場合にも、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、被膜の剥離もない、固形分含有量が高いスリット塗布用感光性樹脂組成物およびこれを用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】ｍ−またはｐ−位に置換基を有するフェノール性化合物を用いて合成され、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜１６，０００で、ｏ−ｏ’結合率が２０％以上、３０％以下のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどの感光剤、必要に応じフェノール性化合物、活性剤を含む感光性樹脂組成物を、スリットコーターを用いて基板上にスリット塗布する。２００ｍｍ／ｓｅｃ以上の塗布速度で塗布しても、膜厚が均一で、塗布ムラのない塗膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する
【解決手段】ニトロ基及び酸基を有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像露光後の検版性が良好であり、検版性の経時劣化を抑制することができ、さらに機上現像性、インキ着肉性および耐刷性の良好な平版印刷版原版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光または熱により酸を発生する化合物、（Ｂ）分子内に窒素原子を含む官能基で置換された芳香族炭化水素化合物または複素環式化合物、および、（Ｃ）酸分解性基で保護された芳香族アルデヒドを有する平版印刷版原版を画像様に露光する工程、並びに、印刷機シリンダー上で湿し水及びインキの少なくとも一方を供給し、平版印刷版原版の画像形成層未露光部分を除去する工程を有することを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形状が良好で、充分な膜厚を有するフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に形成された感光性樹脂組成物の塗膜に、フォトマスクを介してレーザを照射し、現像してパターンを形成する工程を画素の色ごとに繰り返すことにより形成され、前記感光性樹脂組成物は、顔料、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、および光重合開始剤を含有し、レーザ照射により硬化可能であり、前記光重合開始剤が、オキシムエステル系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及びカルバゾール系光重合開始剤より選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤Ａと、アシルフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤Ｂとを含み、前記光重合開始剤Ａの含有量（ａ）と、前記光重合開始剤Ｂの含有量（ｂ）とが、重量比で（ａ）／（ｂ）＝０．６〜４．０であり、前記レーザの積算露光量が１〜１５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、現像性も良好であり、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（Ｉ）で示される重合性モノマーに由来する単位を少なくとも有する高分子化合物を含有する下層と、下記一般式（II）で示される基を側鎖に有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に有する。
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【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、ドライエッチング耐性等のレジストとしての基本物性に優れ、且つ、解像度、焦点余裕度、パターン形状に優れる。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤と、溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物において、上記樹脂は、特定構造の酸解離性基を有する繰り返し単位を含む共重合体を含有し、酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、５５モル％を超えて含有し、共重合体は、樹脂全体に対して、９０質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率な光デバイスを高感度に得ることが可能な２光子吸収重合性組成物を提供すること並びに、上記の２光子吸収重合性組成物を用いた光リソグラフィーによって得られる光デバイス、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）重合性化合物、（ｂ）ジチオカルバメート基含有高分子化合物及び（ｃ）２光子吸収化合物、を含有することを特徴とする２光子吸収重合性組成物、該組成物を用いた光硬化方法、並びに該組成物を用いた光デバイス構造体。 （もっと読む）

【課題】 側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成した際のフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を成膜し、該フォトレジスト膜を高エネルギー線で露光し、現像液を用いて現像し、フォトレジストパターンを形成した後、該フォトレジストパターンの側壁にスペーサーとして珪素酸化膜を形成する方法により基板上にパターンを形成するパターン形成方法において、少なくとも、前記珪素酸化膜は、ＣＶＤ法またはＡＬＤ法により、１分子内に少なくとも１つ以上のシラザン結合を有するシランガスを前記フォトレジストパターンに作用させ、酸化させることで得られた珪素酸化膜を用いることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、露光可視画性に優れ、かつ、露光後の取り扱いで可視画像が変化しない印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】基材上に少なくとも画像形成層を有する印刷版材料において、該画像形成層もしくはその他の構成層に下記の色素前駆体Ａと光熱変換素材とを含有することを特徴とする印刷版材料。
色素前駆体Ａ：粒子形態の固体であり、該色素前駆体Ａの粒子径が０．０５〜２μｍの範囲であり、かつ、溶融前の状態と加熱溶融した後に再凝固した状態との色が異なる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光による微細パターン形成プロセスにおける現像工程で、良好なレジストパターン形状を与える液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物を５０質量％以上含む溶剤系に、フルオロアルコール基を側鎖に有する水不溶性、かつアルカリ可溶性ビニルポリマーを溶かしてなることを特徴とする液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法。式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ独立に炭素数３〜５のアルキル基である。
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【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、また、現像性も良好であり、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、特定構造の（メタ）アクリル酸誘導体モノマーに由来する単位を有する高分子化合物、アミノメチル構造含有基を側鎖に有する高分子化合物及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（１）第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程と、（４）第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法の工程（１）で用いられる、特定の繰り返し単位を５〜６５モル％含む酸解離性基を有する樹脂を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジ型レジスト膜の成膜に好適に用いることができ、電子線又は極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネスの発生を抑制することができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）下記一般式（２）で表される感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物である。
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