【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基、及び、ジアゾ基を少なくとも１つずつ有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される光塩基発生剤、及びポリイミド前駆体を含有する、感光性樹脂組成物。


（Ａｒは、特定のアントラセニル基、特定のアントラキノリル基、又は特定のピレニル基のいずれかであり、他の各符号は、明細書中で定義したとおりである。） （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基、及び、ニトロ基を少なくとも１つずつ有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する密着性に優れ、高感度、高解像度のパターンを形成できる感光性樹脂として有用な共重合体を提供する。
【解決手段】 分子内に炭素炭素二重結合を複数個有するビニル単量体［（メタ）アクリル酸エステル誘導体及び（メタ）アクリル酸アミド誘導体を除く］（ビニル単量体Ａ）と、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基を有するビニル単量体（ビニル単量体Ｂ）とを少なくとも含む単量体混合物を重合して得られる共重合体。ビニル単量体Ａには、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｘは連結基を示す。ｎは１〜３の整数を示す）で表される化合物が含まれる。 （もっと読む）

【課題】固体状の組成物であるにも拘わらず、高い熱を掛けなくてもモノマー間の移動（拡散移動）が容易であり、感度も高く、屈折率変調（Δｎ）も０．０１以上ある、耐熱性の高い体積ホログラム記録用感光性組成物の提供。
【解決手段】（ａ）分子内に芳香環を有さず、プロピレンオキシド鎖を有するラジカル重合性モノマー、
（ｂ）芳香環を分子内に有するエポキシ化合物、
（ｃ）分子内にカチオン重合性基および芳香環を有する数平均分子量５，０００〜５０，０００の高分子バインダー
（ｄ）特定波長のレーザー光に感光して成分（ａ）を重合させる光ラジカル重合開始剤系、および
（ｅ）成分（ｄ）を感光させる光に対しては低感光性であり、別の波長の光に感光して成分（ｂ）を重合させる光カチオン重合開始剤系
を含有し、かつ成分（ａ）の平均の屈折率が成分（ｂ）の平均の屈折率より低いことを特徴とする体積ホログラム記録用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンであり；Ｒ^２０は塩基解離性部位を有する二価の基であり；Ｒ^３０は２価の連結基であり；Ｒ^４０は酸解離性基を有する基である。］。
［化１］
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【課題】レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）主鎖にエーテル結合及びフッ素原子を有する樹脂、を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジ型レジスト膜の成膜に好適に用いることができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される化合物と


と、（ｂ）Ｍ^＋Ｚ⁻で表される感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる直接描画が可能で、なおかつ感度、経時安定性、及び、耐刷性に優れたネガ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）下記式（I）で表されるシアニン色素、（Ｂ）ウレタン結合を有するエチレン性不飽和化合物、（Ｃ）重合開始剤、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。式（I）中、Ｘ¹及びＸ²はそれぞれ独立にＳ、Ｏ、ＮＲ及びＣ（アルキル）₂よりなる群から選ばれた二価の連結基を表し、Ｒ^1a及びＲ^1bはそれぞれ独立にアルキル基、アルキルスルホネート基、アルキルカルボキシレート基又はアルキルアンモニウム基を表し、Ｒ²は、ＳＲ、ＳＯ₂Ｒ又はＯＲを表し、Ｒはアリール基を表し、Ｚは一価以上のアニオンを表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に０〜３の整数を表す。
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【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）が、側鎖にノルボルナンカルボン酸に由来するラクトン骨格を有する繰り返し単位（ａ−１）と、側鎖に１，１，１−トリフルオロ−２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ構造を有する繰り返し単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性樹脂組成物。樹脂（Ａ）が、ノルボルナンラクトンを末端に有するオキシアルキレン基で置換された(メタ)アクリル酸エステルに由来する特定の繰り返し単位（ａ−１）と、スルホンアミド基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する特定の繰り返し単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１０）および側鎖に酸解離性基を有し、２個のエステル結合が２価の連結基で繋がった構造で表される構成単位（ａ１４）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーを高原とするフォトリソグラフィー工程に用いられ、９０ｎｍ以下の線幅を可能とする短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、パターン倒れ耐性にも優れた樹脂の提供。
【解決手段】ノルボルナンカルボン酸に由来する特定のラクトン骨格を側鎖に有する（メタ）クリル酸エステル（ａ−１）および特定のアダマンタン骨格を側鎖に有する（メタ）クリル酸エステル構造単位（ａ−２）とからなる樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤とからなる樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１０）、側鎖に３級炭素を有する脂肪族単環式基を有する構成単位（ａ１１）および側鎖に３級炭素を有する脂肪族多環式基を有する構成単位（ａ１２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｂ）が式（１）の化合物を含む感光性樹脂組成物。
[化１]


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数３〜９の脂環式環を示し、２個のベンゼン環は上記脂環式環の同一炭素に結合し、−（ＡＯ）−及び−（ＯＢ）−は、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は１〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好な化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）は第１の樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、第２の樹脂（Ａ２）を０．１〜２０質量部含有する混合重合体であり、第１の樹脂（Ａ１）が酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない重合体であり、第２の樹脂（Ａ２）が側鎖にノルボルナンラクトンエーテル基を有する繰り返し単位（ａ２−１）と、フッ素原子を含有する繰り返し単位（ａ２−２）とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＹＡＧレーザーを用いて、液晶ディスプレイ用のカラーフィルターが得られる、ＹＡＧレーザーに対して非常に高感度で露光硬化する感光性組成物を提供すること。
【解決手段】分子内に下記の構造（１）を有する活性エネルギー線重合開始剤（Ｘ成分）と、分子内に少なくとも２個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物（Ｙ成分）とを含有するＹＡＧレーザーで硬化する感光性組成物。
Ｒ１−Ｃ（＝ＮＯ−Ｒ２）−Ｒ３ （１）
（上記構造（１）においてＲ１は、炭素数が１〜２０のアルキル基、または置換されていてもよいアルキル基、フェニル基、ＣＮ、ＮＯ₂、ハロアルキル基を表し、また、Ｒ２は、水素原子、アシル基またはアルケノイル基を表し、また、Ｒ３は、式（２）で示される分子内にカルバゾル構造を有する基である。） （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
（もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアセタール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ²は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｘ¹は単結合又は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状の二価の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明のレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】高い解像性で、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１０）、側鎖に３級炭素を有する脂肪族単環式基を有する構成単位（ａ１１）および側鎖に酸解離性基含有エステル構造含有基を有する構成単位（ａ１３）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）