【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素化合物成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤（Ｓ１）と、沸点１５０℃未満のアルコール系有機溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素化合物成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、
前記有機溶剤（Ｓ）は、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤（Ｓ１）と、沸点１５０℃未満のアルコール系有機溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
【請求項２】
前記アルコール系有機溶剤（Ｓ１）の沸点が１５０℃以上２５０℃以下である請求項１記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項３】
前記アルコール系有機溶剤（Ｓ２）の沸点が９０℃以上１５０℃未満である請求項１又は２記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項４】
前記基材成分（Ａ）が、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ１）である請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項５】
前記基材成分（Ａ１）が、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ１−１）を含有し、該樹脂成分（Ａ１−１）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する請求項４記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項６】
前記基材成分（Ａ）がアルカリ可溶性樹脂成分（Ａ２−１）を含有し、さらに、架橋剤成分（Ｃ）を含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項７】
さらに、含窒素有機化合物成分（Ｄ）を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の液浸露光用レジスト組成物。
【請求項８】
支持体上に、請求項１〜７のいずれか一項に記載の液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。

【図１】

【公開番号】特開２０１０−９１７３１（Ｐ２０１０−９１７３１Ａ）
【公開日】平成２２年４月２２日（２０１０．４．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２６０８６５（Ｐ２００８−２６０８６５）
【出願日】平成２０年１０月７日（２００８．１０．７）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】