【課題】広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および（Ｃ）２種類以上の塩基性化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ｒ_１は水素原子又はメチル基。Ｒ_２はハロゲン原子等。ｎは０〜５の整数。）
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【課題】広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）２種類以上の、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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【課題】
高い遮光性を有し、現像性、解像性（感度等）及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物を提供することにある。又、本発明の他の目的は、遮光性が高く、解像性及びパターン形状（直線性等）に優れるブラックマトリックスを備えたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】
カーボンブラック、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、並びに、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなる、片末端領域に２つの水酸基を有するビニル重合体中の水酸基と、テトラカルボン酸無水物中の酸無水物基と、を水酸基過剰で反応させてなる水酸基を有する化合物中の水酸基と、１つのイソシアネート基を有し且つ光硬化性部位を有する化合物中のイソシアネート基と、を反応させてなる感光性樹脂等からなる群から選ばれる感光性樹脂を含有してなる感光性黒色組成物により解決。 （もっと読む）

【課題】微細化されたジケトピロロピロール系顔料が、ポストベーク工程において結晶として画素表面に析出することのない赤色着色組成物を提供すること。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、顔料担体、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、および有機溶剤を含む赤色着色組成物であって、前記熱硬化性樹脂が、メラミン樹脂及び／又はメラミン化合物を含み、前記メラミン化合物は、（１）メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させて得られたメラミン化合物、（２）メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させた後、更に酸無水物を反応させて得られたメラミン化合物、又は（３）メラミン樹脂と酸無水物とを反応させて得られたメラミン化合物であり、かつ、前記ジケトピロロピロール系顔料の質量（ＤＰＰ）と、メラミン化合物の質量又はメラミン樹脂及びメラミン化合物の合計の質量（Ｍ）の質量比（ＤＰＰ／Ｍ）が、０．０５〜０．３２の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像時、アルカリ現像液に対して均一に溶解するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法により得られるフォトレジスト用高分子化合物、及びそれを含むフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、ラジカル重合することにより半導体素子製造向けフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法において、内部に静的攪拌器を内蔵した管状反応器を用い、有機溶媒中に前記２種以上の重合性化合物を含有する混合溶液を連続的に通して重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法で得られるフォトレジスト用高分子化合物、並びにフォトレジスト用高分子化合物を含むフォトレジスト用組成物である。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）が、側鎖にノルボルナンカルボン酸に由来するラクトン骨格を有する繰り返し単位（ａ−１）と、側鎖に１，１，１−トリフルオロ−２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ構造を有する繰り返し単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形状に優れると共に、硬化処理によるパターン変形がなく、半導体素子等の更なる高集積化や多層化に伴い要求されている低比誘電率の硬化パターンを形成することができるポジ型感放射線性組成物等を提供する。
【解決手段】本ポジ型感放射線性組成物は、（Ａ）下式（１）で表される加水分解性シラン化合物、及び下式（２）で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体と、（Ｂ）感放射線性塩基発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有するものであって、ｐＨが酸性である。


〔式中、Ｒは水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基又はアルキルカルボニルオキシ基、Ｒ^１及びＲ^２は、各々１価の有機基、ａは１〜３の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】高い顔料分散性とその安定性に優れたカラーフィルタ用着色組成物を提供し、高いコントラストを有し、現像で残渣の少ないカラーフィルタ、及び該カラーフィルタの製造方法を提供し、色特性の良好な液晶表示装置、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）平均一次粒子径１０ｎｍ〜３５ｎｍの有機顔料、（Ｂ１）ポリアリルアミン構造又はポリアルキレンイミン構造を有する主鎖部と、ポリエステルからなる側鎖部を有する重量平均分子量が３０００〜１５０００の範囲であるグラフトポリマー、（Ｂ２）ポリアリルアミン構造又はポリアルキレンイミン構造を有する主鎖部と、ポリエステルからなる側鎖部を有する重量平均分子量が２００００〜６００００の範囲であるグラフトポリマー、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）有機溶剤を含有するカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】露光の際、効果的に反射を防止し、さらに段差基板上に塗布される際にも表面が平滑な膜を形成できるとともに、上層に塗布されるレジストとのインターミキシングが抑制され、さらに、露光部がアルカリ現像液により容易に除去可能な下層膜用重合体を提供する。
【解決手段】下層膜用重合体は、２以上のポリマー鎖が酸の作用により切断可能な官能基を含む連結基で結合されており、且つ吸光性基を有する繰り返し構造単位を少なくとも１種含有する架橋ポリマーからなる。この下層膜用重合体において、酸の作用により切断可能な官能基はアセタール構造を有しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像等に用いられる現像液に対して十分な耐性を有し、レジスト除去時の酸素アッシングに対して十分なマスク性（エッチング耐性）を有するシリコン含有膜を形成できる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、式（１）の化合物（ａ１）３０〜８０質量部、式（２）の化合物（ａ２）５〜６０質量部、並びに、式（３）の化合物（ａ３）及び式（４）の化合物（ａ４）のうちの少なくとも一方５〜５０質量部〔但し、化合物（ａ１）〜（ａ４）の合計を１００質量部とする。〕に由来するポリシロキサンと、溶媒と、を含有する。
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【課題】ピクセルサイズが微細になっても、現像残膜、残渣がない良好なパターン形状の形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）有機溶剤可溶性染料と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、下記一般式（１）で表される構造を側鎖に有する（Ｄ）アミノ基含有アルカリ可溶性樹脂と、（Ｅ）有機溶剤と、を少なくとも含む染料含有ネガ型硬化性組成物。


（一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は互いに独立して、水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ_１とＲ_２は互いに連結して環構造を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】ベーク条件の変動による性能変動の小さいポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）１２０℃で１５分間保持した際の揮発量が１０％以下である、含窒素塩基性基又は４級アンモニウム基を有する化合物、および、（Ｄ）有機溶剤を含有する組成物であって、該組成物中の全固形分の濃度が、１.０〜４.５質量％であり、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の総量が、該組成物中の全固形分に対して少なくとも１０質量％であることを特徴とする電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物。及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光によるパターニングにおいて、ラインエッジラフネス低減とともに、高感度、高解像度、パターン形状が良好であるポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有するスルホニウム塩化合物を、ポジ型レジスト組成物中の全固形分に対し、２１質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの形状悪化、解像性の低下、現像時のレジスト残渣の発生を抑えつつ、耐クラック性を高めたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るポジ型レジスト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び（Ｃ）感光剤を含有し、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂が下記一般式（Ｂ−１）で表される（ｂ１）構成単位を有することを特徴とする。


［一般式（１）中、Ｒ^１ｂは水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２ｂは置換基を有していてもよい炭素数５以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、式（１）の基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、又はＲ¹とＲ²は互いに結合してメチレン基、エチレン基又は−Ｏ−を形成する。Ｒ³は単結合又はメチレン基、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、又は酸不安定基、ｍは１〜４の整数） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ラクトン環とフェノール性水酸基を同一分子内に有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、低温（２５０℃以下）で硬化可能であって高濃度にもかかわらず、低粘度であるポリイミド前駆体組成物、それから得られる良好な物性を有するポリイミド塗膜、さらに前記ポリイミド前駆体組成物を用いた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、分子内に少なくとも２つのイミド結合を含有し、重量平均分子量が１０００以上１５０００以下であり、酸価が５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである酸末端化合物及び鎖延長剤とを含むポリイミド前駆体組成物により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの製造において、ＯＤＦ方式においても気泡を除去し易く、また外部からの衝撃によっても液晶表示装置の表示不良が生じ難いフォトスペーサーを形成し得る感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有するカラー表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）ジシクロ環もしくはトリシクロ環を有するモノマー（ａ１）３〜７０質量％、水酸基を有するモノマー（ａ２）５〜５０質量％及びマレイミド基を有するモノマー（ａ３）５〜５０質量％を含有するモノマー成分を重合して得られる重合体（ａ）に対して、エチレン性不飽和基含有イソシアネート（ｂ）を１〜３０質量％付加した、重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜２００，０００の樹脂、
（Ｂ）ウレタン結合を有する多官能光重合性化合物、
（Ｃ）光重合開始剤及び
（Ｄ）有機溶剤
を含有し、成分（Ａ）〜（Ｃ）の合計量に対する成分（Ｂ）の含有量が４０〜６０質量％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた熱分解性及び感光性を有し、充分な膜厚を有する被膜を形成することが可能な焼結性レジスト組成物を提供する。また、該焼結性レジスト組成物を用いたマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体の製造に用いられる焼結性レジスト組成物であって、（メタ）アクリル樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤を含有し、上記（メタ）アクリル樹脂の含有量が２０〜５０重量％であり、上記（メタ）アクリル樹脂は、分岐構造を有する（メタ）アクリレートに由来するセグメントを４０〜９０重量％、及び、両末端が（メタ）アクリレートで変性されたポリオキシアルキレンエーテルオリゴマーに由来するセグメントを４〜２０重量％含有する焼結性レジスト組成物。 （もっと読む）