【解決手段】フォトレジスト組成物に添加する高分子化合物の合成を行う際、重合反応により得られた重合反応生成物混合物を良溶剤と貧溶剤を用いる分液法によって分子量分画を行う分画工程で、分液法による分画操作を２回以上行うと共に、該２回以上の分画操作のいずれか１回以上に、他の回で行った分画操作時に添加する良溶剤とは異なる良溶剤を添加することを特徴とするフォトレジスト組成物用高分子化合物の合成方法。
【効果】本発明によれば、重合反応で得られた高分子化合物の分散度を下げるための分子量分画操作において、過大な高分子化合物のロスを伴うことなく目的を達成することができると共に、それにより得た高分子化合物は、レジスト組成物材料として用いた場合、パターン形成時に、良好な形状のレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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【課題】第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用い、第二のレジスト組成物としてネガ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにおいて、ネガ型レジスト組成物を塗布した際の影響の少ないレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に第一のレジスト膜を形成し、露光、現像して第一のレジストパターンを形成し、該レジストパターン上にネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、露光、現像するレジストパターン形成方法において第一のレジスト膜を形成するために用いられ、酸解離性溶解抑制基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環式基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを有する樹脂成分（Ａ）および酸発生剤成分（Ｂ）を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画像再現性に優れ、印刷適性に優れる平版印刷版材料およびそれを与える、平版印刷版材料の製造方法を提供することにあり、さらに画像再現性に優れ、印刷適性に優れる機上現像可能なＣＴＰ用平版印刷版材料およびそれを与える、平版印刷版材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、親水性層用塗布液を塗布して塗設された親水性層を有し該親水性層上に画像形成層を有する平版印刷版材料の製造方法であって、該親水性層用塗布液が、コロイダルシリカおよび珪酸塩を含有し、コロイダルシリカを含有する親水性層用調製液に珪酸塩の添加を行い得られた親水性層用塗布液であり、かつコロイダルシリカと珪酸塩とを含有する親水性層用調製液に攪拌操作を施した親水性層用塗布液であることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、溶媒として、特定の、スルホン構造を有する化合物を用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＢＧＲの画素とブラックマトリックスとの間に隙間や段差のない、かつエッジ形状の良好なカラーフィルターを形成するための材料及び方法並びにカラーフィルターを提供する。
【解決手段】受像シート上にブラック（Ｋ）の感光性樹脂層を有する湿式現像転写シートを重ね合わせて該感光性樹脂層を転写した後、受像シートの表面上及び／又は裏面上からマスクを介して放射線照射し、次いで湿式現像してブラックマトリックスを形成し、その後、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）またはブルー（Ｂ）の画像形成層を有する３種のレーザー熱転写シートを受像シートと重ねあわせ熱転写シート側からレーザー光を像様に照射して受像シート上のブラックマトリックスの間またはブラックマトリックスの間及びブラックマトリックスの周端部にＲ、Ｇ及びＢからなる画像を形成するカラーフィルターの形成方法。 （もっと読む）

【課題】酸性から中性領域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する
【解決手段】支持体上に、バインダーポリマーを含有する画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光により露光部の画像記録層を硬化させた後、ｐＨ２．０〜８．０の処理液にて現像を行う平版印刷版の製版方法であって、前記バインダーポリマーが少なくともアミノ基および／またはアンモニウム基を有する構造であって、かつ、前記現像処理液は、窒素原子含有の界面活性剤を少なくとも１種以上含む平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および／またはケイ素原子を含有し、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を含有する樹脂、並びに（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する特定構造の基。 （もっと読む）

【解決手段】一般式(１)で表される共重合による繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むネガ型レジスト材料。


(Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２、ｍ＋ｎ＝４。Ｒ²は水素原子又はメチル基、Ｒ³は水素原子、フッ素原子、又はアルキル基又はフッ素化アルキル基、ｐ、ｑは１〜３の整数、ｐ＋ｔ＝５、ｑ＋ｕ＝７、０＜(ａ−１)＜１．０、０≦(ｂ−１)＜１．０、０≦(ｂ−２)＜１．０、０＜(ｂ−１)＋(ｂ−２)＜１．０。)
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度、高解像性で、パターン形状が良好で、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ法に用いる液浸露光用の液体によるレジスト膜への影響を防止するバリア膜の現像時の溶解性を向上して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の上に、アルカリ溶液により分子構造が変化してアルカリ不溶からアルカリ可溶となる化合物を含むバリア膜１０３を形成する。その後、バリア膜１０３の上に液浸用の液体１０５を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光１０７を選択的に照射してパターン露光を行う。パターン露光の後、バリア膜１０３を除去し、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、該レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを得る。 （もっと読む）

【課題】高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物であって、上記（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、ヒドロキシフェニルメタクリレート不飽和化合物とその他の共重合可能な不飽和化合物との共重合体からなるカラーフィルタ用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、耐現像性に優れた強固な被膜を形成し、赤外線露光により速やかに耐現像性が解除され、赤外線露光におけるアブレーションの発生が抑制された赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）（ａ）一般式（１）で表されるモノマーと、（ｂ）メチル（メタ）アクリレート類から選択されるモノマーと、（ｃ）（メタ）アクリル酸、及び、ビニル安息香酸から選択されるモノマーと、（ｄ）Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等から選択されるモノマーと、を共重合成分として含むポリマー、及び（Ｂ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層を有する。一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、アルキレン基を表す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基を表す。
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【課題】高い分岐度を維持したまま目的とする分子量を有するハイパーブランチポリマーを安定的に得ること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、下記（１）または（２）の少なくとも一方をおこなうようにした。
（１）Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される化合物の少なくとも一種類を添加する。
ただし、上記化合物中、Ｒ₁は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基、Ａはシアノ基、水酸基またはニトロ基、Ｒ₂およびＲ₃は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、Ｂはカルボニル基またはスルホニル基をあらわす。
（２）反応系に対するモノマーの１回当たりの混合量を、当該反応系に混合するモノマーの全量未満とする。 （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、重合溶媒として、窒素原子を有する溶媒を単独で又は混合して用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物に用いられる樹脂。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される基を有する繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物に用いられる樹脂。
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【課題】半導体リソグラフィーにおいて使用されるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等の薄膜形成に用いられる、半導体リソグラフィー用共重合体であって、薄膜形成用組成物溶液への溶解性に優れ、マイクロゲル等の微粒子が発生しにくく、パターン欠陥が発生しにくい半導体リソグラフィー用共重合体と、該共重合体を工業的なスケールで安定して製造する方法の提供。【解決手段】水酸基を有する繰り返し単位（Ａ）、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）及び環状エーテル構造を有する繰り返し単位（Ｄ）から選ばれる少なくとも１種以上の繰り返し単位を含む共重合体であって、該共重合体を含む、粘度が１５ｍＰａ・ｓｅｃのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を、圧力差０．１ＭＰａで細孔径０．０３μｍのフィルターに６０分間通液したときのフィルター面積当たりの平均流速が２００ｇ／ｍｉｎ／ｍ²以上であることを特徴とする半導体リソグラフィー用共重合体及びその製造法。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセスにおけるレジストパターンの解像性を向上させる。
【解決手段】基板１０１の上に、架橋性基を有するシクロオレフィンを重合してなるポリマーと熱により酸を発生する熱酸発生剤とを含むパターン形成用材料からなる下層膜１０２を形成して加熱する。次に、下層膜１０２の上にシリコンを含む中層膜１０３を形成し、その上にレジストからなる上層膜１０４を形成する。続いて、上層膜１０４に対して、露光光１０６をにより露光を行ない、露光が行なわれた上層膜１０４を現像することにより、上層膜１０４から第１パターン１０４ａを形成する。その後、第１パターン１０４ａをマスクとして中層膜１０３をエッチングすることにより、中層膜１０３から第２パターン１０３ａを形成し、さらに、第１パターン１０４ａと第２パターン１０３ａをマスクとして下層膜１０２から、形状に優れた第３パターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】明室で取り扱うことができ、現像や拭き取り操作が不要で、感度、解像度および種々の印刷特性に優れたＣＴＰ用の版に用いられる印刷用原版、およびそれを用いた印刷版、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】基板に、親水性ポリマー、架橋剤および光吸収剤、または、親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤および疎水性ポリマーを含有する架橋樹脂からなる感光層を設ける。光の照射により感光層の撥インク性が親インク性に変化する。 （もっと読む）

【課題】表面の疎水性が高く、リソグラフィー特性も良好なレジスト膜を形成できる液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびフッ素原子を含有しかつ酸解離性基を有さない樹脂成分（Ｃ）を含有し、前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ１）を含有し、前記樹脂成分（Ｃ）が、非主鎖環状型の樹脂（Ｃ１）と、主鎖環状型の樹脂（Ｃ２）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物；係るレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）