【課題】液浸露光工程を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ホトレジスト膜上に積層される保護膜であって、ホトレジスト膜からのアウトガスによる露光装置の汚染を抑止可能で、環境に与える影響が小さく、高い撥水性を有し、かつホトレジスト膜とのミキシングが生じにくく高解像のホトレジストパターンを形成することが可能な保護膜形成用材料、ホトレジストパターンの形成方法、及び保護膜洗浄除去液を提供する。
【解決手段】保護膜形成用材料として、（ａ）非極性ポリマー、及び（ｂ）非極性溶剤を含有する保護膜形成用材料。また、この保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法、及びこのホトレジストパターンの形成方法に用いられる保護膜洗浄除去液。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度性を有し、現像後のレジストパターンの基板（たとえばマスクブランクス）上面内サイズ均一性が良好であり、さらに高いエッチング耐性を有する高分子化合物、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）および（２）で示される繰り返し単位を有し、質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることを特徴とする高分子化合物。
【化２８】
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【課題】現像後の表面接触角を低く抑えることができると共に、液浸露光時の水の浸透が抑えられるレジスト材料の提供。
【解決手段】下記一般式（１ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）又は（２ａ）、（２ｂ）、及び（２ｃ）で表される繰り返し単位の組み合わせの高分子化合物を含むレジスト材料。


（Ｒ^1a、Ｒ^1b、及びＲ^1cはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aはＨ、−Ｒ³−ＣＯ₂Ｈ又は−Ｒ³−ＯＨ。Ｒ^2cはフッ素化アルキル基。Ｒ³はフッ素を含んでもよい２価の有機基。Ｒ⁴はメチレン基又は酸素原子。Ｒ⁵はＨ又は−ＣＯ₂Ｒ⁷。Ｒ⁶はＨ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ⁷はＨ又はアルキル基。Ｒ^8a、Ｒ^8bは単結合又はアルキレン基。Ｒ⁹はフッ素化アルキル基。） （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、レジストパターンのプロファイルの劣化とラインエッジラフネス性能劣化が少ない感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｃ）を含有することを特徴とする感光性組成物。一般式（Ｉ）中、Ｒは、複数ある場合は各々独立して水素原子又は１価の有機基を表す。Ａは、複数ある場合は各々独立して酸によって切断される結合を有する２価の連結基を表す。Ｘは、複数ある場合は各々独立して脂環炭化水素構造を有する１価の有機基を表す。ｎは、０〜２の整数を表す。
（Ｒ）_n−Ｎ−（Ａ−Ｘ）_3-n （Ｉ） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、現像欠陥が低減され、焦点位置の変動による線幅の変動が小さい感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフ工程に使用できる現像特性を有した上、密着性、耐熱性、透明性にも優れた硬化塗膜を形成しうる感光性樹脂組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】ポリマー成分（Ａ）と光重合性モノマー（Ｂ）とを含有してなる感光性樹脂組成物であって、ポリマー成分（Ａ）が、下記化学式（１）で示される化合物（ａ−１）を必須とする単量体成分を含有してなる重合体である感光性樹脂組成物である。


（式（１）中のＸ及びＹはそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖又は分岐していてもよい炭素数１〜４の炭化水素基を示し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基又はカルボキシル基であって、Ｒ１及びＲ２を結ぶ環状構造をとっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とカバーフィルムを均一に、かつ適度な接着力で貼り合わせることにより、膜厚が均一であり画像の欠けが防止された感光性樹脂転写材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、感光性樹脂層、中間層およびカバーフィルムをこの順に有する感光性樹脂転写材料の製造方法。支持体上に、着色剤、結合剤および感光性樹脂を含む感光性樹脂層形成用塗布液を塗布する感光性樹脂層塗布工程と、カバーフィルム上に熱可塑性樹脂を含む中間層形成用塗布液を塗布する中間層塗布工程と、前記支持体の感光性樹脂層形成用塗布液が塗布された面と、前記カバーフィルムの中間層形成用塗布液が塗布された面とを貼り合わせて感光性樹脂転写材料を得る貼り合わせ工程とを含み、前記中間層塗布工程と貼り合わせ工程との間に、前記中間層形成用塗布液が塗布されたカバーフィルムを加熱する加熱工程を更に含む。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性と耐傷性とが両立して優れ、更に耐刷性に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、フェノール性水酸基を有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含有する下層と、（Ａ）スチレンと（Ｂ）アルキレンオキサイド基を有する重合性モノマーとを共重合性成分として少なくとも有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に設けたことを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び／又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 （もっと読む）

【課題】高感度で、且つ低ｐＨでの現像処理によっても、非画像部に汚れの生じない感光性平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、分光増感剤、重合開始剤、共開始剤、重合性モノマー、及び高分子結合材を含有する感光層を有し、更にその上にポリビニルアルコールを含有する酸素遮断層を有する感光性平版印刷版材料であって、該感光層が、重合開始剤としてヘキサアリールビスイミダゾール化合物を含有し、共開始剤として特定構造のメルカプト化合物を含有し、かつ、平版印刷版の作製の際、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内に発光波長を持つレーザー光源により画像情報を露光・記録した後の未露光部が、水溶性樹脂及び界面活性剤を含有し温度２５℃でのｐＨが３．０〜９．０である水溶液により除去され得ることを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）〜（４）のいずれかで示される構造上β−脱離による酸分解を起こさない重合性酸不安定エステル化合物。


（Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基、Ｒ¹は水素原子又は−Ｃ−（Ｒ⁵）₃、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、Ｒ⁴は水素原子又はアルキル基、Ｒ⁵は一価炭化水素基、Ｘはアルキレン基、Ｙはメチレン、エチレン又はイソプロピリデン基、Ｚはアルキレン基、両端で結合する３炭素鎖と共に４〜７員環を形成する。ｎ＝１又は２、Ｒ¹〜Ｒ⁵、Ｘ、Ｙ及びＺは炭素原子及び水素原子以外のヘテロ原子を含まない。）
【効果】本発明の重合体を含有するレジスト材料は、高感度で高解像性を有し、特に超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】高い顔料分散性、分散安定性を有する顔料分散組成物、それを用いた、高い顔料分散性と分散安定性を有し、塗布性に優れ、露光により硬化して、優れた現像性を有し、光透過性とコントラストに優れ、且つ、耐熱性が良好な着色被膜を形成しうる高コントラストを得られるカラーフィルタ形成に好適な光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】有機溶媒中に、顔料と下記一般式（１）で表される構造単位を有する高分子化合物からなる顔料分散剤とを含む顔料分散組成物であり、顔料分散剤がグラフト重合体であることが好ましい。この顔料分散組成物はカラーフィルタ形成用に有用である。なお、下記一般式（１）において、Ｒ^１は水素またはメチル基、Ｒ^２はアルキレン基、Ｚは含窒素複素環構造を表す。
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【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸塩。


（Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α，β位のみフッ素で置換されているため強い酸性度を示し、ヒドロキシル基を有するため水素結合等により酸拡散長を適度に抑制できる。また、酸ハロゲン化物、酸無水物、ハロゲン化アルキルと反応させることにより様々な置換基の導入が容易であり、分子設計の幅が大きい合成中間体として有用である。更に、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での各種工程に問題なく使用でき、低分子量かつ親水性基を有しているため体内への蓄積性は低く、燃焼廃棄時の燃焼性も高い。 （もっと読む）

【課題】
別途保護層を設けなくても、ホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔を提供する。
【解決手段】
基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けてなるホログラム転写箔１０において、前記離型層１３がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とし、また、電離放射線硬化性樹脂が特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、また、ホログラム層１５が電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることも特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成した時でも、矩形の良好なレジストパターンをより確実に得られるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、カルボキシル基、αトリフルオロメチルアルコール基のうち１つ以上を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と、アミン化合物を含有するものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 （もっと読む）

【課題】解像性、焦点余裕度に優れ、ＰＥＤが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性を有する光酸発生剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤。
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【課題】感度、解像度、現像時の密着性及び耐熱性に優れ、良好な形状と特性のパターンを得ることが出来、硬化時の体積収縮が少ないため寸法安定性が高く、さらには低温プロセスで硬化できることによりデバイスへのダメージが避けられ、信頼性の高い電子部品を歩留まり良く製造できるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】脂環構造と鎖状構造を同時に主鎖に有し、側鎖に酸性基を有するアリール基とイミド基を有するアルカリ水溶液可溶性のポリマー（Ａ）と、光により酸を発生する化合物（Ｂ）と、及び溶剤（Ｃ）とを含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、前記組成物を用いたパターンの製造方法及び電子部品。 （もっと読む）

【課題】取り扱い等による製版工程での傷が発生せず重大なトラブルのない、感度が高く、耐刷力の高く、印刷性能の良好な平版印刷版原版、且つ画像情報に基づきレーザー露光し、現像処理を施さずに印刷することを特徴とする印刷方法、を提供する。
【解決手段】支持体上に親水性層、画像形成層を順次設けてなる平版印刷版原版において、画像形成層に平均粒子直径の異なる２種以上の熱溶融性粒子を有し、平均粒子直径の最も大きい熱溶融性粒子の平均粒子直径をＡ（μｍ）、平均粒子直径の最も小さい熱溶融性粒子の平均粒子直径をＢ（μｍ）とすると４Ｂ＜Ａ≦３０Ｂであり、且つ平均粒子直径の異なる熱溶融性粒子の内で少なくとも１種は分子量が５０００以下であり、少なくとも１種は分子量が１００００以上であり、且つ画像形成層の乾燥後の膜厚をＣ（μｍ）とすると９Ｂ≦Ｃ＜５０Ｂであることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）