【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、且つ、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ１）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ２）（ａ）アルカリ可溶性基及び（ｂ）アルカリの作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基から選ばれる少なくとも１種類の基を有し、かつ、酸の作用により分解する基を有さない樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物に於いて、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュード、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法、特定構造の化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物。 （もっと読む）

（ｉ）１つ又はそれ以上のフッ素化芳香族基、及び（ｉｉ）１つ又はそれ以上のイオン性基を包含する、架橋化合物を提供し、ここにおける架橋化合物は、少なくとも１つの極性溶媒に溶解する。架橋化合物の製造方法もまた、開示されている。更に、架橋化合物の製造方法から得られるデバイスも提供する。 （もっと読む）

本発明は請求項１に示された赤外吸収染料に関する。本発明は該ＩＲ染料を含んでなる感熱性像形成要素にそしてより特に該ＩＲ染料を含んでなる感熱性平版印刷版前駆体にも関する。本発明はそれによりＩＲ−照射への露出または加熱時に高コントラストのプリント−アウト像が形成される平版印刷版の製造方法にも関する。 （もっと読む）

【化１】


感熱性像形成要素は式（Ｉ）［式中、Ｒ基の少なくとも１つはＩＲ−照射または熱への露出により誘発される化学反応により該Ｒより強い電子−供与体である基に転換される基であるか、或いはＲ基の少なくとも１つはＩＲ−照射または熱への露出により誘発される化学反応により該Ｒより強い電子−供与体である基に転換される基である］に従う構造を有するＩＲ染料を含んでなる。像形成要素はＩＲ−照射または加熱による像通りの露出後に高コントラストの可視性のプリント−アウト像を直接形成可能である。
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【課題】感度が高く、かつ高精細なパターンが形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が５.０％以下であり、かつ、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及びヘテロ縮環系化合物を少なくとも含み、該光重合開始剤が、少なくとも１種のα−アミノアルキルフェノン化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】現像液溶解速度が大きく、しかも耐ドライエッチング性にも優れた性能を発揮するレジスト組成物、およびそれに用いる含フッ素トリシクロノネン重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）：
−（Ｔ）−（Ｎ）−（Ａ）− （Ｉ）
（式中、ＴはＯＨ基および／または酸で解離してＯＨ基に変化する酸解離性官能基含有含フッ素トリシクロノネン誘導体（ｔ）由来の構造単位；Ｎはノルボルネン誘導体から選ばれる少なくとも１種の単量体（ｎ）由来の構造単位；Ａは前記単量体（ｔ）および／または単量体（ｎ）と共重合可能な他の単量体（ａ）由来の構造単位）で表されるポリマーであって、構造単位Ｔが５５〜１００モル％、構造単位Ｎが０〜４５モル％、構造単位Ａが０〜２０モル％であって、Ｔ＋Ｎが８０〜１００モル％であり、かつＴ／Ｎのモル比が５５／４５〜１００／０である含フッ素トリシクロノネン重合体。 （もっと読む）

【課題】 高感度での露光部の可溶性向上を維持しながら、現像ラチチュードが広く、且つ、アブレーションの発生が抑制された赤外線レーザ用ポジ型の感光性組成物、及び、それを記録層として用いた、現像ラチチュードが広く、且つ、アブレーションの発生が抑制された赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】 （Ａ）側鎖にスルホニウム基を有するポリマー、（Ｂ）赤外線吸収剤、及び、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物であり、この感光性組成物はポジ型平版印刷版原版の記録層として有用である。 （もっと読む）

【課題】真空紫外領域、特にＦ２レーザー（１５７ｎｍ）光において透明で、かつアルカリ現像液に対する溶解性に優れたフォトレジスト用含フッ素重合体の製造方法および該フッ素重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】主鎖に脂肪族環構造を有する含フッ素重合体であって、重合体中に酸で反応する酸反応性基または酸反応性基に変換可能な基を有するレジスト用含フッ素重合体を製造する際、主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を含む単量体混合物、ラジカル重合開始剤とともに、一般式 Ｒ−（Ｘ）_n（Ｒは炭素数１〜２０のエーテル結合を含んでいても良い炭化水素基で水素原子の一部がフッ素原子で置換されていても良い；Ｘは酸素原子含有の官能基または置換または非置換アミノ基；ｎは１〜４の整数）で示される連鎖移動剤を共存させることを特徴とする現像液への溶解性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないようにすることができるイマージョンリソグラフィー用ポリマー、及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される反復単位を含むイマージョンリソグラフィー用ポリマーを含むフォトレジスト組成物により形成されたフォトレジスト膜は、水溶性イマージョンリソグラフィー用液体に長時間接触させても光酸発生剤がイマージョンリソグラフィー用液体に溶解されないため露光レンズの汚染を防止する。


（Ｘ_１はアルキレン、硫黄又は酸素、Ａは光酸発生基） （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲であることを特徴とする高分子化合物。
【化１】


（式中、Ｒ¹はフッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のフッ素化アルキル基を示す。Ｒ²は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基を示す。Ｒ³は酸不安定基を示す。）
【効果】 本発明の高分子化合物を用いたレジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性、小さいラインエッジラフネス、優れたエッチング耐性、特に、エッチング後の表面ラフネスが小さい特性を有している。また、投影レンズとウエハー間に液体を挿入して露光を行うＡｒＦ液浸リソグラフィーでも同様の高い性能を発揮できる。 （もっと読む）

本発明は、平版印刷用基材と、当該基材上に配置された画像形成可能な層とを含む画像形成可能な要素を提供する。画像形成可能な層は、ラジカル重合性成分と、開始剤系と、高分子バインダーとを含む。画像形成可能な要素はさらにテトラアリールホウ酸塩を含む。テトラアリールホウ酸塩の存在は、改善された画像形成速度を提供することができ、そして、画像形成可能な層と基材との間のより良好な付着力に基づいて印刷寿命を長くすることができる。テトラアリールホウ酸塩は、画像形成可能な層、中間層、又は基材と画像形成可能な層との間の別個の層中に存在してよい。画像形成可能な要素を、画像形成し、そして別個の現像工程なしに印刷機に取り付けることができる。 （もっと読む）

【課題】 ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、露光マージンが広く、疎密依存性が小さい優れた感光性組成物を提供する。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射によりスルホン酸基を複数有する特定の酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

本発明は、再使用可能なフィルムを用いて、レリーフ画像を有する物品を形成する方法に関する。先ず、画像形成されたフィルムを形成するために、少なくともマスク基体と画像形成性材料とを含む画像形成性フィルムを画像形成用輻射線に像様露光させる。該画像形成されたフィルムをその後、フレキソグラフィ印刷版先駆体のような画像形成性物品に転写する。得られた集成体を、硬化輻射線に露光させ、画像形成性物品上で感光性材料の露光された領域と露光されなかった領域とを生成させる。硬化輻射線に露光させた後、画像形成されたフィルムを画像形成性物品から除去する。そして、画像形成性物品を、好適な現像剤で現像してレリーフ画像を形成させる。その後、画像形成されたフィルムを再使用して、さらにレリーフ画像を有する物品を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターン倒れおよびドライエッチング耐性が改善された液浸露光露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）主鎖が脂環式炭化水素によって構成され、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、ラクトン骨格、繰り返し単位が２〜１０のオキシエチレン骨格、および繰り返し単位が２〜１０のオキシプロピレン骨格の郡から選ばれる少なくとも１つの骨格を含有する不飽和化合物
（ａ３）（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、ならびに
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有するを特徴とする、垂直配向型液晶表示素子用の突起および／またはスペーサーを形成するための感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形状が良好で、保存安定性も向上し、高い解像性、良好なパターン形状、保存安定性が得られる化学増幅型レジスト材料の提供。
【解決手段】酸分解性基をもつ、（メタ）アクリル酸、ビシクロヘプテンカルボン酸、又は、ビシクロヘプテンジカルボン酸のエステルを原料とし、分子量分布が狭く、低分子量成分を除去した重合体を化学増幅レジスト材料に用いる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ電子デバイス製造のための液浸リソグラフィに有用なポリマー、ポリマーの製造方法及びポリマーから成る組成物を提供すること。
【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ノルボルネン系ポリマーの製造方法、ノルボルネン系ポリマーを使用する組成物を提供する。また、ノルボルネン系ポリマー組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスに関する。液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】 レジスト画像形成のために用いた場合において、感度、解像性、密着性及び現像性に優れると共に、レジスト加工後のレジスト画像の剥離、除去が容易である光重合性組成物であって、特に、青紫レーザー光、紫外光による直接描画に用いるに好適な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】 下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分を含有してなることを特徴とする光重合性組成物。
（Ａ）脂環式不飽和炭化水素類に由来する構成繰返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂
（Ｂ）エチレン性不飽和化合物
（Ｃ）光重合開始剤 （もっと読む）

【課題】 露光感度が高く、表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、（Ｅ）少なくとも１種の連鎖移動可能な置換基を２以上有する化合物と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。 （もっと読む）