【課題】微小網点の現像ラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】塗布性および形成されるパターン形状を改良することができる感光性樹脂組成物と、それを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、感光剤、および混合溶媒を含んでなり、前記混合溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと２０℃における蒸気圧が１５０Ｐａ以下の共溶媒とを含んでなるものであることを特徴とする感光性樹脂組成物と、それを用いてスリットコーティング法により塗布することを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に、リソグラフィー特性を損なうことなく被覆膜を形成できるレジスト被覆膜形成用材料、および該レジスト被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト被覆膜形成用材料であって、
前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ）を有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤およびアルコール系溶剤からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤（Ｓ１）を含有することを特徴とするレジスト被覆膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性、現像残渣の改善、顔料分散性、耐熱性のバランスのとれた感光性樹脂を提供する。
【解決手段】長鎖のモノ（メタ）アクリレート（ａ）５〜３０モル％と、ロジン（メタ）アクリレート（ｂ）５〜３０モル％と、エポキシ基を含有するラジカル重合性化合物（ｃ）３０〜８０モル％と、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）と共重合し得る他のラジカル重合性化合物（ｄ）１０〜６０モル％とをその合計が１００モル％となる量で共重合させ、得られた共重合体に含まれるエポキシ基の５〜１００％に不飽和一塩基酸（ｅ）を付加させ、前記（ｅ）成分を付加させたときに生成した水酸基の５〜１００％に多塩基酸無水物（ｆ）を付加させて得られる感光性樹脂。 （もっと読む）

【課題】 窒素原子を含まない溶剤に対する適度な溶解性を有するポリベンゾオキサゾール前駆体を使用し、現像時にスカム（現像後の樹脂残り）が発生し難いポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 ビスアミノフェノールとして、３，３−ジアミノ−４，４−ジヒドロキシジフェニルエーテルを、ジカルボン酸として、イソフタル酸、またはイソフタル酸と４，４−ジカルボキシジフェニルエーテルとを、重合して得られるポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ）と、感光剤（Ｂ）とを含むポジ型感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】着色剤の含有濃度が高くても、硬化領域における基板密着性と未硬化領域の良好なアルカリ現像性が維持され、高解像度の着色パターンを形成しうる光硬化性組成物、該光硬化性組成物を用いた光学濃度が高く鮮鋭なブラックマトリクスおよび高コントラストで高色純度の着色画素を有する、高画質のカラーフィルタ及びその生産性の高い製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料と枝部にアニオン性官能基を有する高分子分散剤と溶剤とを含む顔料分散液、（Ｂ）光重合化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）分子内にアルキレンオキサイド鎖を有する化合物を含有する光硬化性組成物。該光硬化性組成物はカラーフィルタの着色パターン形成に有用である。 （もっと読む）

【課題】リーク電流が小さくフォトリソグラフィーによりキャパシタ用の層間絶縁膜を容易にパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分散液と樹脂溶液とが混合された感光性樹脂組成物であって、分散液が（ａ）平均粒子径が０．０６μｍ以上０．４μｍ以下であるペロブスカイト型結晶構造あるいは複合ペロブスカイト型結晶構造を有する高誘電率無機粒子、（ｂ）リン酸化合物、（ｃ）有機溶剤を混合し、分散メディアとして金属、セラミックス、ガラスのいずれかの種類から選択される平均粒子径０．０２ｍｍ以上０．１ｍｍ以下のビーズを用いて、前記無機粒子を分散させて得られるものであり、樹脂溶液が（ｄ）ポリイミドと（ｅ）不飽和結合含有重合性化合物を有している感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ホトレジスト膜上に積層される保護膜であって、ホトレジスト膜からのアウトガスによる露光装置の汚染を抑止可能で、環境に与える影響が小さく、高い撥水性を有し、かつホトレジスト膜とのミキシングが生じにくく高解像のホトレジストパターンを形成することが可能な保護膜形成用材料、ホトレジストパターンの形成方法、及び保護膜洗浄除去液を提供する。
【解決手段】保護膜形成用材料として、（ａ）非極性ポリマー、及び（ｂ）非極性溶剤を含有する保護膜形成用材料。また、この保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法、及びこのホトレジストパターンの形成方法に用いられる保護膜洗浄除去液。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの上に保護膜を用いて保護膜と投影レンズの間に水を挿入する液浸リソグラフィー工程において、（１）保護膜層とフォトレジスト膜層とのインターミキシングを防止し、及び、（２）現像後のレジスト表面をより親水性化させることによって欠陥の発生を防止する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、一般式（１ａ）で示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
ＲＣ（＝Ｏ）Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
（Ｒは水酸基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はヘテロアリールオキシ基。Ｒ¹は酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を持つ置換基を有してもよい二価有機基で、Ｒと共に環状構造を形成してもよい。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布性が良好で、かつ他の有機層とのインターミキシングを防止できる非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分（Ａ）が、乳酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネートおよびγ−ブチロラクトンから選択される少なくとも１種の有機溶剤に溶解してなる非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。前記ベース樹脂成分（Ａ）は、下記一般式（ａ−１）で表される構成単位および下記一般式（ａ−２）で表される構成単位からなる群から選択される１種以上を主成分とすることが好ましい。
［化１］
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【課題】レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】支持体１上に、第一のレジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成する工程と、前記第一のレジスト膜２を、第一のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する工程と、前記第一のレジストパターン３が形成された前記支持体１上に、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤（Ｓ”）を含有するネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成する工程と、前記第二のレジスト膜６を、第二のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像してレジストパターン３、７を形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性放射線（例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ、電子線等）に代表される遠紫外線に感応するレジストとして好適な感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィープロセスにおいて用いられる感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）下記式（１）で表される構造を含む重合体と、（Ｂ）溶剤とを含む。
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【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度性を有し、現像後のレジストパターンの基板（たとえばマスクブランクス）上面内サイズ均一性が良好であり、さらに高いエッチング耐性を有する高分子化合物、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）および（２）で示される繰り返し単位を有し、質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることを特徴とする高分子化合物。
【化２８】
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【課題】スリットノズル部分に発生した乾燥物の溶媒再溶解性が高く、かつ突沸孔の発生を抑制でき、また感度の高い着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）感放射線性ラジカル発生剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｄ）成分が下記式（１）で表される化合物を必須成分とし、（Ｅ）成分が酢酸シクロヘキシルを５〜４０重量％含有する。
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【課題】現像後の表面接触角を低く抑えることができると共に、液浸露光時の水の浸透が抑えられるレジスト材料の提供。
【解決手段】下記一般式（１ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）又は（２ａ）、（２ｂ）、及び（２ｃ）で表される繰り返し単位の組み合わせの高分子化合物を含むレジスト材料。


（Ｒ^1a、Ｒ^1b、及びＲ^1cはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aはＨ、−Ｒ³−ＣＯ₂Ｈ又は−Ｒ³−ＯＨ。Ｒ^2cはフッ素化アルキル基。Ｒ³はフッ素を含んでもよい２価の有機基。Ｒ⁴はメチレン基又は酸素原子。Ｒ⁵はＨ又は−ＣＯ₂Ｒ⁷。Ｒ⁶はＨ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ⁷はＨ又はアルキル基。Ｒ^8a、Ｒ^8bは単結合又はアルキレン基。Ｒ⁹はフッ素化アルキル基。） （もっと読む）

【課題】良好な耐熱性、現像性及び接着性を有する液晶ディスプレー用のカラーフィルター用感光性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）多官能性モノマーと、（Ｃ）光開始剤と、（Ｄ）着色剤と、（Ｅ）溶媒と、を含む感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂は式（１）：


で表されるモノマー５〜９５重量％と、少なくとも一のカルボキシ基を含有するエチレン性不飽和モノマー５〜９５重量％とを共重合させて得られる共重合体を含む。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物、さらに、ＥＵＶ光による露光下で、コントラストが良く、さらに露光時のアウトガスの問題がないポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の置換基を有するスチレン系繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のスルフォニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒再溶解性が高く、かつ突沸孔の発生を抑制でき、また感度の高い着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）感放射線性ラジカル発生剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｄ）成分が特定のカルバゾール環を含むベンゾイルオキシム系化合物を必須成分とし、（Ｅ）成分がジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを３〜８．５重量％含有する。 （もっと読む）