【課題】 良好な感度を有し、高耐熱性で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるノボラック型フェノール樹脂中の水酸基の少なくとも一部を、酸の作用により脱離可能な基で保護したフォトレジスト用樹脂、架橋材、光酸発生剤及び溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物であって、前記フェノール類がメタクレゾールを必須成分として含有するものであり、前記ノボラック型フェノール樹脂の重量平均分子量が１０００以上２００００以下であり、前記酸の作用により脱離可能な基が、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基からなる群より選ばれるものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【課題】 分散度が比較的狭い低分子量ノボラック型フェノール樹脂を添加剤として用いることにより、フォトレジストの原価を低減し、経済性を向上させることができるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記ノボラック型フェノール樹脂添加剤を添加することを特徴とするフォトレジスト組成物。
オルソクレゾールを必須成分として含有し、ＧＰＣ測定により測定される分散度が１．５〜２．５の範囲内で、かつ重量平均分子量が５００〜３０００であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂をフォトレジスト用添加剤として用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性導電ペーストの粘度変化を抑制し、長期保存においても塗布作業性が良好となる感光性導電ペーストを提供する。
【解決手段】導電性無機粉末、感光性有機成分、有機溶媒および水を含む感光性導電ペーストであって、前記感光性導電ペースト中の水含有量が０．８〜２．０質量％の範囲内であることを特徴とする感光性導電ペースト。 （もっと読む）

【課題】着色剤含有量を高めてパターンを形成する際に、露光後現像時のパターン剥離の発生及び残渣の発生とポストベーク時のパターン崩れを抑制し、ポストベーク後に矩形なパターンを得る。
【解決手段】着色剤とオキシム系開始剤と不飽和二重結合を含む第１の構成単位の群より選ばれる少なくとも１つ、及び酸基を含む第２の構成単位の群より選ばれる少なくとも１つを有し、第１の構成単位の第２の構成単位に対する比率が１．５倍以上（モル比）である樹脂とを含有する着色感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物を、シリコン系基板に塗布する際に、塗布による塗膜の均一性の低下と泡の巻き込み等の欠陥を低減することのできる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部と、感光材（Ｂ）１〜１０
０重量部と、を含む感光性樹脂組成物を、シリコン系基板（Ｃ）上に塗布する直前に、前記シリコン系基板（Ｃ）上を溶剤（Ｄ）で前処理することを特徴とする半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。
【解決手段】
本発明は、酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を３０〜９０℃において、３０分以上加熱熟成後、細孔径１μｍ以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】形状が良好であり、かつ表面平滑性が良好なパターンを与える液晶分子配向制御用突起形成用またはスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物および溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）が、（Ａ１）〜（Ａ４）の共重合体、または（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ４）の共重合体１に（Ａ３）を（Ａ４）由来のエポキシ基の部位で反応させ、さらに（Ａ５）を（Ａ４）と（Ａ３）の反応由来の水酸基の部位で反応させた共重合体のうち少なくとも一種を含有する。
（Ａ１）；トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格の１種以上と、不飽和結合とを有する化合物
（Ａ２）；（Ａ１）および（Ａ４）と共重合可能な不飽和結合含有化合物
（Ａ３）；不飽和結合含有カルボン酸
（Ａ４）；不飽和結合とエポキシ基含有化合物
（Ａ５）；酸無水物 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルタ用基板上に黒色樹脂組成物よりなるブラックマトリクスを形成し、その上に着色感光性アクリル系樹脂組成物溶液を塗布し、フォトリソグラフィ工程を用いて該着色感光性樹脂組成物よりなる画素部を形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、該ブラックマトリクスの高さが高い場合に問題となる乗上げ段差を減少し、少なくとも０．５μｍ以下にする。
【解決手段】
ブラックマトリクスとしてブラックマトリクスの幅方向の垂直断面形状が該ブラックマトリクスの底面端部と最大膜厚到達点を結ぶ直線と該底面とがなす角度をθとするとき、θが４５度以下であるものを使用し、また該着色感光性アクリル系樹脂組成物溶液として、少なくともグリコールジアルキルエーテルを１質量％から３０質量％含有するものを使用する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の膜厚の均一性を向上させることができる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）、ナフトキノンジアジド基含有化合物（Ｃ）、有機溶剤（Ｄ）、および一般式（Ｅ１−０）［式中、Ｒ^ｆは炭素原子数１〜６のフッ素化アルキル基であり、Ｒ^１１は炭素原子数１〜５のアルキレン基または単結合である。］で表される基を含むアルキレンオキサイド鎖を有するフッ素系界面活性剤（Ｅ１）を含有することを特徴とする液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物。
［化１］
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【課題】支持体上に塗布した際、塗布液量を少なくすることができると共に、レジスト膜の膜厚の均一性を向上させることができるポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）、ナフトキノンジアジド基含有化合物（Ｃ）、有機溶剤（Ｄ）、および一般式（Ｅ１−０）［式中、Ｒ^ｆは炭素原子数１〜６のフッ素化アルキル基であり、Ｒ^１１は炭素原子数１〜５のアルキレン基または単結合である。］で表される基を含むアルキレンオキサイド鎖を有するフッ素系界面活性剤（Ｅ１）を含有することを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。
［化１］
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【課題】酸性分散樹脂と塩基性分散樹脂のいずれを用いた場合でも、高分散性および高分散安定性を有する顔料分散組成物、これを用いた硬化性組成物を提供することを目的とする。さらに、本発明の硬化性組成物を用いることにより、高分散性、高分散安定性および高現像性を両立できるカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）塩基性基または酸性基を有する樹脂、（Ｂ）顔料部分骨格または顔料類似骨格と、塩基性基および酸性基を同一分子内に有する顔料誘導体、（Ｃ）顔料、および、（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする顔料分散組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線による硬化性が高い着色組成物、および硬化不良に起因する色差が認められないフィルタセグメントを具備するカラーフィルタの提供。
【解決手段】エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマー、エチレン性不飽和二重結合を有する透明樹脂、色素および有機溶剤を含有する着色組成物であって、前記重合性モノマーの二重結合当量M_DCに対する前記重合性モノマーの溶解度パラメータM_SPの比M_SP／M_DCが０．１０以下であり、かつ前記透明樹脂の二重結合当量P_DCに対する前記透明樹脂の溶解度パラメータP_SPの比P_SP／P_DCが０．０１２以上であり、かつ前記重合性モノマーの重量が、前記透明樹脂の重量の３０〜１５０％である着色組成物、および基板上に、前記着色組成物を用いて形成されたフィルタセグメントを具備するカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＣの保護膜の形成等に用いられるポジ型感光性樹脂組成物であって、現像性や耐メッキ性に優れ、さらに、ＦＰＣの製造における補強板のプレス（接着）時のシワの発生や、ハンダリフロー時や手ハンダによる修正時の損傷が抑制された保護膜を形成することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】溶媒可溶耐熱性樹脂、ポジ型感光剤、熱硬化剤及び溶媒を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記熱硬化剤が、メラミン系硬化剤であり、前記溶媒可溶耐熱性樹脂が、水酸基を有するジアミンをその構成単位に含有するポリイミド又はポリアミドイミドであることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、この組成物を用いて製造される樹脂フィルム、この組成物を用いるＦＰＣの製造方法、及びこの製造方法により得られるＦＰＣ。
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【課題】高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ１）特定の脂環炭化水素構造から選ばれる部分構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する第１の樹脂、（Ａ２）酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少し、且つ酸分解性の繰り返し単位の平均含有率が、樹脂（Ａ１）の酸分解性の繰り返し単位の平均含有率とは異なる第２の樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜厚が均一でムラがなくスリットダイコーター法に好適なスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物溶液を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種と（ａ２）成分（ａ１）と異なる他の不飽和化合物との共重合体、
（Ｂ）重合性不飽和化合物、
（Ｃ）感放射線性ラジカル発生剤、ならびに
（Ｄ）下記式（１）で示される溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


〔式（１）中、Ｒ_１は炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ_２は水素原子もしくは炭素数１〜３のアルキル基である、〕 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の脂環炭化水素構造から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも２種類有し、酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ArF露光装置を用いて４０ナノメートル以下のラインアンドスペースパターンを形成する。
【解決手段】シリコン含有重合体を含む反射防止膜用組成物を利用して反射防止膜パターンを形成し、前記反射防止膜パターンの間にシリコン含有重合体を含むフォトレジスト組成物を利用してフォトレジストパターンを形成した後、これらパターンを食刻マスクにスピンオンカーボン層と下部被食刻層に対する食刻工程を行なうことにより、工程段階及び製造コストを低減することのできる二重パターニング方法を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】画素部平坦性に優れたカラーフィルタを得ることができる着色組成物、及びこれを用いて得られたカラーフィルタ、及び色むらが抑制された表示装置を提供する。
【解決手段】色材、溶剤を含有し、該溶剤が下記一般式（１）からなるジオール誘導体であることを特徴とする着色組成物。
一般式（１） Ａ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｂ
［一般式（１）中、Ｃ_ｎＨ_２ｎはｎが５以上の整数である直鎖若しくは分岐アルキレン基を表す。Ａはヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表し、Ｂは炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表す。 （もっと読む）

【課題】Ｃｕ−Ｓ異物析出を抑制し、かつ塗膜の感度に優れた着色光重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）バインダー樹脂、（Ｄ）単量体、（Ｅ）光重合開始系、及び（Ｆ）溶媒を含有する着色光重合性組成物であって、（Ａ）顔料として、遊離銅を含有する顔料を含み、（Ｅ）光重合開始系の一成分として、２−メルカプトベンゾチアゾールを含み、かつ、２−メルカプトベンゾチアゾールの濃度が、Ｃｕ−Ｓ異物の溶解度積と遊離銅濃度から規定される許容濃度以下である、着色光重合性組成物。 （もっと読む）