【課題】 本発明の課題は、感光性樹脂組成物をプリント配線板表面に塗膜として塗工した時の耐湿絶縁信頼性の高い感光性樹脂組成物を提供することにある。更には、ウレタンオリゴマーを併用することで耐屈曲性を向上させた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）減圧・加熱下でシリコン系揮発分を除去した末端テトラカルボン酸シロキサンイミドオリゴマー、（Ｂ）ジアミノ化合物、（Ｃ）感光性樹脂、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）熱硬化性樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記問題点を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】大型基板上への塗布に適しており、塗布均一度が向上する他、スジムラやモヤムラなどのムラの発生を防ぐと共に、スピンレスコートにより塗布速度が高速になり、しかも、最終品の品質を高めることのできる感光性有機物を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン樹脂の混合高分子樹脂と、感光性化合物と、有機溶媒とを有する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などに用いられるカラーフィルターの表示特性を改善しうる、有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法を提供する。特に、カラーフィルターを高コントラスト化すると共にその製造品質を高め、しかも液晶表示装置において良好な表示特性を実現しうる有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法、それにより得られる分散物、並びに、それを含有するインクジェットインク、着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、それらを用いたカラーフィルター及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】良溶媒に有機顔料を溶解した有機顔料溶液と、前記有機顔料の貧溶媒とを混合して析出させた前記有機顔料のナノ粒子を、沸点１５０℃以上の有機溶剤に分散させる有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】不灯セルや異常点灯セルを防止し、ＰＤＰ製造の良品率を向上できるペーストを提供する。
【解決手段】低軟化点ガラス粉末、溶媒、該溶媒に可溶な有機成分および該溶媒に不溶な樹脂粒子を含むことを特徴とするペースト組成物であって、該樹脂粒子の中心粒子径が該低軟化点ガラス粉末の中心粒子径より小さいことを特徴とするペースト組成物である。 （もっと読む）

【課題】画素の表面平滑性および輝度・色純度に優れた色域再現性の良いカラーフィルターの製造に使用できるカラーフィルター用感光性着色組成物を提供すること。
【解決手段】バインダーポリマー、多官能エチレン性不飽和モノマー、光重合開始剤、および着色剤を有機溶媒中に少なくとも含有してなり、上記のバインダーポリマーが、構成成分として、エポキシ基とエチレン性不飽和基を有するモノマーおよび／またはオキセタニル基とエチレン性不飽和基を有するモノマー（モノマーＡ）と、脂環式（メタ）アクリル酸エステル（モノマーＢ）とを少なくとも含むコポリマーを含有することを特徴とするカラーフィルター用の感光性着色組成物。 （もっと読む）

【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性及び現像性に優れ、高屈折率の硬化物を与える、パターン形成が容易な感光性の固体撮像素子用組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）〜（D）：（Ａ）粒子表面に存在する金属原子の総量を１００原子％としたときに、粒子表面に存在するケイ素原子の割合が２０原子％以上である粒子、（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有する固体撮像素子用組成物。 （もっと読む）

【課題】除去性に優れた半導体装置に用いられる有機平坦化材料を提供する。
【解決手段】光および／または熱処理（前処理）により、有機溶剤および／またはアルカリ水溶液に不溶となり、さらに光および／または熱処理（後処理）後、ドライエッチング処理する組成物に関し、前記後処理後のエッチングレートが、前記前処理後のエッチングレートに対し、１．２倍以上であり、該組成物が下記（ａ）および／または（ｂ）を含有することを特徴とする半導体装置用組成物。
（ａ）２３℃大気圧下で液体である有機低分子化合物に可溶性のポリマー
（ｂ）重合性基および／または架橋性基を有する低分子化合物 （もっと読む）

【課題】安全性が高く、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】欠陥の発生を抑制でき、且つ良好な形状のレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）多官能エポキシ樹脂、及び（ｂ）カチオン重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、感光性樹脂組成物中の炭酸プロピレン濃度が１０質量％以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物によれば、欠陥の発生を抑制でき、且つ良好な形状のレジストパターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジストに添加して用いることが可能で、かつパターン周辺部のギザつきや現像残渣が生じるといった現像性の低下を抑制することが可能な遮光性液晶配向制御用突起形成用顔料分散組成物を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）および（Ｂ）で表される構成単位を有し、末端は、下記Ｘで表される基であり、末端または側鎖には、高分子分散剤と、顔料と、溶剤とを含有することを特徴とする。


（構成単位（Ａ）および（Ｂ）中、ａ，ｂはそれぞれ構成単位の結合数を表し、ａ＋ｂ＝４〜４０、ａは２〜２０，ｂは２〜２０であり、Ｘは、水素原子または内部にイミノ基，カルボニル基、及びエステル基を有する特定の基。） （もっと読む）

【課題】 レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ工程の解像限界を越える微細な半導体パターンの形成。
【解決手段】ベース樹脂、ポリ［（メト）アクリル酸／３,３−ジメトキシプロペン］、光酸発生剤、有機塩基及び有機溶媒を含む感光剤組成物、及び前記感光剤組成物を利用して行なわれる二重パターニング工程により形成される半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤が、（ａ）（a1）４〜８員のＣ_2-6環状エーテル骨格を有するアルコール及び（a2）４〜７員のシクロアルカン環を有するシクロアルキルアルカノールからなるアルコール化合物群、（ｂ）（b1）４〜８員のＣ_2-6環状エーテル骨格を有するアルコールのアセテート及び（b2）４〜７員のシクロアルカン環を有するシクロアルキルアルカノールのアセテートからなるアセテート化合物群、および（ｃ）（c1）４〜８員のＣ_2-6環状エーテル骨格を有するアルコールのアルキルエーテル等からなるエーテル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤であるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物。
【解決手段】（ａ）シロキサンポリマー、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸アルキルエステルおよびその他の構造単位を有する共重合体からなる感光性シロキサン組成物であって、該共重合体は（メタ）アクリル酸の構造単位を１０〜５０モル％、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの構造単位を２５〜５０モル％、その他の構造単位を２５〜５０モル％含有することを特徴とする感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】高い濃度で顔料を含んでいても、カラーフィルタの製造における現像後の残渣が少ない、新たな着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、および、（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物において、（Ａ）顔料の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、３５〜６０質量％であり、かつ（Ｃ）光重合性化合物が式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
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【課題】高感度で十分な現像性、ガラスへの密着性を有する感光性樹脂及び感光性樹脂組成物、ならびにその硬化物（特にカラーフィルターに有用である）を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂（ａ）、エチレン性不飽和一塩基酸（ｂ）、並びにイミダゾールシラン及び／又はアミノシラン（ｃ）を反応させ得られた樹脂に、さらに多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて得られる感光性樹脂（Ａ）、さらに該感光性樹脂（Ａ）にラジカル重合性不飽和基およびエポキシ基を有する化合物（ｅ）を含む感光性樹脂（Ｂ）、ならびに感光性樹脂（Ａ）及び／又は（Ｂ）を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性感光性樹脂組成物の添加成分として、基材との高い接着特性を示すシリコン系カップリング剤を用いることで、熱硬化後、基板との高い耐水接着性を有し、析出などの問題がなく、かつ良好な硬化レリーフパターンを形成する感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、またはポリヒドロキシスチレンの誘導体である重合物１００質量部に対して、（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン１〜１００質量部、（Ｃ）有機溶剤１００〜１０００質量部、及びアルコキシシリル基含有の有機化合物である（Ｄ）接着助剤０．１〜２０質量部を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のポジ型感放射線性樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を塗布し２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）