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Fターム[2H025CC03]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 添加剤 (8,692) | 溶剤 (669)

Fターム[2H025CC03]に分類される特許

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(a)少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;(b)構造III〜Vにおいて、[R1、R2、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ独立にC1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたC1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたC1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、C5〜C7のシクロアルキル基、C1〜C4のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたC5〜C7のシクロアルキル基であり、または別に、R1およびR2もしくはR4、R5、およびR6のいずれか2つは一緒になって5〜7員環を形作ってよく;R3はそれぞれ独立にH、C1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたC1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたC1〜C4の線状もしくは分枝状のアルキル基、C5〜C7のシクロアルキル基、C1〜C4のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたC5〜C7のシクロアルキル基、置換されていないフェニル基、またはフェニル、アルキルもしくはハロゲン化物で置換されたフェニル基であり;QはHまたはDであり、ただし少なくとも1つのQはDであり;Dは上記に規定したとおりであり;aは1〜5の整数であり;bおよびcは0〜5の整数であるが、ただし(1)構造IIIについて、a=b=1であり、OQがともにR12C置換基に対してパラ位で置換されているなら、R1およびR2がともに同時にメチルであることはなく、(2)1≦a+b<6であり;構造Vについて、a=b=c=1であり、すべてのOQがトリフェニルメタン炭素置換基に対してパラ位にあるなら、少なくとも1つのR3はHでない]によって表わされる化合物から選択される少なくとも1つの感光性化合物;(c)少なくとも1つの溶媒;および(d)場合によっては接着促進剤を含むポジ型感光性組成物。本発明者は、この感光性組成物を使用してレリーフパターンを作成しまた電子部品を製造する方法をさらに提供する。
【化1】

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本発明は、深紫外線領域の放射線に感度を示す新規のフォトレジスト組成物、特に100〜300nmの範囲に感度を示すポジ型フォトレジスト、並びにそれを使用する方法に関する。このフォトレジスト組成物は、a)水性アルカリ性溶液中に不溶性でかつ少なくとも一つの酸感応性基を含むポリマーであって、更に、少なくとも一種の脂環式炭化水素単位、少なくとも一種の環状酸無水物、構造式1を有する少なくとも一種のアクリレート単位、及び構造式2を有する少なくとも一種のアクリレート単位を含む上記ポリマー;


[式中、
R’及びRは、独立してHまたは(C1-C4)アルキルであり、
1は、環状ラクトン側鎖基であり、そして
2は、非ラクトン系脂肪族炭化水素側鎖部である]
b)露光時に酸を生成することができる化合物またはこのような化合物の混合物を含む。本発明は更に、バレロラクトンを含む溶剤を感光性材料の溶剤として使用することにも関する。好ましくは、溶剤はガンマバレロラクトンである。この溶剤は、一種または二種以上の他のフォトレジスト溶剤との混合物でもよい。
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本発明は、有機溶剤としてベンジルアルコールまたはその誘導体を含んでなるレジスト組成物を提供するものである。本発明は、レジストを除去するための、ベンジルアルコールまたはその誘導体を含んでなる有機溶剤も提供する。本発明のレジスト組成物は、UV光で照射することにより、照射部分と非照射部分との間の溶解度の差を利用する、微小パターンを形成するためのリソグラフィー法に使用し、薄膜を塗布した時の被膜厚の均質性を大幅に改良する。さらに、本発明の有機溶剤は、微小回路形成工程の際に感光性材料と接触するデバイスを、デバイスから感光性材料を除去することにより、洗浄するのに使用することができる。本有機溶剤は、感光性材料が塗布されている基材の好ましくない部分上に残留する感光性材料を除去することもできる。 (もっと読む)


(a)1つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー(I):[式中、xは約10〜約1000の整数であり、yは0〜約900の整数であり、また(x+y)は約1000より小さく;Ar1は4価の芳香族基、4価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され;Ar2は珪素を含んでよい2価の芳香族基、2価の複素環式基、2価の脂環式基、2価の脂肪族基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され;Ar3は2価の芳香族基、2価の脂肪族基、2価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され;Ar4はAr1(OH)2またはAr2からなる群から選択され;Gはポリマーの末端NH基に直接結合したカルボニル基、カルボニルオキシ基またはスルホニル基を有する基からなる群から選択される有機基である];
(b)照射に際して酸を放出する1つまたはそれ以上の光活性化合物(PAG);
(c)少なくとも2つの〜N−(CH2OR)n単位を含む潜在的な架橋剤(式中、nは1または2であり、またRは線状または分枝状のC1〜C8のアルキル基であり、ただしグリコールウリルが潜在的な架橋剤として使用されるとき、ポリベンズオキサゾール前駆体ポリマーのG基は環状の酸無水物の反応から生成される);および
(d)NMPではない少なくとも1つの溶媒
を含む耐熱性のネガ型感光性組成物。
【化1】

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少なくとも1つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも1つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも1つの感光性剤および少なくとも1つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 (もっと読む)


多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ni又はPdを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】 新規なポリカーボネートポリマーならびに感光性組成物およびテープでのその使用を提供すること。
【解決手段】 本発明は、式(IV)の繰返し単位を含むポリマーを対象とする。本発明は、(a)セラミック、金属、金属酸化物または金属合金から選択される無機固体の細分割粒子、(b)ガラス転移温度が550〜825℃の範囲、表面積/重量比が10m2/g以下、粒子の少なくとも95重量%が1〜10μmである有機ビヒクル中に分散された無機結合剤の細分割粒子の混合物を含み、前記有機ビヒクルが(c)前述のポリマー、(d)光開始系、(e)有機媒体を含む感光性組成物を対象とする。有機媒体を除去すると前記組成物をテープとして利用できる。所与の組成物で、先述のポリマーを5−カルボメトキシ−5−メチル−1,3−ジオキシン−2−オンから得たポリカーボネートに置換できる。
【化11】 (もっと読む)


【課題】 感度、耐刷性および保存安定性が十分な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、i)線状高分子重合体バインダー、ii)付加重合可能なエチレン性不飽和結合とウレタン基を有する化合物及び溶剤を含有する光重合層塗布液を塗布し、感光性平版印刷版の温度が90〜140℃で10秒間以上保たれる条件で加熱乾燥することにより得られたことを特徴とし、好ましくは、該加熱乾燥後、感光性平版印刷版の温度を50℃以下に冷却したあと、引き続きその光重合層上に、水溶性の酸素遮断性物質を含有する保護層を塗布し、加熱乾燥することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】 顔料の分散性、分散安定性が高く、さらに耐光性も高く、塗膜外観の優れた膜を形成することができる感光性着色樹脂組成物、着色画像形成用感光液及び感光性エレメントとこれらを用いた光学特性の優れた着色画像の製造法及びカラーフィルターの製造法を提供する。
【解決手段】 顔料、樹脂、光重合性不飽和結合を分子内に1個以上含有するモノマー、及び光開始剤を含有する感光性着色樹脂組成物に、一般式(I)
【化1】


(Xは水素原子又はハロゲン原子であり、R1は水素原子又はアルキル基であり、R2はアルキレン基であり、R3は水素原子又はメチル基である)及び一般式(II)
【化2】


(R4は水素原子又はメチル基、R5はアルキレン基であり、Yは水素原子又はアルコキシ基であり、Zは水素原子又は水酸基である)で表される紫外線吸収性化合物を含有させる。 (もっと読む)


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