【課題】 高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、高精細なパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び重合禁止剤を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 良好な形状のレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分、（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分および（Ｃ）架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記（Ｃ）架橋剤成分はエポキシ系架橋剤（Ｃ１）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】 ディンプルの発生を抑制できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含むα−低級アルキルアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する重合体（Ａ１）と、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）を有する重合体（Ａ１’）と、単環式基含有酸解離性溶解抑制基を含むα−低級アルキルアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１”）を有する重合体（Ａ１”）との混合物であるポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】保護膜２が形成された半導体基板１上に、第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成されている。本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。その後、加熱（硬化）して、表面保護膜８を形成する。この表面保護膜８は、導体層３，７を外部からの応力、α線などから保護するものであり、得られる半導体装置は信頼性に優れる。 （もっと読む）

【課題】
従来用いられてきた樹脂組成物では、基盤との密着性が弱い為に現像液である有機アルカリ類の水溶液、特に半導体用途で一般的に使用されている２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液ではパターン剥がれが起こり、２．３８％より低濃度の専用現像液でなければ加工できないという課題があった。本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、その目的とするところは密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、（Ｂ）光酸発生剤と、（Ｃ）１３０℃以上の温度で（Ａ）の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物と、シランカップリング剤（Ｄ）と、分子中にＳを有する酸化防止剤（Ｅ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いて製作された半導体装置。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物自体の明室安定性を改善し、かつ画像残存性および耐刷性に優れた印刷版材を得ることができるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 本発明は、エチレン性不飽和化合物、アルカリ可溶性樹脂、近赤外吸収色素、ハロメチル基含有化合物、ニトロキシル化合物および有機ホウ素アニオン含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物およびそれを基板に塗布した印刷用版材に関する。 （もっと読む）

【課題】 光学基板との密着性及び膜強度に優れるフォトクロミック被膜層を有する光学部材及びそれに用いる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
（１）ラジカル重合性単量体、
（２）片末端にエポキシ基を有する有機ケイ素化合物、
（３）片末端にラジカル重合性官能基を有する有機ケイ素化合物、
（４）アミン化合物、
（５）フォトクロミック化合物、及び
（６）光重合開始剤
の成分を含み、前記（１）の片末端にエポキシ基を有する有機ケイ素化合物が、シラノール基を有する化合物、または加水分解によりシラノール基を生成する基を有する化合物であり、前記（２）片末端にラジカル重合性官能基を有する有機ケイ素化合物が、シラノール基を有する化合物、または加水分解によりシラノール基を生成する基を有する化合物である硬化性組成物、並びに、該硬化性組成物を光学基板上に塗布硬化して形成されてなるフォトクロミック被膜層を有する光学部材である。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、〔Ａ〕水酸基を有する脂環式アクリル酸エステルからなる繰り返し単位を含有する樹脂と、〔Ｂ〕感放射線性酸発生剤（１−（４−ｎ−ブトキシナフチル）テトラヒドロチオフェニウム ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート等）とを含有する。更に、〔Ｃ〕酸拡散制御剤（フェニルベンズイミダゾール等）を含有することができる。 （もっと読む）

【課題】
インキ吐出印刷方式による印刷物の製造方法において、理想的な形状の隔壁を効率的な製造工程により提供し、これにより各画素内の着色組成物が平坦な色ムラのない印刷物の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明者の検討によれば、隔壁に熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂と架橋反応する成分、塩基性化合物を用いた感光性樹脂組成物を基板に塗布し、この基板の塗布面を、隔壁と逆のパターンを露光した後、現像液で現像し、さらにこの後に全面露光を行うことによりｏ−ナフトキノンジアジド化合物から酸を発生させ、その酸を触媒としてｏ−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック樹脂が架橋反応するために層内の架橋密度が上がり、熱ダレの発生しない良好な形状の隔壁を得た。そして、このため、インキ吐出印刷で形成した各画素内の着色組成物が平坦となり、色むらのない良好な特性を有する高精細な印刷物を得ることができた。 （もっと読む）

【課題】 屈折率変調に優れ、光硬化前後で体積変化がなく、かつ重合反応性に優れた体積型ホログラム記録用感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明の体積型ホログラム記録用感光性組成物は、光重合性の体積膨張性化合物と、光重合開始剤と、を含んでなることを特徴としている。本発明の体積型ホログラム記録用感光性組成物によると、屈折率変調に優れた体積型ホログラム記録用感光性組成物であって、光硬化前後で体積変化がなく、かつ重合反応性に優れる組成物を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 残膜率が低く、高いＯＤ値を与える着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）低揮発性化合物、（Ｂ）着色剤、（Ｃ）不飽和基含有アルカリ現像性樹脂、（Ｄ）不飽和基を一つ以上有するモノマー、（Ｅ）光重合開始剤及び／又は増感剤、並びに（Ｆ）溶剤を必須成分として含有し、該（Ａ）低揮発性化合物は、熱重量減少測定において、室温から昇温速度１０℃／分の昇温条件下での５０％重量減少温度が、１５０℃以上２３０℃未満の化合物であることを特徴とする着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 解像性に優れたレジストパターンを形成できる高分子化合物、並びに該高分子化合物を含有するネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を含む高分子化合物である。


［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｒ_０はヒドロキシ基を有するアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】 良好なマスク再現性でレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ’−０）［式中、Ｒ_０は炭素数１〜１５の直鎖、分岐鎖または環状の塩素化アルキル基である。］で表されるアニオン部を有するオニウム塩（Ｂ０）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
【化１】
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【課題】 ディフェクトが少なく、かつリソグラフィー特性にも優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）、および放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、滴下重合法により製造される質量平均分子量５０００〜２００００の樹脂であり、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される分子量分布において、分子量１００〜１００００の低分子量領域のピーク面積の割合が、全体のピーク面積に対して５５〜８０％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高濃度の顔料を含んでいても低粘度で、分散安定性に優れ、特に保存安定性等が良好であり、高いコントラストが得られるカラーフィルタ用着色組成物、およびコントラストが高いカラーフィルタの提供。
【解決手段】少なくとも透明樹脂、その前駆体またはそれらの混合物からなる顔料担体と、有機顔料と、下記一般式（１）で示される化合物とを含有するカラーフィルタ用着色組成物、および該着色組成物から形成されるフィルタセグメントを具備するカラーフィルタ。
【化１】


式中、Ｘは、ＯまたはＮＨを表す。Ｒ₁〜Ｒ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン酸基、カルボキシル基、ホルミル基、置換基を有してもよい、アルキル基、アリール基、脂環基、アラルキル基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基等を表す。 （もっと読む）

【課題】 保護膜形成材料に適当な接触角および転落角をもたせることにより、液浸露光用液体のスキャン追従性能を向上させるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性（撥水性等）を備えた、特に局所液浸露光プロセスに好適に適用される保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、フルオロヒドロキシアルキル基を有する環状炭化水素を含むアルカリ可溶性ポリマーを含有する保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、パターンプロファイル、露光ラチチュードに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜厚に対する寸法変動が小さいレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、放射線吸収能を有する化合物（Ｏ）とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ｏ）成分がヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（Ｏ１−１）を含み、酸解離性溶解抑制基を有しない樹脂（Ｏ１）であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、機上現像が可能でありかつ、耐刷性に優れ、耐傷性に優れる印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】 親水性表面を有する基材上に、印刷機上現像可能な感熱画像形成層を有する印刷版材料において、該感熱画像形成層が（Ａ）架橋性化合物および（Ｂ）へリックス構造を有し、反応性基を有する化合物を含有することを特徴とする印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、カラーフィルター、またはブラックマトリクス等を形成する膜の厚みを従来のものより厚くしても、カラーフィルター製造工程の熱工程で膜表面にしわの発生を防止する感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 複数のオキセタン環を有するオキセタン化合物、光重合性化合物、光重合開始剤、及び溶剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により上記課題の解決を図る。 （もっと読む）