【課題】顔料分散性、およびアルカリ現像性に優れたカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】顔料分散剤と、顔料と、アルカリ可溶性樹脂と、多官能性モノマーと、光開始剤と、溶剤とを有するカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物であって、上記顔料分散剤が、アミノ基と、酸性リン酸エステルとが塩を形成したブロック共重合体であることを特徴とするカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を用いる。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてカルボン酸アンモニウム塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明は、パターンの矩形性とマスク忠実性の優れるレジスト材料を提供することができる。また、本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することによって、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することによってパターン形状の劣化を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】高い遮光性、塗工性、現像性、画像形成能に優れる感光性黒色組成物、および遮光性が高いブラックマトリックスを備えるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】(ａ)カーボンブラック、(ｂ)光重合開始剤、(ｃ)樹脂、(ｄ)エチレン性不飽和化合物、およびベンズインドール系色素誘導体を含有してなる感光性黒色組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であるとともに、ラインウィズスラフネス及び疎密依存性が低減され、また、特にＥＵＶ露光において、高感度とともに溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】インデノン構造を有する特定の繰り返し単位、かつ酸の作用により分解しアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像残渣がなく、パターン寸法安定性及びパターン密着性に優れ、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好なパターンを広い現像マージンで得ることができ、遮光性の高いブラックレジストが得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)光重合性不飽和基とカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)下記一般式（Ｉ）で表される光重合性モノマーを必須の成分として含む光重合性モノマー


(C)光重合開始剤、及び(D)遮光性分散顔料を含むブラックレジスト用感光性樹脂組成物であり、(B)成分１００重量部に対して一般式（Ｉ）で表される光重合性モノマーを１０〜１００重量部含有し、(A)成分と(B)成分の合計１００重量部に対して(B)成分を１５〜５０重量部含有する。 （もっと読む）

【課題】上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本上層反射防止膜形成用樹脂は、下式（１）及び下式（２）の繰り返し単位のうちの少なくとも一方を含み、且つアルカリ現像液に可溶である。
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【課題】低露光量においても基板との密着性、耐溶剤性に優れ、且つ現像残渣の生じることのない画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤、ならびに（Ｅ）オキシラニル基、オキセタニル基、エピスルフィド基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、ウレイド基およびスチリル基の群から選ばれる少なくとも１種の官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト層からの添加剤の析出、特に高温高湿雰囲気下での添加剤の析出を抑制することのでき、かつソルダーレジスト層の硬化性が向上する配線回路基板の製法を提供する。
【解決手段】基材１上に所定の導体回路２パターンを形成した後、この導体回路２パターン形成面に感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂組成物層を形成する。ついで、上記感光性樹脂組成物層面に対して所定パターンのフォトマスクを介して活性光線を照射して露光した後、現像液を用いて所定パターンのソルダーレジスト層３ａを形成する。つぎに、上記形成されたソルダーレジスト層３ａに対して低圧水銀ランプを用いて紫外線光を照射する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が低減され、プロファイルが良好であるとともに、ホールパターンでの解像力、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びウレイド結合から選ばれた結合を少なくとも２つ以上有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好な分光特性を示す色フィルタアレイを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される色素、アルカリ可溶性樹脂、感光性化合物、硬化剤、および溶剤を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
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【課題】耐刷性、保存安定性に優れる感光性平版印刷版材料並びにそれを与える支持体及びその製造方法、製造装置を提供する。
【解決手段】アルミニウム板Ａを粗面化処理１及び陽極酸化処理２した後、親水化処理工程３、乾燥工程４およびゴムローラ６に接触して搬送する工程をこの順に有する平版印刷版材料用アルミニウム支持体の製造方法であって、該乾燥工程における版面温度が９０℃以上であり、該乾燥工程の後、該ゴムローラ６に接触させて搬送する工程の前に版面温度を５０℃以下とする冷却工程５を有する。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｇ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】１回の露光のみで高解像度および高精度のＰＤＰ用隔壁パターンを製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有するＰＤＰ用隔壁を製造できる感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】有機物−無機物複合体ゾルおよび無機物を含む感光性ペースト組成物において、有機物−無機物複合体ゾルの平均屈折率Ｎ_１および無機物の平均屈折率Ｎ_２が下記数式１の関係を満たすことを特徴とする感光性ペースト組成物である。
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【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−１）等で表わされるトリアゾール化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有するレジストパターン形成方法。
【化１】


（Ｒ^１１及びＲ^１２はα，α−ジメチルベンジル基等であり、少なくとも一方はα，α−ジメチルベンジル基又はアルコキシカルボニルエチル基。Ｒ^１３は水素原子等。） （もっと読む）

【課題】高速塗布時においても、塗布欠陥がなく、膜厚のむらが少なく、得られたカラーフィルタの膜面状が良好で、高色純度でかつ高コントラストという良好な色特性とすることができる着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、該着色硬化性樹脂組成物を用いてなるカラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子を提供することにある。
【解決手段】（ａ）色材、（ｂ）溶剤、（ｃ）重合性モノマー及びバインダー樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種、（ｄ）光重合開始剤、及び（ｅ）フルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子界面活性剤を含むことを特徴とする着色硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を含む共重合体と１，２−キノンジアジド化合物との組成物、あるいはさらに他のアルカリ可溶性重合体を混合した組成物からなるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。



（式中、Ｒ^１は水素、又は任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜５のアルキルであり、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水酸基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、または-O（Si(C_lH_2l+1)_２O）_ｍ Si(C_pH_2p+1)_３であり、ｌは１〜５の整数であり、ｍは０または１〜１０の整数であり、ｎは１〜５の整数であり、ｐは１〜５の整数である） （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成
することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を基板表面に塗布して２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】水または水性の現像液による現像性に優れ、更に耐刷性にも優れた平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、光重合開始剤、重合性化合物、および主鎖末端の少なくとも一方に親水性基を有しかつ酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下のバインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。該原版を用いた平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）