フォトパターン形成性塗布材料がこれまでに用いられなかった波長で半導体素子構造体の形成に用いられことを可能とするキャップ層。該フォトパターン形成性塗布材料を半導体基板へ層として塗布する。該キャップ層及びフォトレジスト層がそれぞれ該フォトパターン形成性層上に形成される。該キャップ層は放射線を吸収または反射し、そして該フォトパターン形成性層を該フォトレジスト層のパターン化に用いられた第1波長の放射線から保護する。該フォトパターン形成性塗布材料は第2波長の放射線に露光されると二酸化ケイ素系材料へ変換される。 （もっと読む）

ポリマーの骨格に結合したジアゾキノン部分構造を含み、またすべてのアミノ末端基がアミド基へと転化されている新規な感光性ＰＢＯ前駆体ポリマー。開示されるＰＢＯ前駆体ポリマーをベースとする感光性処方物は、良好な画像形成特性および機械的特性そして優れた貯蔵安定性を有する。（スルホン）アミド末端基（結合したジアゾキノン基を有するまたは有さない）を有する感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーは、骨格上にベンジル水素を欠くジアゾキノン光活性化合物を有する感光性組成物へと処方されることができ、著しくより明るい色のフィルムを硬化後に与える組成物が得られる。 （もっと読む）

（ａ）１つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー（Ｉ）：［式中、ｘは約１０〜約１０００の整数であり、ｙは０〜約９００の整数であり、また(ｘ＋ｙ)は約１０００より小さく；Ａｒ¹は４価の芳香族基、４価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ²は珪素を含んでよい２価の芳香族基、２価の複素環式基、２価の脂環式基、２価の脂肪族基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ³は２価の芳香族基、２価の脂肪族基、２価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ⁴はＡｒ¹（ＯＨ）₂またはＡｒ²からなる群から選択され；Ｇはポリマーの末端ＮＨ基に直接結合したカルボニル基、カルボニルオキシ基またはスルホニル基を有する基からなる群から選択される有機基である］；
（ｂ）照射に際して酸を放出する１つまたはそれ以上の光活性化合物（ＰＡＧ）；
（ｃ）少なくとも２つの〜Ｎ−（ＣＨ₂ＯＲ）_n単位を含む潜在的な架橋剤（式中、ｎは１または２であり、またＲは線状または分枝状のＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基であり、ただしグリコールウリルが潜在的な架橋剤として使用されるとき、ポリベンズオキサゾール前駆体ポリマーのＧ基は環状の酸無水物の反応から生成される）；および
（ｄ）ＮＭＰではない少なくとも１つの溶媒
を含む耐熱性のネガ型感光性組成物。
【化１】

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少なくとも１つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つの感光性剤および少なくとも１つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】塩素イオンの含有量の少ない耐熱性樹脂前駆体組成物ならびに感光性耐熱性樹脂前駆体組成物の合成方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される酸無水物を合成する際に、その原料であるトリカルボン酸一無水一塩化物とヒドロキシジアミノ化合物を、ナトリウム，カリウム，亜鉛，リチウム，鉄，ニッケル，クロム，銅，マンガン，カドニウム，アンチモンの総量が１重量％以下である金属酸化物および／または金属炭酸塩を用いて脱塩酸し、その後、該酸無水物と一般式（２）で表されるジアミン化合物を反応させることを特徴とする耐熱性樹脂前駆体組成物の製造方法。




（式中、Ｒ７，Ｒ９は炭素数２から２０の３価の有機基、Ｒ８は炭素数２から２０の３価の有機基、ｑは１から４までの整数である。）




（式中、Ｒ１０は炭素数２から３０の２価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位および／または一般式（１）で表される構造単位の前駆体よりなる化合物を成分（ａ）として含み、かつ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基より選ばれる少なくとも１つの官能基を有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】




（一般式（１）において、ｎは１〜２の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４はＨ、Ｆ、ＣＦ_３、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５、Ｒ^６はＨ、または炭素数１〜１０のアルキル基のいずれか一つを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒａは置換基を示す。） （もっと読む）

【課題】 赤外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザを用いて記録することにより、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能であり、さらに特定の露光波長に対して高感度でありながら、白灯下でも取り扱うことのできるネガ型の画像記録材料を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）ラジカル発生剤と、（Ｂ）ラジカル重合性化合物と、(Ｃ）分子内に２つ以上の環式構造を有するキノン類とを含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 支持体の表面に感光層を設けた光重合系感光性平版印刷版を、製造後長期間、高温高湿条件下で保存しても、その後画像露光及び現像を行い印刷した時に、地汚れの発生のない、経時安定性の高い光重合系平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】 アルミニウム支持体上に中間層及び光重合性感光層を順に積層してなる感光性平版印刷版を画像露光し、現像液で現像することを含む平版印刷版の製版方法であって、該中間層が側鎖に燐酸基を有する高分子化合物を含み、並びに該現像液が無機アルカリ塩、及びポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含みかつｐＨが11.0〜12.7である、上記平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液を用いて現像可能な、高感度、高解像度を有し、さらに、タックフリーで、耐熱性、耐エッチング性、保存安定性も良好で、しかもエッチングレジストとして用いた場合に容易に除去できる感光性樹脂組成物及びその構成成分であるアルカリ可溶性樹脂を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するセグメントを含む共重合体に、一分子中に１個以上のエチレン性二重結合とイソシアナート基を有する化合物を反応させて得られる側鎖にビニル基とカルボキシル基を有するアルカリ可溶性重合体と、エチレン性二重結合を有する化合物及び、光重合開始剤とからなることを特徴とする感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（メタ）アクリル酸５−ｔ−ブトキシカルボニルノルボルニル、（メタ）アクリル酸８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロドデカン等で代表される酸解離性基含有脂環族構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類と、下記式（１）の化合物等で代表されるラクトン基含有複素環構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類との共重合体からなる樹脂、および（Ｂ）１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート等で代表される感放射線性酸発生剤を含有する。
【化１】 （もっと読む）

【課題】 現像ラチチュードが大きく、且つ処理安定性に優れたポジ型感光性平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）光熱変換物質、及び（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物層を有する感光性平版印刷版をレーザー露光し、次いでアルカリ現像液で現像するポジ型感光性平版印刷版の製版方法において、感光性組成物層が（Ｃ）ＨＬＢ１０未満の界面活性剤を含有し、且つアルカリ現像液が（Ｄ）ＨＬＢ１０以上の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 経時によるビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン化合物の凝集がなく、保存安定性に優れる感光性組成物、及び該感光性組成物を用いた感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 エステル結合を含む置換基を有するフェニル基を置換基として少なくとも有するか、水酸基で置換された置換基をｏ−位又はｍ−位に有するフェニル基を置換基として少なくとも有し、且つ、水不溶性及びアルカリ不溶性であるビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン化合物を含有する感光性組成物、並びに、支持体表面に該感光性組成物からなる層が形成されてなる感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】 感度、耐刷性および保存安定性が十分な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、ｉ）線状高分子重合体バインダー、ii）付加重合可能なエチレン性不飽和結合とウレタン基を有する化合物及び溶剤を含有する光重合層塗布液を塗布し、感光性平版印刷版の温度が９０〜１４０℃で１０秒間以上保たれる条件で加熱乾燥することにより得られたことを特徴とし、好ましくは、該加熱乾燥後、感光性平版印刷版の温度を５０℃以下に冷却したあと、引き続きその光重合層上に、水溶性の酸素遮断性物質を含有する保護層を塗布し、加熱乾燥することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 基板とレジスト層との間に設けることで、エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるリソグラフィー用下地材を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも２個有する含窒素化合物、（Ｂ）脂肪族カルボン酸又はスルホン酸、アルキルベンゼンカルボン酸又はスルホン酸及び無機硫黄酸の中から選ばれた少なくとも１種の酸、及び（Ｃ）吸光性化合物を組み合わせて、リソグラフィー用下地材とする。 （もっと読む）

【課題】 レーザーダイレクト製版において、フレアー等を生じず、鮮明な画像を得ることができ、かつ高い耐刷性を有する光重合性印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と、（ｂ）光重合開始剤系と、（ｃ）光重合開始基を有するポリマー、及び（ｄ）バインダーとを、含有する感光層を有する光重合性平版印刷版をレーザー露光装置により一定の露光量で画像露光し、現像を行った後、前記露光量の少なくとも１００倍の露光量で全面露光を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 環境上、安全上望ましいｐＨ１２以下の比較的低いｐＨのアルカリ水の現像液を用い、汚れ性と耐刷性の両立が可能な直接レーザー書き込み可能なネガ型光重合性平版印刷版システムを提供する。
【解決手段】 アルミニウム板に親水化処理を施した支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物と波長４５０ｎｍ以上の光で活性化する光重合開始系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する光重合性感光層を有する平版印刷版用原版を、レーザー光で画像露光後、アニオン系界面活性剤を含有するｐＨ１２以下のアルカリ水溶液で現像することを特徴とする平版印刷版の作成法。 （もっと読む）