【課題】光路が直線状に限定されない光導波路を備えた回路モジュールを提供する。
【解決手段】基板１０の表面１０ａに設けられた光導波路１０２を備え、光導波路１０２は、基板１０の表面１０ａに対して垂直でなくミラーとして設けられた側面１２ａと、基板１０の表面１０ａと平行な平面内において側面１２ａに対して水平又は垂直でなく、基板１０の表面１０ａに対して垂直であり、互いに対向するようにミラーが設けられた側面１２ｃ，１２ｄとを有する溝１２に形成される回路モジュールにより上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】信頼性および耐久性に優れる光導波路を容易かつ安価に形成し得る光導波路の形成方法、かかる光導波路の形成方法により形成された光導波路、この光導波路を備える光回路基板および電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路の形成方法は、基板２上に、第１のクラッド層１１を形成する第１の工程と、第１のクラッド層１１上に、第１のクラッド層１１より屈折率が大きいコア層１２を形成する第２の工程と、コア層１２を被覆するように、コア層１２より屈折率が小さい第２のクラッド層１３を形成する第３の工程とを有し、第１の工程、第２の工程および第３の工程において、第１のクラッド層１１、コア層１２および第２のクラッド層１３を、それぞれ、気化したシリコーンオイルをプラズマ重合させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】 配線板間の接続のための新たな部品を要することがなく、従って、接続箇所を減らすことができ、これにより製造コストおよび接続損失の低減を図ることができる光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 クラッド層とコア層１とを含み、コア層１を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路である。クラッド層とコア層１とからなる導波路層を複数含み、かつ、複数の導波路層が少なくとも一部において積層されてなる。クラッド層が下部クラッド層と上部クラッド層とからなる上記光導波路の製造方法である。下部クラッド層の塗工後に、塗工された下部クラッド層に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層表面に転写することにより下部クラッド層に溝部を形成し、溝部内にコア層１を塗工する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、電波を３次元的に閉じ込めることが可能な導波路を提供する。
【解決手段】 第１の誘電体により、誘電体層２を構成する。また、誘電体層２中の所定の欠陥領域（導波路領域４）を取り囲むようにして、第１の誘電体の誘電率よりも高い誘電率を有する第２の誘電体により、複数の高誘電体柱３を周期的に配列する。さらに、誘電体層２の上下に、一対の導体層５Ａ，５Ｂを設ける。所定の波長領域の電波Ｗ１に対して、誘電体層２の延在方向のみならず、この延在方向と直交する上下方向においても閉じ込めることができる。２次元フォトニック結晶を用い、伝播される波が電波（電波Ｗ１）の場合であっても、その波を３次元的に閉じ込めることができ、導波路領域４を選択的に伝播させることが可能な導波路を得る。 （もっと読む）

【課題】設計変更に対応できるような設計の自由度を保つことが容易に可能であり、少量多品種の生産に対応することができる光電子装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】キャピラリ部２の先端に設けられた加工ヘッド１であって、加工ヘッド１の先端部は、加工ヘッド１の対称軸ＡＸに対して４５°の角度で交差し、かつ互いに直行する第１面１ａおよび第２面１ｂを有し、クラッド３０ａとクラッド内に埋め込まれたコア３０ｂを有する光導波路がシート状に成形されてなる光導波シート３０に対して、光導波路の端部となる位置に加工ヘッド１が打ち込まれたときに、光導波路の端部に第１面１ａおよび第２面１ｂの形状が転写されてミラー面ＭＲが形成される構成の加工ヘッドとする。 （もっと読む）

【課題】光伝達が良好なフィルム状の光導波路を効率よく生産することができるフィルム状光導波路の製法を提供する。
【解決手段】１個ないし複数個の光導波路予定部が形成されてなるフィルム体Ｆから、光導波路Ａの光入射端面１および光出射端面２〜４に形成する面を、レーザー光により切断し、光導波路Ａの路側面５〜８に形成する面を、金型による打ち抜きにより切断する。 （もっと読む）

【課題】 コアサイズの大きなマルチモードフィルム光導波路を安価に大量に製造可能な構造と製造方法、製造装置を提供する。
【解決手段】 コアとなる透明細線材の断面形状が角を持たない円形もしくは円形に近い形状で、透明細線材より屈折率の小さい透明クラッド材によって覆われた構造のフレキシブル光導波路。コアとなる透明細線材を並べて透明細線材より屈折率の小さい下層透明クラッドフィルムと透明細線材より屈折率の小さい上層透明クラッドフィルムによって上記透明細線材を挟み加熱プレスしてフレキシブル光導波路を製造する。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性や耐熱性を有し、界面で剥離を生じたり内部にクラックを発生させず、優れた形状精度を有するエッチングマスクを安価に形成する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：（Ｒ^１）_ｐ（Ｒ^２）_ｑＳｉ（Ｘ）_{４−ｐ−ｑ}（式中、Ｒ^１はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基、Ｒ^２は炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基（ただし、フッ素原子を含有するものを除く。）、Ｘは加水分解性基、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１の整数である。）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも一種以上、および（Ｂ）光酸発生剤を含有し、かつ、全Ｓｉ上の結合基に占めるシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基の含有率が１０〜５０％であるエッチングマスク組成物によって、基板１上にエッチングマスク５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 生産性が高く、低損失なスポットサイズ変換部を備えた光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 本光導波路は、下部クラッド並びに導波部及びスポットサイズ変換部から成るコアを有し、変換部の断面幅が高さ方向に徐々に小さくなる部分を有し、変換部の底面幅及び高さが先端に向かって次第に変化し、先端が光の進行方向と交差する面により断ち切られた形状であることを特徴とする。また、本光導波路の製造方法は、高さが一定で、底面幅が徐々に変化し、光の進行方向と交差する面により先端が断ち切られた形状で、断面がほぼ矩形のコアを形成する第１の工程及びコアをエッチングすることにより、断面幅が高さ方向に徐々に小さくなり、コアの底面幅の変化に対応して高さが変化する形状のコアを形成する第２の工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、光デバイスと光配線層とを効率よく光学的に接続し、集積化および多層化が可能な光接続装置の製造法に関する。
【構成】 光配線層Ａと電気配線層１からなる光電気混在基板において、前記光配線層Ａは１又は複数層とし、該光配線層Ａの光導波路３の光軸に垂直方向に前記光電気混在基板に対してホール５を形成し、該ホール５内には前記光軸を９０度に折り曲げる４５度ミラー６と、前記ホール５上部にはコアパターンを空隙として除去したフォトマスク基板Ｃとをそれぞれ配置し、該基板Ｃと４５度ミラー６との間に感光性媒質Ｂを充填した後に特定の光を照射して前記感光性媒質Ｂ内に連続的な自己形成光導波路１０を形成する。これは垂直部１０ａと９０度折り曲がる水平部１０ｂとを有する。該水平部１０ｂ端は前記光導波路３のそれぞれに接続する。その後、前記フォトマスク基板Ｃを除去すること。 （もっと読む）

【課題】 ウェットエッチング方法による光導波路の製造方法であって、光導波路形成領域内の分極極性が一様であって不均一性が生じていない光導波路を製造することができる光導波路製造方法を提供する。
【解決手段】 強誘電体結晶基板の結晶軸方位プラス面（難エッチング面）１７にリッジ構造を形成するようにして、（ａ）結晶軸方位プラス面１７上の光導波路を形成しようとする位置にマスク２１を形成する工程、（ｂ）結晶軸方位プラス面１７にプロトン交換処理を行う工程、（ｃ）プロトン交換部分をウェットエッチングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 精度のよいリッジ型構造の加工が可能な光導波路デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）強誘電体材料からなる第一基体１１に、リッジ型構造形成面１６を加工する工程、（ｂ）第一基体材料より屈折率の小さい材料が第一基体のリッジ型構造形成面１６と接するようにして、第一基体１１のリッジ型構造形成面側に固着される第二基体１２を設ける工程、（ｃ）第一基体のリッジ型構造形成面１６とは反対側である裏面を薄片化処理して、薄片化処理面１７を形成する工程、により、先にリッジ型構造を形成した後に、薄片化処理を行うようにする。 （もっと読む）

【課題】 歩留まり低下の主要因である光導波路幅の変動および光導波路比屈折率の変動を含む製造誤差に対する許容範囲の大きな光方向性結合器および波長無依存カプラを提供すること。
【解決手段】 波長無依存カプラは、２本の光導波路をそれぞれが有する２つの光方向性結合器と、前記２つの光方向性結合器を接続する長さの異なる２本の光導波路とを備えるマッハツェンダ干渉計により構成される。前記２つの光方向性結合器の各々は、光結合を生じる光結合領域における直線部分の長さがゼロである光方向性結合器であり、射出される光の強度が入射される光の波長に依存しないように前記光結合領域の光導波路幅および光導波路間ギャップが設定されている。また、前記２本の光導波路は、入力端から光結合を生じる光結合領域へ向かってテーパ状に細くなり、前記光結合領域から出力端へ向かってテーパ状に広くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】シリカガラス中にドーパント元素が均一に存在し、均質性に優れたドープトシリカガラスを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】シリカ中にドーパント元素を含有させたシリカガラス前駆体に電磁波を照射することにより、前記シリカガラス前駆体を加熱してガラス化することによりドープトシリカガラスを製造する。このドープトシリカガラスは、粒子径が１μｍ以上のドーパント元素の凝集粒子を含有しない。 （もっと読む）

特に平面光導波路（Ｐｌａｎｎｅｒ Ｌｉｇｈｔｗａｖｅ Ｃｉｒｃｕｉｔ）としての光導波路デバイスであって、平面光導波路デバイスとしての高機能化を図ることができるようにした光導波路デバイスである。
第１クラッド層をそなえるとともに、該第１クラッド層上に形成され光を導波させるためのコアと、該コアを包囲するように上記の第１クラッド層およびコア上に形成された第２クラッドとをそなえてなる光導波路デバイスであって、該コアが、当該コアの幹をなす幹部分と、該幹部分における長手方向についての両側面上に形成され、該第１クラッド層をなす面にほぼ垂直な層構造の部分をそなえるように構成する。
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【課題】反りの発生をさらに抑制してなる高特性の基板型光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】石英基板１上に電子ビーム蒸着法を用いてコア層２を形成する工程と、コア層２をパターニングする工程と、パターニング後のコア層２を被覆するように石英基板１上に火炎堆積法を用いて多孔質クラッド層６を形成する工程と、多孔質クラッド層６に熱処理を施し透明ガラス化してクラッド層７を形成する工程とを有する基板型光導波路の製造方法において、コア層２のパターニングは、光回路を成すコア４と、コア４を形成しない部分のほぼ全面であってコア４から所定間隔以上離れてなる反り抑制層５となる部分を残すように成される。 （もっと読む）