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Fターム[2H049AA07]の内容

回折格子、偏光要素、ホログラム光学素子 (44,531) | 回折格子 (6,153) | 形態 (2,063) | 反射形 (306) | レリーフを有するもの (216)

Fターム[2H049AA07]に分類される特許

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【課題】3次元コンピュータグラフィックス(3DCG)上で、テクスチャマッピング機能を利用した処理を行うことにより、従来のグレーティングパターンの解像度、読み込み数の制限、サイズの固定、同時に使える画像の制限など、入力操作が煩雑で、調整が困難な問題点を解決する。
【解決手段】少なくとも一つのグレーティングパターン又は認証画像を形成したグレーティングパターンを、3DCGにマッピングする図柄取得ステップと、前記図柄のレイアウトを調整する調整ステップと、マッピング後のグレーティングパターンの周期、方向、輝度の値(RGB値)を抽出するRGB値抽出ステップと、回折光の波長を求める演算ステップと、波長からRGB色成分に変換するRGB色成分変換ステップと、ディスプレイに表示するための表示ステップと、表示された図柄を最適なグレーティングの回折光に表現するためのレンダリングステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】基板面に対して斜め方向の凹凸パターンを有する構造体を容易に作製することが可能となる構造体の製造方法、このような凹凸パターンを有する構造体を提供する。
【解決手段】凹凸パターンを有する構造体の製造方法において、
弾性変形が可能な材料による被加工物11を、その被加工面12の面直方向及び面内方向から傾いた方向に弾性変形13させる弾性変形工程と、
前記弾性変形工程による変形状態の前記被加工面に、凹凸パターン15を形成する第1のパターン形成工程と、
前記被加工物を弾性変形前の定常状態に近づけ又は定常状態とする第2のパターン16を形成する工程と、を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板内部に侵入した光に起因する迷光を低減することのできる反射型回折格子を提供する。
【解決手段】母型となる回折格子20の格子面に蒸着によりアルミニウム薄膜33を形成し、レプリカ基板31の表面に該回折格子20の格子溝パターンをアルミニウム薄膜33と共に反転転写することで作製されるレプリカ回折格子30において、該レプリカ基板31の少なくとも裏面(格子溝パターンが転写される面とは逆側の面)31bを粗面とする。これにより、レプリカ回折格子の格子面の一部にアルミニウム薄膜33で被覆されていない領域があった場合でも、該領域から基板31の内部に侵入し前記裏面31bに入射する光の反射率を低下させ、迷光を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、確実に真贋判定を行うことが可能であると共に、より一層高度な偽造防止効果を発現し、デザインの自由度の増加ならびに可視性の向上を実現することができる回折格子を有する情報記録媒体及びその情報記録媒体の情報認証装置を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に光散乱要素を有する微小な回折格子要素の複数個が基板表面に配置されており、これら複数個の回折格子要素は秘匿情報の全部又は一部を保持しており、光源からの照明光の照射に基づく散乱光及び回折光の全部又は一部が空間上の所定領域に入射するように矩形形状、格子間隔及び格子角度が設定されていると共に、少なくとも2個以上の回折格子要素の組み合わせからなる回折格子要素群からの光散乱及び回折光の全部又は一部が入射する所定領域における再生情報和により、所定の秘匿情報がパターン化されるようになっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板表面に秘匿情報の全部又は一部を保持する複数個の格子縞を有する回折格子が隣り合って回折格子セル群が形成されている情報記録媒体及びその情報認証装置に関する。
【解決手段】
基板表面に秘匿情報の全部又は一部を保持する複数個の格子縞を有する回折格子が隣り合って回折格子セル群が形成されている情報記録媒体であって、前記回折格子が隣り合って回折格子セル群が形成されている回折格子の格子角度が±1度以上異なるように設け、
前記回折格子セル群は回折光の全部又は一部が入射する所定領域に再生情報和を構成し、再生情報和により、所定の秘匿情報がパターン化されように形成されていることを特徴とする情報記録媒体及びその情報記録媒体の真贋判定を行う情報認証装置である。 (もっと読む)


【課題】表面レリーフ型の回折格子あるいはホログラムから成る表示体により、色の変化や像のぼけの極めて少ない、多色像(特にフルカラー像)を安定して観察することが可能な、偽造防止効果が高く真贋判定も容易な表示体及び表示装置を提供する。
【解決手段】複数の平面状の導光体を積層した板状体であり、各導光体の表及び/あるいは裏の平面部に、導光する光を回折し、導光体から光を射出することにより像表示を行なう表面レリーフ型の回折格子あるいはホログラムを具備し、各導光体に予め決められた波長を持った光を導光することにより、前記回折格子あるいはホログラムからの回折光(像表示光)による再生情報和からなる多色像を表示する表示体を用いる。 (もっと読む)


【課題】回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。
【解決手段】計算機ホログラムから成るセルによって機械読み取り用の特定情報を構成し、装飾画像を構成する回折格子から成るセルと共に、パターン内に配置する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、肉眼で認知することのできない秘匿情報を有する情報記録媒体を印刷物に重ね合わせて配置する情報記録媒体を備えた物品、及びその物品の印刷物の色や柄に影響されずに、情報記録媒体の秘匿情報の有無や秘匿情報の情報再生(読み取り)が確実に行われる読取装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基材表面に、格子間隔および格子角度が設定されてなる回折格子を有する微小な複数個の目視による認識が不能な秘匿情報を備えた回折格子要素群が形成されており、その回折格子要素群からの回折格子の再生情報により所定の秘匿情報が読み取り検出できる情報記録媒体が印刷物の表面に配置されてなる情報記録媒体を有する物品において、前記印刷物を構成する画像の少なくとも一部が紫外光もしくは赤外光を吸収するインキにより形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回折面に異なる入射角度で入射する入射光に対して入射角度毎に異なる回折像を得る。
【解決手段】回折光学素子1が、2以上の入射角度をなす入射光に対して入射角度により異なる回折像が形成されるように回折溝5を有する回折面の形状が構成されている。この回折光学素子1は、入射面が所定の段数からなる階段を有して断面階段状に形成されたバイナリ光学素子からなり、透過光もしくは反射光により回折像が形成される。回折面への入射光の入射角度は、回折光学素子1にMEMS素子4のような圧電駆動型の素子を組み合わせることで、例えば10度ごとに変えることが可能である。なお、計算機合成ホログラムにより回折面の形状を設計することで、回折面に対する入射光の入射角度により異なる回折像を取得可能である。 (もっと読む)


【課題】入射光の各波長毎に、また、入射光の入射角度毎に異なる回折像を形成させる。
【解決手段】回折光学素子6が、特定の波長の光を選択するフィルタ素子4と、フィルタ素子4により選択された入射光が回折溝5が形成された回折面に入射するように配置され、回折面に異なる入射角度で入射するフィルタ素子4により選択された入射光に対して入射角度毎に異なる回折像を形成させる回折光学素子1とを有して構成される。この回折光学素子1は、入射面が所定の段数からなる階段を有して断面階段状に形成されたバイナリ光学素子からなり、透過光もしくは反射光により回折像が形成される。特定の波長の光を選択するフィルタ素子4からの入射光を用いることにより各波長毎に異なる回折像が形成される。なお、計算機合成ホログラムにより回折面の形状を設計することで、入射光の波長毎に、また、入射光の入射角度毎に異なる回折像を取得可能である。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造のため膨大な時間と労力とを必要とすることなく容易に製造でき、しかも高い精度と高い効率とを備えるようにした反射型回折格子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光路中を真空または透明媒質で満たされた反射型回折格子であって、上記反射型回折格子と上記反射型回折格子の外部領域との界面に複数の溝が並行に形成されるようにしたものであり、上記溝と上記溝が形成された界面とがなす角度は、入射光が上記溝の側面において反射し、上記溝が形成された界面において略垂直に反射するように設定した。 (もっと読む)


【課題】環境が変化しても安定した光学特性を示す光学素子、ホログラム素子を提供すること。
【解決手段】マイクロ化学チップ100は金属ガラス製であり、マイクロ化学チップ100には、流体サンプルが流れるチャンネル2aが形成されている。領域Aのチャンネル2aの底面2Aには、微細凹凸構造体10が形成され、微細凹凸構造体10は、周期的に凹凸が繰り返される線状凹凸面から成り、入射光に対して反射型の回折作用を有する回折光学素子11と、周期的に柱状突起が分布する凹凸面から成り、入射光強度に対して反射光強度が零または低い無反射光学素子12とを含む。マイクロ化学チップ100は金属ガラス製であり、環境温度が変化しても安定した寸法精度を保つので、常に安定した光学特性を示す。 (もっと読む)


【課題】回折格子と光の波長によるアノマリー現象を原理的に利用した、従来にない新規な光スイッチング素子を実現する。
【解決手段】光スイッチング素子1は、厚み部分が導波層として機能し、厚み方向の一方の面は全反射面として機能し、他方の面は微細な凹凸による微細周期構造が形成され、上記他方の面から入射する光のうち、特定波長成分を共鳴反射させる共鳴反射素子11と、この共鳴反射素子11の形状および/または屈折率を変化させて、共鳴反射の共鳴波長を変化させる駆動手段12、14を有する。 (もっと読む)


【課題】偽造防止の効果を向上することができ、また、優れた意匠性を有する光回折シートを提供する。
【解決手段】透明PETである基材10の裏面に、星印の模様を有する光回折構造形成層20Aと、アルミニウムに磁性体粉末を含ませた金属薄膜から形成され、バーコード状に一列に配置した不透明なパターン反射層20Bと、酸化チタン(TiO2)から形成された透明な反射層20Cと、感熱記録層3とを順に積層させて感熱記録媒体900Aを構成することにより、感熱記録媒体900Aが磁性を示すように形成し、また、光回折構造形成層20Aのホログラム等の効果を複雑に発現可能とした。 (もっと読む)


【課題】回折効率の高い反射型の回折素子をえる。
【解決手段】ラメラー格子からなる回折格子層2と屈折率の一様な一様層4とからなる積層構造6を周期の単位として、その積層構造が深さ方向に複数積層された構造をもっている。回折格子層2は光学厚さが定義できるように、深さ方向の伝播常数でモードの異なるものが縮退するようにそのラメラー格子のデューティ比が設定されており、また回折格子層2と一様層4はそれらの光学厚さがともに入射光の中心波長の4分の1波長近傍となっている。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化を可能にすると共に、単純な光学系により確実な光ビームの合成が可能な光路合成装置およびその方法を提供する。
【解決手段】光路合成装置1は、互いに波長の異なる光ビームを放射する複数の光源部2,3,4と、これらの複数の光源部からの光ビームの光路を合成するための回折格子5とを有し、各光源部2,3,4から回折格子5に入射する光ビームが回折格子5によって反射され、共通の光路10に合致して出射するように、複数の光源部2,3,4の各々と回折格子5の相対的な位置関係を設定する。 (もっと読む)


【課題】従来、レリーフホログラム又は回折格子を微細な複数のドットで転写することにより、媒体上の画像や模様などの着色層と相乗して、ラメ効果などの特異な装飾効果を発現する技術が提供されているが印刷物と同調させる必要がある。
【解決手段】前記課題を解決するために、二次元で表現された図柄を微細部に分割し、分割された図柄の情報を光回折構造による情報に置き換えた回折格子図柄であって、隣り合う回折格子図柄の回折角度は連続的に変化するが、変化の割合が非線形であり、かつ、方向により異なる回折格子図柄を提供する。 (もっと読む)


【課題】入射する平行光束の入射角に依存した色ムラや輝度ムラを低減し得る光学装置を提供する。
【解決手段】導光板21、反射型体積ホログラム回折格子から成る第1及び第2回折格子部材30,40を備え、第1回折格子部材30には、その内部から表面に亙りピッチの等しい干渉縞が形成されている光学装置20であって、第1回折格子部材において:(a)第1回折格子部材30における干渉縞が第1回折格子部材30の表面と成す傾斜角が最小傾斜角となる最小傾斜角領域よりも第2回折格子部材から遠い所に位置する外側領域に形成された干渉縞の傾斜角は、最小傾斜角領域から離れるほど大きく、(b)最小傾斜角領域よりも第2回折格子部材に近い所に位置する内側領域に形成された干渉縞の傾斜角は、最小傾斜角領域に隣接する内側領域において最大傾斜角であり、最小傾斜角領域から離れるほど小さくなる。 (もっと読む)


【課題】整列可能な回折顔料フレークおよび整列の方法と装置およびそれから形成される像を提供する。
【解決手段】回折顔料フレークが選択的に整列されて像を形成する。一実施形態において、誘電体または半導体等の材料からなるフレークは、電場中での整列を容易にする形状に加工される。 (もっと読む)


【課題】物体上に任意のパターンを広範囲に精度良く描画する。
【解決手段】主制御装置29は、描画対象物13の表面の描画領域を複数の矩形形状のセルに分割し、CAV制御方式が選択されたときには、セル毎に各セルの位置に応じた照射長及びΔrを求め、描画対象物13がその半径方向に速度一定で移動しながら回転速度一定で回転するように、ターンテーブル14及び直動ステージ15を制御するとともに、照射対象のセルに対応する照射長及びΔrをフォーマッタ26に出力する。これにより、照射対象のセルでは、そのセル中心を通る適切な照射長の電子ビームが照射されることとなる。従って、その結果として、描画対象物13上に任意のパターンを広範囲に精度良く描画することが可能となる。 (もっと読む)


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