【課題】画素の高開口率化に有効であって剥離を生じ難い絶縁膜を有するアレイ基板と、このアレイ基板の製造方法を提供する。また、輝度が高く、高い信頼性を備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有する構成単位と重合性基を有する構成単位とを含む重合体と、キノンアジド化合物あるいは重合性化合物および重合開始剤と、熱酸発生剤と、硬化促進剤である式（１）または式（２）の化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物を用い、スイッチング能動素子８の形成された基板４上に絶縁膜１２を形成し、アレイ基板１を製造する。アレイ基板１を用い液晶表示素子を構成する。
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【課題】配向膜の塗布均一性が向上し、パッド上の厚い配向膜領域が無くなり、表示領域へのダメージを最小限に抑制したパッド上の配向膜のエッチングが可能となると同時に、駆動基板と透明基板間のセルギャップを均一にする。
【解決手段】駆動基板の表面の層間絶縁膜２６上の平面矩形状の金点パッド２３が従来のレイアウトと比較して４５度回転して形成されている。ダミーパッド２７及び金点パッド２３の上にシリコン酸化膜２８、レジスト膜２９を順次被覆した後、レジスト膜２９をマスクとし、金点パッド２３上のシリコン酸化膜２８を除去すると同時に、層間絶縁膜２６が露出した三角形状領域２４のシリコン酸化膜２８の部分を金点パッド２３をマスクとして自己整合的にエッチングする。これにより、金点パッド２３から層間絶縁膜２６の角にかけて金点パッド２３の表面よりも高くなる箇所をなくす。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が水分や不純物を吸着することを抑制しながら、無機配向膜を選択的に形成することのできる液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０に配向膜１６を形成するにあたっては、犠牲膜形成工程において、素子基板１０における配向膜１６の非形成領域１０ｈに犠牲膜１８ａ、１８ｂを形成した後、無機配向膜形成工程において、犠牲膜１８ａ、１８ｂの表面側に、シリコン酸化膜等からなる配向膜１６を斜め蒸着する。次に、リフトオフ工程では、犠牲膜１８ａ、１８ｂを選択的にエッチングする反応性ガスによって犠牲膜１８ａ、１８ｂを除去する。ここで、犠牲膜１８ａ、１８ｂはシリコン膜であり、反応性ガスは二フッ化キセノンガスである。 （もっと読む）

【課題】良好な表示特性の液晶装置を高い生産性で製造する製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極９を備えた第１基板１０と、これに対向配置される第２基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極９に対応する位置が表示領域Ｐとされ、この表示領域Ｐ間が非表示領域ＢＭとされる液晶装置の製造方法である。画素電極９を表示領域Ｐとなる位置に、その周縁部を非表示領域ＢＭとなる位置に形成し、画素電極９上の表示領域Ｐとなる位置に垂直配向膜４１を形成し、非表示領域ＢＭの少なくとも画素電極９の周縁部上に水平配向膜４２を形成する。このとき、基板１０Ａ上の配向膜４２ａにラビング処理し、レジストパターンＲをマスクにして表面改質して、水平配向膜４２を形成し、垂直配向膜４１の材料を形成する。 （もっと読む）

【課題】スピンエッチング等を確実に行うことのできる基板、および当該基板を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置用基板１０ｓは、第１基板面１０ｔ側に第１面取り面１０ｅ、第１円弧面１０ｆを備え、第２基板面１０ｕ側に、第２面取り面１０ｉ、および第２円弧面１０ｈを有している。第１円弧面１０ｆの曲率半径Ｒaは第２円弧面１０ｈの曲率半径Ｒbより大であり、第１基板面１０ｔと第１面取り面１０ｅとが成す第１面取り角度θaは、第２基板面１０ｕと第２面取り面１０ｉとが成す第２面取り角度θbより大きい。平面視における第１面取り面１０ｅの幅寸法と平面視における第１円弧面１０ｆの幅寸法との和ｄaは、平面視における第２面取り面１０ｉの幅寸法と平面視における第２円弧面１０ｈの幅寸法との和ｄbより大である。 （もっと読む）

【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性及び長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）［Ａ］同一又は異なる重合体中に、重合性炭素−炭素二重結合を含む基及び下記式（Ａ１）で表される基を有する重合体成分を含有する液晶配向剤を用い、導電膜を有する一対の基板のこの導電膜上に塗膜を形成する工程、（２）上記塗膜を形成した一対の基板を、それらの一対の塗膜が対向するよう、かつ液晶層を介して配置することで、液晶セルを形成する工程、及び（３）上記一対の基板の導電膜間に電圧を印加した状態で上記液晶セルに光照射する工程を有する液晶表示素子の製造方法である。
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【課題】ＩＴＯ膜等の電極との密着性に優れ、耐熱性に優れた表示素子用硬化膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であり、さらに、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン中のＳｉ原子に対するメルカプト基の含有率が、５モル％を超え６０モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、製造工程数の増加を招くことなく、画素領域への水分の浸入を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）上に設けられた複数の画素電極（９）と、複数の画素電極が設けられた画素領域（１０ａ）を囲むように設けられ、第１基板及び第２基板（２０）を貼り合わせるシール材と、第１基板上に、画素電極に容量絶縁膜（７２）を介して対向するように設けられた容量電極（７１）と、画素電極及び容量電極間に吸湿性の絶縁材料から形成された第１絶縁膜（１７）と、第１絶縁膜と同層に第１絶縁膜と同一の吸湿性の絶縁材料から形成されるとともに、画素領域とシール材との間に画素領域を囲むように、且つ、第１絶縁膜とは離間して設けられた第２絶縁膜（６１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に、少なくとも、ブラックマトリックスと、着色画素層と、透明導電膜と、該透明導電膜上にポジ型のフォトレジストからなるレジストパターンと、該透明導電膜自体には所定の開口部と、が形成されているカラーフィルタ基板の簡素で合理的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電膜２ｂ上に、ポジ型フォトレジスト３を所定の膜厚で塗布する工程と、ポジ型フォトレジスト３を露光・現像して所定の開口部を形成し露出した透明導電膜をエッチングにより除去して透明導電膜２ｂに配向制御用の開口部２ｃを形成する工程と、残置しているポジ型フォトレジストを再び露光・現像して所定のレジストパターン９を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電気容量を小さくできる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、及び、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）塩基性含窒素環状化合物、及び、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】表面抵抗の高い硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。さらに、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）特定構造のオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）特定構造のフッ素系化合物、並びに、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。
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【課題】高品位な表示を得ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、素子基板と対向基板との間にシール材１４を用いて液晶層１５が挟持されており、素子基板及び対向基板のうち少なくとも一方の基板におけるシール材１４と当接する部分に、パターニングされたシール下地膜７１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置１は、画素電極218と共通電極216とは、平面視してＸ方向に沿って交互に配置されており、絶縁部材217は、画素電極218側の第１面217ａ
と、第１基体21の第１主面21ａ側の、Ｘ方向における両端が第１面217ａの両端に比べて
内側に位置している第２面217ｂとを有しており、画素電極218は、絶縁部材217の第１面217ａを被覆しているとともに、平面視してＸ方向における両端部が隣り合う共通電極216
に重なっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で、形成された硬化膜の絶縁性、透明性、耐アルカリ性、基板との密着性に優れた感光性組成物、それを用いた感光性樹脂転写フィルム、樹脂パターン、樹脂パターンの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の提供。
【解決手段】（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート（ｂ１）及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含み、重合性化合物の総含有量に対する、（ｂ１）の含有率をＷ１、一般式（ｂ２）で表される化合物の含有率をＷ２としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たし、重合性化合物の総含有量に対する、該（Ｃ）光重合開始剤の含有比が、０．６以上５未満である感光性組成物。０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０・・・式（１）６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％・・・式（２）
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【課題】可視光透過率の高い塗膜やパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含み、重合開始剤（Ｃ）が式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す；
Ｌ^１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す；
Ｌ^２が、単結合又は−ＣＯ−を表す；
Ｒ^２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す；
Ｒ^３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す］
で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マスク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶にかかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第１の電極層（画素電極層）上に第１の壁状構造体、同様に第２の電極層（共通電極層）上に第２の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第１の壁状構造体及び第２の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度及び電気特性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）式（１）又は式（２）で表される酸発生剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷はアルキル基又は芳香族基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は芳香族基を表し、Ｘ^-はＢＹ₄^-、ＰＹ₆^-、ＡｓＹ₆^-、ＳｂＹ₆^-、又は、式（３）若しくは式（４）で表される一価のアニオンを表し、Ｙはハロゲン原子を表す。
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【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性，耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基を有する化合物、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、並びに（Ｄ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。 （もっと読む）

【課題】保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（１）と、エポキシ基及びオキセタニル基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（２）と、を含有する共重合体、オキシムスルホネート基を有する特定構造の光酸発生剤、増感剤、及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）