【課題】表示領域における黒表示の際の光抜けを回避することが可能な液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】
矩形状の第１基板と、前記第１基板と対向配置される矩形状の第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とで狭持される液晶と、複数の画素が形成される矩形状の表示領域と、前記第１基板と前記第２基板とを固着する共に前記液晶を密封する密封材とを備える液晶表示装置であって、前記第１基板の主面と前記第２基板の主面とは、湾曲しており、前記密封材は、前記表示領域の外側に配置されると共に、前記表示領域の角部のうち少なくとも一箇所に突出部を形成し、前記突出部は、前記突出部と対向する前記表示領域の１辺と前記密封材との間隔が、前記１辺のうち前記突出部以外の部分と前記密封材との間隔よりも大きい液晶表示装置。である。 （もっと読む）

【課題】 製造に際し、当初、耐熱性の高い仮基板を用い、最終的に、耐熱性の低いフィルム基板を用い、仮基板を除去し、これにより得られた薄膜トランジスタパネルにおいて、画素電極（薄膜）が破損しにくいようにする。
【解決手段】 仮基板５１上に形成された分離層５２上に画素電極２を形成する。この場合、画素電極２下以外の領域における分離層５２が膜減りしたとしても、その上に下地絶縁膜１を形成し、仮基板５１および分離層５２を除去すると、下地絶縁膜１の下面に平板状の画素電極２が凹んだ状態で埋め込まれることになるので、画素電極２が破損しにくいようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】回路構成層にクラックの発生を低減させた画像表示装置の提供。
【解決手段】第１フレキシブル基板と、前記第１フレキシブル基板の一方の面に画像表示部を構成する回路構成層が粘着された画像表示装置であって、
前記第１フレキシブル基板の厚さをｔ２とした場合、前記回路構成層の厚さｔ１は次式（１）を満足する値となっていることを特徴とする。
ｔ１ ≧ ３／４０×（ｔ２−２３）……（１） （もっと読む）

【課題】対向する電極間の放電が防止され、かつ、製造が容易な表示媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示媒体７０は、対向する可撓性基板１０，２０にそれぞれ形成された一対の電極１４，２４間に設けられている表示要素３０ａ，３０ｂと、第１の電極１４の一部に重なるとともに導電性接着材料４６ａを介して電気的に接続されている第１の電極端子４５ａと、第２の電極２４の一部に重なるとともに導電性接着材料４６ｂを介して電気的に接続されている第２の電極端子４５ｂと、一方の基板側に設けられており、第１の電極端子を介して第１の電極を電気的に引き出す第１の端子孔４３ａと、第１の端子孔と同じ基板側に設けられており、第２の電極端子を介して第２の電極を電気的に引き出す第２の端子孔４３ｂと、を含む。少なくとも一方の電極は、該電極が形成されている可撓性基板の端面で露出せずに一対の電極間が絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】配線や電極等による段差に起因する配向処理むらを抑制し、配向不良の発生を低減でき、充電時間を短くできるＴＦＴ基板の提供。
【解決手段】基材２と、基材上に形成されたゲート線と、ゲート絶縁層４と、オーバーコート層６と、ソース線と、画素電極８と、基材２上に形成されゲート線に接続されたゲート電極１３、ＴＦＴ用ゲート絶縁層１４、ＴＦＴ用ゲート絶縁層上に形成された半導体層１５、ＴＦＴ用ゲート絶縁層および半導体層の上に上記オーバーコート層と連続して形成されたＴＦＴ用オーバーコート層１６、ＴＦＴ用オーバーコート層上に形成され、ソース線に接続され、半導体層にソース電極用コンタクトホールｈ１を介して接続されたソース電極１７、および、ＴＦＴ用オーバーコート層上に形成され、画素電極に接続され、半導体層に透明電極用コンタクトホールｈ２を介して接続された透明電極１８を有するＴＦＴ１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック液晶素子に対し同一箇所を多数回押すと圧痕が生じる。この圧痕が生じにくい液晶素子を提供する。
【解決手段】下側プラスチック基板２１１の液晶層２０８側の面にホトリソスペーサ２０９が形成された液晶素子２１において、上側のプラスチック基板２０２には、表示電極２０３を覆いホトリソスペーサ２０９よりも硬い樹脂層２０４が備えられている。樹脂層２０４によりホトリソスペーサ２０９がプラスチック基板２０２にめり込まなくなるため圧痕が解消する。 （もっと読む）

【課題】容易な方法で作成した液晶配向能を有する微細凹凸構造で、応力状態によってその凹凸構造が変化できる構造を用いて、熱処理を介して液晶配向方向を変化させる表面を提供すること、およびその配向表面を利用した配向記憶強度の時間発展の評価法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を有する液晶配向表面であって、前記液晶配向表面が座屈表面を有し、液晶配向表面の微細凹凸構造が変化することで液晶配向を変化させることができることを特徴とする液晶配向表面。 （もっと読む）

【課題】複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置の提供。
【解決手段】複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラスチック基板の傷対策を施した液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板１０と、第１基板１０と対向する、プラスチックからなる第２基板１６と、第１基板１０と第２基板１６との間に配置された液晶２６と、第２基板１６の、第１基板１０とは反対の表面に形成された、導電性ポリマー又は導電ペーストを含有する材料からなる光透過性の導電膜３２と、を有する。導電膜３２の、第２基板１６とは反対の表面は、光を散乱させる凹凸面３６である。 （もっと読む）

【課題】本発明の構成を有さない場合に比べて、フレキシブル性を有した状態で、液晶層への水分の侵入が抑制された表示媒体を提供する。
【解決手段】表示媒体１０は、表示面側（図１中、矢印Ｘ側）から順に、可撓性を有する基板１２、電極２０、液晶層２４、電極２２、及び可撓性を有する基板１４が積層された構成とされている。また、表示媒体１０には、可撓性を有する吸湿部材２６が設けられている。吸湿部材２６は、少なくとも一部が液晶層２４に接するように配置され、吸湿度が下記式（１）の関係を満たす。Ａ≧Ｂ式（１）（式（１）中、Ａは、前記吸湿部材の吸湿度を示し、Ｂは、前記液晶層の吸湿度を示す。） （もっと読む）

【課題】 ヘイズ等の光学異方体としての諸特性を悪化させることなく、基材に対する接着性、特にプラスチック基材に対する接着性に優れた光配向膜用組成物を提供し、合わせて当該組成物を用いた基板との接着性に優れた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表されるアゾ化合物、
【化１】


親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物、及び、前記一般式（１）で表されるアゾ化合物と相溶性を有する重合体を含有することを特徴とする光配向膜用組成物。 （もっと読む）

【課題】曲面状の液晶表示装置において、セル厚むらの発生を抑制する。
【解決手段】脆性を有する第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された脆性を有する第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた液晶層１５とを備え、第１基板１０及び第２基板２０を第１基板１０が外方に向くように曲面状に変形させた液晶表示装置５０であって、第２基板２０の周面には、曲面状のカバー部材４５が全面に設けられ、カバー部材４５の第２基板２０側の表面の曲率は、第２基板２０のカバー部材４５側の表面の曲率と同じである。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置等に用いるカラーフィルター基板を傷、破損から守り、保管、移送に有利なカラーフィルター基板の積層体を提供する。
【解決手段】 ガラス基板の表面にブラックマトリックス、着色層、透明電極及びスペーサー等の基本構成を形成させたカラーフィルター基板の着色層側の面に厚さ１０〜２０ｎｍのコーティング層からなる除去可能な保護層を設け、着色層側の面に保護層を設けたカラーフィルター基板を、独立気泡を有し、発泡倍率１０倍以上であり、厚みが０．５ｍｍ〜５ｍｍである発泡樹脂シートであるクッション性を有するシートを介して、カラーフィルター基板同士が密着しないようにしながら、複数枚積層させる。 （もっと読む）

【課題】ストリエーションの発生を抑制し、塗膜全体にわたって均一で、高品質な塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含み、溶剤（Ｄ）は、式（Ｄ１）で表される溶剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
Ｒ^１−Ｏ−（Ａ−Ｏ）_ｎ−Ｒ^２ （Ｄ１）
（式（Ｄ１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ａは、直鎖状又は分岐状の炭素数は１〜３のアルキレン基を表す。ｎは、２又は３の整数を表す。複数のＡは、同一であっても異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】製造工程がガラスに比べ低温になっているプラスチック液晶セルにおいて、絶縁膜を省くと導電性異物の混入により表示電極間ショートが発生する。そこで製造工程を増加させることなくショート防止を図る。
【解決手段】一方のプラスチック透明基板１１には、表示電極１０を覆う絶縁膜９と、この絶縁膜と同じ材料からなるホトリソスペーサ２とが一体形成されている。 （もっと読む）

【課題】透明基板の製造過程において樹脂組成物の半硬化物への異物の付着を抑制することができる透明基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように樹脂組成物を調製する工程と、樹脂組成物をキャリアフィルム１に塗工し半硬化させて、樹脂組成物のＢステージフィルム２を形成する工程と、樹脂組成物のＢステージフィルム２とガラス繊維の基材３とを積層成形する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

薄膜電子デバイスを製造する方法は、硬いキャリア基板（４０）に直接的に第１のプラスチックコーティング（ＰＩ−１）を設け、第１のプラスチックコーティング上に薄膜電子素子（４４）を形成することを有する。薄膜電子素子を覆う第２のプラスチックコーティング（４６）が設けられ、頂部に、第２のプラスチックコーティングによって離間されて付随の電子素子の真上に位置する部分を含む電極（４７）が備えられる。硬いキャリア基板（４０）は、レーザー解放プロセスによって第１のプラスチックコーティングから解き放たれる。この方法は、例えば薄膜トランジスタといった電子素子の製造用の基盤として、伝統的な材料を使用することを可能にする。第２のプラスチックコーティングは、既知のフィールド・シールデッド・ピクセル技術の部分を形成することができる。
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【課題】２枚の可撓性基板に高分子散乱型液晶を挟持し、紫外線カットフィルムが貼り付けられた液晶セルの反りを簡便な方法で防止できる液晶素子の提供すること。
【解決手段】液晶素子１００は、可撓性を有する基板３，６間に高分子散乱型液晶５を挟持した液晶セル１０と、この液晶セル１０の視認側に貼り付けられた紫外線カットフィルム１とを有しており、紫外線カットフィルム１と同じ材料からなるフィルム９が液晶素子１００の反視認側に貼り付けられている。 （もっと読む）

【課題】比較的硬い下地膜を形成しつつ可曲性を向上させた表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置は、画素電極を有する複数の画素と、前記画素電極の各々に接続されたスイッチ素子とを有する基板を含み、前記基板は、可曲性の絶縁基板と、前記絶縁基板上に設けられ互いに離間した複数の絶縁膜を含む第１の絶縁層とを含み、前記スイッチ素子は、前記各絶縁膜のいずれかの上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板表面上の処理液を溶剤で置換した後に当該溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。
【解決手段】基板表面Ｗｆの上方位置に遮断部材６４が配置されている。この遮断部材６４の中央部にはＩＰＡ液供給路が設けられており、当該ＩＰＡ液供給路に対してＩＰＡ液供給ユニットが接続されており、所定温度にまで加熱された高温の１００％ＩＰＡ液（高温ＩＰＡ液）を基板表面Ｗｆに向けて吐出可能となっている。そして、置換処理を行う際には、高温ＩＰＡ液を基板表面Ｗｆに供給することで基板表面Ｗｆ上のリンス液を置換している。このため、基板表面Ｗｆ上のリンス液が高い置換効率で高温ＩＰＡ液に置換されてスピン乾燥処理前に基板表面Ｗｆ上に残存するリンス液の量を抑制することができる。 （もっと読む）