【課題】ガラス基板で形成されたＴＦＴ基板に、カラーフィルタが形成され、樹脂で形成された対向基板を配置した液晶表示装置において基板の熱膨張による画素とカラーフィルタとのずれを減少させる。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００にはＴＦＴや画素電極を含む画素１２０がマトリクス状に形成されている。樹脂で形成された対向基板２００にはカラーフィルタ２１０Ｒ、Ｇ、Ｂがストライプ状に形成されている。対向基板２００内には、黒矢印の方向にグラスファイバが延在して含まれている。したがって、対向基板２００の黒矢印の方向は、グラスファイバの熱膨張係数に近いので、黒矢印の方向におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の熱膨張の差は小さい。一方、黒矢印と直角方向への対向基板２００の熱膨張は大きいが、この方向にずれても色純度には影響がない。したがって、対向基板２００にフレキシブルな樹脂基板を使用することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材、寸法精度高く形成されたパターン形成体を有するロール状パターン付フィルム基材、上記ロール状フィルム基材を製造するロール状フィルム基材の製造方法、高精度の寸法精度を有する画像表示素子、およびカラーフィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された空隙部材を有する空隙部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】可視光透過率の高い塗膜やパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含み、重合開始剤（Ｃ）が式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す；
Ｌ^１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す；
Ｌ^２が、単結合又は−ＣＯ−を表す；
Ｒ^２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す；
Ｒ^３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す］
で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】応答特性を確保すると共にコントラストを向上させることが可能な液晶表示素子を提供する。
【解決手段】複数のスリット２１が設けられた画素電極２０Ｂを有するＴＦＴ基板２０と、負の誘電率異方性を示す液晶分子４１を含む液晶層４０と、ＴＦＴ基板２０と液晶層４０を介して対向すると共に、画素電極２０Ｂと対向する領域全体に設けられた対向電極３０Ｂを有するＣＦ基板３０とを備えている。ＣＦ基板３０の側に位置する液晶分子４１Ｂは、ＴＦＴ基板２０の側に位置する液晶分子４１Ａよりも大きなプレチルトを有している。 （もっと読む）

【課題】複数のドメインを有する単位画素が形成される液晶表示パネル及びこれを製造する光学マスクを提供する。
【解決手段】単位画素を含む液晶表示パネルであって、上記単位画素は、第１の配向膜を有する第１の基板と、上記第１の配向膜から離隔し対向する第２の配向膜を有する第２の基板と、上記第１の配向膜と上記第２の配向膜間に介在する液晶層と、隣接した複数のドメインと、上記隣接した複数のドメイン間を定義するドメイン境界領域と、上記ドメイン境界領域に隣接する正常輝度領域とを有し、上記ドメイン境界領域内の上記第１の配向膜又は上記第２の配向膜のプレチルト角は、上記正常輝度領域内の上記第１の配向膜又は上記第２の配向膜のプレチルト角より大きい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搭載基板から光学基板を簡単に分離することが可能な、フレキシブル基板の製造プロセス及びそれに使用される両面テープを提供する。
【解決手段】本発明は、光学基板を両面テープによって搭載基板表面に貼り付け、光学基板上で後段製造プロセスを行い、後段製造プロセスの加工が完成した後、続いて、紫外光を両面テープに照射しその粘着力を下げる。この時、光学基板は、搭載基板と簡単に分離させることができる。両面テープは減粘の特性を備えているため、光学基板と搭載基板を素早く且つ簡単に分離させることができる以外に、両面テープを搭載基板表面から素早く且つ簡単に剥がすことができ、さらには、光学基板と搭載基板表面に粘性が残らない。 （もっと読む）

【課題】透過率が高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】複数の色材層が形成された第１基板と、前記第１基板に対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備えた液晶表示装置であって、前記第１基板は、前記色材層上に形成され、前記色材層毎に対応する前記液晶層の厚みを調整するギャップ調整層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度及び電気特性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）式（１）又は式（２）で表される酸発生剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷はアルキル基又は芳香族基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は芳香族基を表し、Ｘ^-はＢＹ₄^-、ＰＹ₆^-、ＡｓＹ₆^-、ＳｂＹ₆^-、又は、式（３）若しくは式（４）で表される一価のアニオンを表し、Ｙはハロゲン原子を表す。
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【課題】ＴＦＴ基板または対向基板の配向膜表面に形成された凹凸に起因して、ラビング処理が施されない部分が生ずることを防止する。
【解決手段】ラビングステージ３０の上にＴＦＴ基板１００が配置され、ＴＦＴ基板１００の表面にはＴＦＴ配線２０に起因する凸部が形成されている。表面に凸部が形成されると、特にラビング下流側において、この凸に起因してラビングされないラビング影が生ずる。ラビング工程において、回転方向が異なるラビングローラ１０を２個配置し、ＴＦＴ基板１００を、回転方向の異なる２個のラビングローラ１０に接触させてラビングを行うことによって、ラビング影の影響を無くす。これによって、黒表示のときの光漏れを防止する。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶に付随するディスクリネーションを軽減し、明るく応答性の良い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に形成され、遮光性顔料を樹脂に分散した遮光層からなる、複数の開口部を有するブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクスを備える透明基板上に形成された透明導電膜と、前記透明導電膜上の、前記複数の開口部により区分された画素領域に形成された複数色の着色画素とを具備する垂直配向液晶表示装置用カラーフィルタ基板。 （もっと読む）

【課題】良好な電圧応答特性を保持しつつ、高透過率を実現することが可能な液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１は、液晶層１５と、液晶層１５を挟んで対向配置された駆動基板１１および対向基板１８と、駆動基板１１の液晶層１５側に設けられた複数の画素電極１３と、複数の画素電極１３に対向して対向基板１８に設けられた対向電極１７とを備える。画素電極１３の液晶層１５側の面が凹面１３ａ、凸面１３ｂおよび垂直面１３ｃを含む凹凸構造を有する。電圧印加時の液晶層１５では、凹面１３ａおよび凸面１３ｂ間の高低差（段差）により、電界歪み（横電界）が発生する。一方で、スリットのような電極切り欠き部分が存在しないので、局所的な領域において液晶分子の配向が不十分となることが抑制される。 （もっと読む）

【課題】配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を１回の配向処理により形成して配向処置工程のタクトを短縮する。
【解決手段】細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第１のマスクパターン群６Ａと、該第１のマスクパターン群６Ａに平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第２のマスクパターン群６Ｂとを有するフォトマスク７に近接対向させて、配向膜が塗布された基板４を前記第１及び第２のマスクパターン群６Ａ，６Ｂに交差する方向に移動し、前記フォトマスク７の第１及び第２のマスクパターン群６Ａ，６Ｂに入射角度θが異なるＰ偏光を照射し、前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第１及び第２の配向領域を交互に形成するものである。 （もっと読む）

【課題】
数１０μｍ以下の厚みを有する薄ガラス基板を利用した表示装置を提供すること。
【解決手段】
薄ガラス基板（塗布薄ガラス）を利用し、該薄ガラス基板上に薄膜トランジスタ回路（ＴＦＴ回路層）が形成された表示装置において、該薄ガラス基板が、保持部材上に透明樹脂膜（樹脂薄膜）を形成し、該透明樹脂膜上に塗布ガラス材を塗布してから焼成し、その後、該保持部材が除去されて形成されたガラス基板であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板上に着色層を有するＣＯＡ型液晶表示装置において、着色層上に形成するＩＴＯ画素電極のエッチングに際して、発生し易いＩＴＯのエッチング残渣を抑制する。
【解決手段】着色層２４を有する表示領域２５の周縁領域に着色層２４の延長上に遮光層２７を形成し、着色層２４及び遮光層２７を覆う保護膜２８を形成する。このとき、遮光層２７の周縁端部を覆う保護膜２８の断面形状は、遮光層の端部から延在し、さらに周縁部に向かうテーパ形状とする。これにより、保護膜２８上に形成する画素電極３０は保護膜２８の急峻性に起因するレジストのエッチング残渣及びＩＴＯのエッチング残渣の発生を抑制することとなる。 （もっと読む）

【課題】画素電極表示板、液晶表示板アセンブリ、及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示板アセンブリは、共通電極を含む上部表示板と、共通電極と向かい合う複数の画素を含む下部表示板と、画素の各々に含まれ、相互に離隔した第１及び第２の領域と、第１及び第２の領域の第１及び第２の副画素と、第１の副画素に含まれ、上部表示板又は下部表示板に取り付けられた偏光子の偏光軸に対して第１の角度方向に配列され、第１の角度方向に実質的に垂直方向に離隔した複数の第１の微細ブランチを含む第１の副画素電極と、第２の副画素に含まれ、偏光子の偏光軸に対して第２の角度方向に配列され、第２の角度方向は、実質的に２０°内で第１の角度方向と異なり、第２の角度方向に実質的に垂直方向に離隔した複数の第２の微細ブランチを含む第２の副画素電極と、上部表示板と下部表示板間に介在する液晶層とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、上記プラスチック基板の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記プラスチック基板を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程と、上記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した上記プラスチック基板を、温湿度変化による寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上に上記パターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、上記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上にパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。
【解決手段】ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマＵＶランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。 （もっと読む）

【課題】無機層の上に有機層を設けた態様のバリア性積層体であって、有機層と無機層の密着性と曲げ耐性が良好であり、最外層の有機層の表面の平滑性が良好であるバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）芳香族基を有する（メタ）アクリレートを含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする有機無機積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂凸版を複数連結して大形化した樹脂凸版において、連結部分の幅を狭くして印刷面積を広くすることができる大形樹脂凸版の製法およびそれによって得られた大形樹脂凸版を提供する。
【解決手段】連結し合う樹脂凸版１，２の端縁部分を、重ね位置決め用アライメントマーク１１、２１で位置決めして重ね合わせ、その状態で、重なっている部分について、重ね位置決め用アライメントマーク１１、２１に対する所定の位置で、側面に沿って上下同時に切断する。この切断により、高精度かつ高効率に形成された新たな側面（切断面）同士を、互いに精密に突き合わせることが可能になる。その結果、連結部分において対面する側面と側面との間の間隔を、幅０．１〜５．０ｍｍと非常に狭くすることができる。 （もっと読む）