【課題】ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。
【解決手段】前方撮像カメラＣＭを備えた露光装置にて、基板５０上のガイド用マークを撮像し、基板の移動量を取得する下方撮像カメラＣＭ−Ｃが設けられ、予め、基板上の画素領域外にガイド用マーク域２４を設け、露光領域の末端部Ｃにては、ガイド用マークを撮像して取得した基板の移動量と、フォトマスクの位置合わせマークＫ２とが位置調整されることにより、第１パターンに対するフォトマスクのパターン（開口部）の位置合わせがなされ露光光が照射される。 （もっと読む）

【課題】液晶分子のドメインを安定的に形成することができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１信号線、第２信号線は、第１絶縁基板上に形成されていて、第２信号線は、第１信号線と絶縁されて交差している。画素電極は、画素ごとに形成され、画素は、第１信号線と第２信号線が交差して定義される。薄膜トランジスタは、第１信号線、第２信号線及び画素電極と連結されている。共通電極は、第２絶縁基板において第１絶縁基板と対向している側に形成されている。液晶層は、第１絶縁基板と第２絶縁基板との間に形成されている。ドメイン規制手段は、第２絶縁基板において第１絶縁基板と対向している側と第１絶縁基板の上とのうちの少なくとも一方に形成されている。ドメイン規制手段は、液晶層の液晶分子を画素の領域において複数のドメインに分割する。ドメイン規制手段は、節目を有する。節目は、凹部及び凸部の少なくとも一方である。 （もっと読む）

【課題】薄型化を実現すると共に、透明電極パターンの不可視化を達成する。
【解決手段】表示装置全体で透明電極パターンの不可視化を達成する。複数の画素電極２２と駆動電極４３が、ＴＦＴ基板２１と第２基板４１との間に配置されている。複数の検出電極４４は第２基板４１の駆動電極４３と反対の側に配置され、電極隣接層（例えば接着層４８）が第２基板４１と複数の検出電極４４に接し、その屈折率ｎａ（ｎｏ）が第２基板４１の屈折率ｎｓから４４検出電極の屈折率ｎｐまでの範囲内である。 （もっと読む）

【課題】表示装置の製造工程において基板の破損を抑制し、生産性に優れた低コストの表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示パネル２と機能パネル３とが貼り合わされてなる表示装置１の製造方法であって、素子基板１０またはカラーフィルター基板２０のいずれか一方の基板上に液晶５０ａの注入口５４を有するシール材５１を形成する工程と、シール材５１の設けられた側を挟んで素子基板１０とカラーフィルター基板２０とを貼り合わせて第１基板貼り合わせ体を作製する工程と、第１基板貼り合わせ体を構成する素子基板１０またはカラーフィルター基板２０のうち相対的に板厚の薄い一方の基板の外面に機能パネル３を貼り合わせて第２基板貼り合わせ体を作製する工程と、第２基板貼り合わせ体のシール材５１に囲まれた内部に注入口５４から液晶５０ａを注入する工程と、注入口５４を封止材５５により封止する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板上にカラーフィルタやＴＦＴをパターン形成する際の寸法安定性を向上させることができるパターン形成方法の提供。
【解決手段】フレキシブル基板３を寸法安定なハード基板１に仮留剤で仮留めする仮留工程Ａと、前記仮留剤のガラス転移温度以上、前記フレキシブル基板３を構成するポリマーのガラス転移温度以下の温度で前記フレキシブル基板３をアニール処理するアニール処理工程Ｂと、前記フレキシブル基板３上にフォトリソグラフィーによりパターンを形成するパターン形成工程Ｃと、パターン形成したフレキシブル基板３をハード基板１から剥離する剥離工程Ｄとを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】基板上に、平坦性が高く、しかも、密着性、透明性及び表面硬度等が良好な液晶表示素子用保護膜を形成可能な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、〔Ａ〕（ａ１）エポキシ基含有不飽和化合物、及び（ａ２）ラジカル重合性を有する不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体、並びに、〔Ｂ〕エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドによって変性された多官能（メタ）アクリレート化合物群から選択される少なくとも１種を含有する液晶表示素子の保護膜形成用熱硬化性樹脂組成物である。（ａ２）成分としては、不飽和カルボン酸及び不飽和多価カルボン酸無水物よりなる群から選択されることが好ましく、さらには、分子中にカルボン酸のアセタールエステル構造又はカルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造等を有する重合性不飽和化合物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、隔壁付近の強誘電性液晶の配向乱れを抑制することが可能な液晶表示素子を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、第１電極層が形成された第１基材上にストライプ状に形成された複数の隔壁と、上記第１電極層が形成された第１基材上に、上記隔壁の長手方向に対して平行および垂直の少なくともいずれか一方にストライプ状に形成された複数の凸状構造物と、上記隔壁および上記凸状構造物が形成された第１基材上に形成された重合性液晶用配向膜と、上記重合性液晶用配向膜上に形成され、重合性液晶を重合してなる重合液晶層とを有する隔壁側基板を備え、上記凸状構造物が、上記隔壁間の間隔よりも狭く、上記隔壁の最も近くに位置する隔壁側画素内の上記重合液晶層の最小膜厚と上記隔壁側画素以外の画素であり上記隔壁側画素に隣接する画素内の上記重合液晶層の最小膜厚とが均一になるような間隔で形成され、上記凸状構造物の高さが上記隔壁の高さよりも低い液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】タイリング・パネルのＬＣＤパネルのＴＦＴがラビング・プロセスの間に損傷されるという問題点、そしてタイリング・パネルを形成するのに種々な下側ガラス基板１及び種々な上側ガラス基板２が必要であるという問題点を解決する。
【解決手段】左側のＬＣＤパネルと、右側ＬＣＤパネルとを有し、左側ＬＣＤパネルの画素アレイ透明基板４１及び対向透明基板４２の一方の基板は下側の基板であり、そして他方の基板は上側の基板であり、右側ＬＣＤパネルの画素アレイ透明基板及び対向透明基板の一方の基板は上側の基板であり、そして他方の基板は下側の基板であり、そして左側ＬＣＤパネルの一方の基板と右側ＬＣＤパネルの他方の基板とを接着しそして左側ＬＣＤパネルの他方の基板と右側ＬＣＤパネルの一方の基板とを接着するように、左側ＬＣＤパネルの右エッジは右側ＬＣＤパネルの左エッジに接着されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリクスを広げることなく、隣接画素の影響による光漏れを抑制した
電界制御複屈折ＥＣＢモードの液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】本発明は、液晶層ＬＣを挟持して対向配置された第１基板（アレイ基板ＡＲ
）及び第２基板（カラーフィルター基板ＣＦ）を有し、前記第１基板の駆動領域には、サ
ブ画素ＳＰ毎に形成され、液晶層ＬＣを駆動する画素電極１９を有するＥＣＢモードの液
晶表示パネル１０Ａであって、サブ画素ＳＰ間には、サブ画素ＳＰの長手方向に沿って液
晶層ＬＣ側に突出する凸部Ｂ２が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大判基板からシール材の部分を切断して表示パネルを切り出すこと。
【解決手段】この製造方法によれば、スクライブ工程において、二次冷却された状態の大判基板１５０を共通のシール材５ｃと重なった部分に形成されたスクライブラインＢ１２，Ｂ２２に沿って切断し、単品の表示パネル１００を切り出す。よって、低温になって硬くなるとともに脆くなった状態で、切断工程を行うことにより、常温下では困難であった切断を可能とすることができる。 （もっと読む）

【課題】画素電極にスリットが設けられていても、カラーフィルタを構成する着色層の電気的な性質が液晶配向不良や、スイッチングの閾値ずれに悪影響を与えることがなく、透明樹脂による保護層（オーバーコート層）を設けることがなくても十分な性能を確保できるカラーフィルタおよびそれを具備した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも赤色画素、緑色画素、および青色画素を備え、且つ、各画素上にスリットが設けられた画素電極を備えるカラーフィルタにおいて、前記緑色画素を構成する着色層の誘電正接（ｔａｎδ）が周波数１０Ｈｚ〜１００Ｈｚの範囲で０．０２5以下であり、緑色画素の着色層の膜厚が１．０μｍから３．０μｍであり、緑色画素の膜厚１．５μｍでの色度ｙが０．５７以上であり、且つ、緑色画素の緑色着色組成物中に、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料を含む。 （もっと読む）

【課題】画素電極にスリットが設けられていても、カラーフィルタを構成する着色層の電気的な性質が液晶配向不良や、スイッチングの閾値ずれに悪影響を与えることがなく、透明樹脂による保護層（オーバーコート層）を設けることがなくても十分な性能を確保できるカラーフィルタおよびそれを具備した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも赤色画素、緑色画素、および青色画素を備え、且つ、各画素上にスリットが設けられた画素電極を備えるカラーフィルタにおいて、前記緑色画素を構成する着色層の誘電正接（ｔａｎδ）が周波数１０Ｈｚ〜１００Ｈｚの範囲で０．０２5以下であり、緑色画素の着色層の膜厚が１．０μｍから３．０μｍであり、緑色画素の膜厚１．５μｍでの色度ｙが０．５７以上であり、且つ、緑色画素の緑色着色組成物中に、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、引っ張り応力に耐えることができ、割れの発生を抑えることができる、曲面化した表示装置を提供することを目的としている。
【解決手段】表示装置は、第１凸面２６と第１凹面２８が相互に反対を向くように第１平板が湾曲した形状をなす第１基板１０と、第１凸面２６の周縁部の少なくとも湾曲領域に設けられた金属板１８と、を含む。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置を、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置をより容易な手法で精度よく製造する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板間に挟持された電気光学物質（５０）と、額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜（５３）と、シール領域（５２ａ）に配置されており、一対の基板を互いに貼り合わせるシール材（５２）とを備えた電気光学装置を製造できる。本製造方法は、一方の基板（２０）上の画素領域に凹部（２５）を形成する工程と、遮光膜（２３´）をベタ状に形成する工程と、シール領域において遮光膜を除去する工程と、画素領域において遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクス（２３）を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】生産性及び表示品質を向上させることのできる表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置は、画素領域に液晶ドメインを形成するための陥没パターンを含むドメイン形成層及びドメイン形成層上に形成された画素電極を含む第１基板と、第１基板に対向する全面に形成された共通電極を含む第２基板と、第１基板と第２基板との間に介在し、陥没パターンを中心に液晶ドメインを形成する液晶分子を固定させる反応性メソゲンを有する液晶層と、を含む。よって、共通電極に別途のパターンが無くても液晶ドメインを形成することができ、開口率を向上させることができ、製造工程を単純化させることができるため、表示装置の生産性及び表示品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置の提供。
【解決手段】複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されている。 （もっと読む）

【課題】画素内に２以上のドメインが形成される液晶表示装置において、基板を分割して配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを抑制し、歩留まりを向上することができる液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】一対の対向する基板と、上記基板間に設けられた液晶層と、少なくとも一方の基板の液晶層側の表面に設けられた配向膜とを備え、かつ画素内に配向方位が異なる２以上の領域を有する液晶表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、基板面内を２以上の露光領域に分割し、露光領域毎にフォトマスクを介して配向膜の露光を行う露光工程を含み、上記露光工程は、隣り合う露光領域の一部が重複するように露光するものであり、上記フォトマスクは、重複する露光領域に対応したハーフトーン部を有する液晶表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】垂直配向分割型液晶表示装置において、微細なストライプ状パターンを均一に形成する。
【解決手段】マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極１３を有するアクティブマトリクス基板１０と、画素電極１３に対向する対向電極２３を有する対向基板２０と、アクティブマトリクス基板１０および対向基板２０の間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを備える。アクティブマトリクス基板１０は、互いに異なる色光を透過する第１カラーフィルタ１２Ｂ、第２カラーフィルタ１２Ｒおよび第３カラーフィルタ１２Ｇをさらに有する。第１カラーフィルタ１２Ｂの厚さは、第２カラーフィルタ１２Ｒおよび第３カラーフィルタ１２Ｇの少なくとも一方の厚さと異なっている。複数の画素のそれぞれ内において、対向電極２３は、フィッシュボーン状パターンを有する。 （もっと読む）

【課題】ネガ型フォトレジストを用いても、高さの安定したフォトスペーサー及び上面に凹部が生じない配向制御突起が形成されるカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供する。
【解決手段】フォトスペーサーＰｓの形成に対応したパターンは透光部５３であり、配向制御突起Ｍｖの形成に対応したパターンはハーフトーン部５４であり、該ハーフトーン部は、半透光膜５５の中央部に透光部５６が設けられている。フォトスペーサーの幅を１２μｍ、高さを２．５〜３．９μｍに、配向制御突起の幅を１０μｍ、高さを１．０〜１．５μｍに形成する際に、半透光膜は透過率１５％を有するＩＴＯで、半透光膜の外形は１３〜１７μｍ、透光部は２．０〜３．０μｍであること。 （もっと読む）

【課題】配向制御突起が設けられたカラーフィルタの製造にて、各色着色画素間で膜厚に差があっても、形成された配向制御突起間に高さ及び幅のバラツキを発生させないフォトマスクを提供する。カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供する。
【解決手段】配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂ）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜（５５Ｒ、５５Ｇ、５５Ｂ）の幅方向中央部にストライプ状透光スリット（５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂ）が設けられている。ストライプ状遮光膜の幅が８〜１３μｍ、ストライプ状透光スリットの幅が１．５〜３．５μｍである。 （もっと読む）