電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器
【課題】液晶装置等の電気光学装置を、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置をより容易な手法で精度よく製造する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板間に挟持された電気光学物質（５０）と、額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜（５３）と、シール領域（５２ａ）に配置されており、一対の基板を互いに貼り合わせるシール材（５２）とを備えた電気光学装置を製造できる。本製造方法は、一方の基板（２０）上の画素領域に凹部（２５）を形成する工程と、遮光膜（２３´）をベタ状に形成する工程と、シール領域において遮光膜を除去する工程と、画素領域において遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクス（２３）を形成する工程とを備える。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板間に挟持された電気光学物質（５０）と、額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜（５３）と、シール領域（５２ａ）に配置されており、一対の基板を互いに貼り合わせるシール材（５２）とを備えた電気光学装置を製造できる。本製造方法は、一方の基板（２０）上の画素領域に凹部（２５）を形成する工程と、遮光膜（２３´）をベタ状に形成する工程と、シール領域において遮光膜を除去する工程と、画素領域において遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクス（２３）を形成する工程とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置を製造する方法、電気光学装置、及びこのような電気光学装置を備える電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置は、複数の画素部が形成された画素領域の周辺におけるシール領域においてシール材により一対の基板が貼り合わされ、一対の基板間には電気光学物質として例えば液晶が挟持される。この一対の基板間における液晶の厚み（即ち、セルギャップ）を制御するために、少なくともシール材内にギャップ材が散布され一対の基板間の間隔（即ち、基板間ギャップ）が制御される。
【０００３】
単板式でカラー表示を行うべく、画素領域に配置された複数の画素部の各々でカラー表示を行うために、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に着色層（即ち、カラーフィルタ）が設けられる。この場合、着色層が設けられる画素領域と着色層が設けられないシール領域との間に段差が生じ、基板間ギャップが異なる。このような事態を回避するため、例えば特許文献１では、一方の基板の画素領域に凹部を形成し、この凹部内に着色層を設けることで、一方の基板における液晶に面する側の上面の段差を軽減する技術が提案されている。また、特許文献２及び３では、隣り合う着色層間にブラックマトリクスを設けることにより、画素間に混色が発生することを防ぐ技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−０９９６１４号公報
【特許文献２】特開２００７−２７９１０１号公報
【特許文献３】特開２００２−２５０８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献１のように、一方の基板上の凹部内に着色層を形成する場合においても、特許文献２及び３に示されているブラックマトリクスを画素間に設けることが好ましい。しかしながら、凹部内にブラックマトリクスを高精度に製造することが困難であるという技術的な問題点がある。例えば、ブラックマトリクスを、基板上に形成した遮光膜をパターニングすることによって形成しようとする場合、凹部の段差によって、パターニングの際に遮光膜上に塗布されるレジスト膜に塗布ムラが生じてしまう。すると、レジスト膜の露光過程において使用される光線が、塗布ムラによって屈折等されてしまい、パターニングによって形成されるブラックマトリクスの寸法にズレを生じさせてしまう。ブラックマトリクスは少なくとも開口領域（即ち、画像表示領域のうち表示光が透過する領域）を部分的に規定するため、このようにブラックマトリクスの寸法にズレが生じてしまうと、表示光が透過する領域が、本来意図する領域からズレてしまい、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。また、ブラックマトリクスの寸法は、液晶装置の応答速度に影響を与える基板間のセルギャップの大きさを決定する要素ともなる。従って、この問題点は液晶装置の画質を左右する深刻な問題点となる。
【０００６】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置をより容易な手法で精度よく製造することができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域の周囲に位置する額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜と、前記額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材とを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうち一方の基板上の前記画素領域に凹部を形成する凹部形成工程と、前記一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する遮光膜形成工程と、前記一方の基板上における前記シール領域において、前記遮光膜を除去する遮光膜除去工程と、前記遮光膜除去工程の後に、前記一方の基板上における前記画素領域において、前記遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程とを備える。
【０００８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法によって製造される電気光学装置は、一対の基板がシール領域においてシール材によって互いに貼り合わされ、これらの基板間に電気光学物質として例えば液晶が封入される。即ち、一対の基板とシール材とに囲まれた内部空間に電気光学物質が封入された構造を採る。
【０００９】
基板上で平面的に見て電気光学物質が占める平面領域が、画素領域（又は「画像表示領域」や「画素アレイ領域」とも呼ぶ）とされ、この領域において、一対の基板の相互に対面する表面に、表示用の電極や配向膜が形成される。尚、画素領域の周囲には額縁遮光領域が配置されており、額縁遮光膜が設けられることによって画素領域の範囲を規定すると共に、光抜けによって画質が低下することを防止している。額縁遮光領域の更に周囲にはシール材が配置されるシール領域が設けられている。シール材は、典型的には、ギャップ材或いはスペーサ材が散布或いは混入されており、このギャップ材によって一対の基板間のギャップが制御されることにより、セルギャップ（液晶の厚み）が調整される。一対の基板のうち一方の基板上の画素領域には、例えば１画素内において、例えばＲ（赤色）用、Ｇ（緑色）用、Ｂ（青色）用のサブ画素が設けられており、夫々のサブ画素は、サブ画素間の混色を防止すべくブラックマトリクスによって区画されている。そして、Ｒ（赤色）用、Ｇ（緑色）用、Ｂ（青色）用のサブ画素の各々には、例えばカラーフィルタを構成する着色層が設けられ、着色層を介して例えば透過光が出射されることで、画素単位でカラー表示を行うことが可能となる。
【００１０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、凹部形成工程、遮光膜形成工程、遮光膜除去工程及びブラックマトリクス形成工程を含む。
【００１１】
凹部形成工程では、一方の基板上の画像領域において凹部を形成する。ブラックマトリクスや着色層が配置されることによって画素が形成される画素領域が凹むように形成することで、画素形成後の画素領域の周囲に位置する額縁領域と、その周囲に位置する領域（例えば、シール領域）との間に生ずる段差を低減することができる。例えば、一方の基板における他方の基板に対向する側の表面に配向膜を塗布法によって形成する際、一方の基板上における画素領域とその他の領域との間における段差に起因して生じる塗布ムラを低減することができる。これにより、一方の基板上における配向膜の塗布ムラに起因して生じる表示不良を低減できる。
【００１２】
遮光膜形成工程では、一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する。ここで、「ベタ状に形成」とは、一方の基板上に形成された凹部を少なくとも含む所定の領域に渡って、広く形成されていることを意味し、必ずしも一方の基板上の全体に渡って遮光膜が形成されていなくとも足りる。また、遮光膜は凹部上に形成されるので、遮光膜の表面には凹部に対応する段差が生ずることとなる。要するに、シール領域上に形成された遮光膜の表面は、画素領域上に形成された遮光膜の表面に比べて凸状に盛り上がるように形成される。
【００１３】
遮光膜除去工程では、シール領域において、遮光膜形成工程において形成した遮光膜を除去する。つまり、遮光膜の表面のうち凸状に突き出た領域であるシール領域上に形成された遮光膜を除去することによって、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差を軽減することができる。
【００１４】
ブラックマトリクス形成工程では、画像領域及び額縁領域において前記遮光膜をパターニングすることにより、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスを形成する。遮光膜のパターニングは、例えば遮光膜上にレジスト膜を塗布し、露光、現像、エッチング及び洗浄工程を実行することによって行われる。ここで、上述の遮光膜除去工程において、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクス）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差が軽減されるように、予めシール領域における遮光膜が除去されているため、遮光膜上にパターニングのために塗布されるレジスト膜には塗布ムラが生じにくい。仮に、塗布ムラが生じてしまうと、レジスト膜を露光する際に使用する光線が、塗布ムラの存在によって屈折等してしまい、レジスト膜に転写されるパターニング形状の寸法がずれてしまう。その結果、上述したように、表示光が透過する開口領域のズレや、表示画像への光学的なムラの発生を引き起こす原因となってしまう。その点、本発明に係る製造方法を用いれば、遮光膜上にパターニングのために塗布されるレジスト膜に塗布ムラが生じにくくすることができるため、ブラックマトリクスを高精度に形成することで、開口領域及びセルギャップを精度よく形成することが可能となる。その結果、表示画像に光学的なムラが生じにくく、優れた応答速度を有する、高品位な画像表示が可能な電気光学装置を製造することができる。
【００１５】
以上説明したように、本発明の電気光学装置の製造方法によれば、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置を製造することができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置の製造方法の一態様では、前記遮光膜除去工程は、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された前記遮光膜を併せて除去する。
【００１７】
この態様によれば、シール領域に形成された遮光膜だけでなく、額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された遮光膜も併せて除去する。すると、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差を軽減することができる。遮光膜除去工程においては、理想的にはシール領域においてのみ遮光膜を除去することが最も望ましいが、遮光膜を除去する際のパターニングの精度との兼ね合いから、現実的には、シール領域に遮光膜が幾分残存してしまうおそれがある。すると、レジスト膜を塗布する際に塗布ムラが生じる原因となる、遮光膜の表面とシール領域において露出している基板の表面との間の段差を、逆に増長してしまうおそれがある。そこで、本態様では、敢えて額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された遮光膜まで、併せて除去することによって、シール領域に遮光膜が残存することを防ぎ、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差をより確実に軽減することができる。
【００１８】
尚、額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域は、小さく留めることが好ましい。つまり、本態様では間隙領域においても一方の基板の表面が露出することになるため、当該間隙領域において露出した基板の表面と遮光膜（即ち、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面との間にも段差が生ずることとなる。従って、仮に間隙領域を大きく形成すると、当該段差もまた、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスを形成する際に遮光膜上に塗布するレジスト膜に塗布ムラを引き起こす原因となってしまう。しかし、基板の面積に比べて間隙領域が占める面積が小さければ、当該段差が、レジスト膜の塗布ムラの原因となるリスクを少なく留めることができるため、現実的に問題となることはない。つまり、間隙領域における表面と、遮光膜（即ち、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面との間に段差が少々生じたとしても、シール領域に遮光膜が残存することによってレジスト膜等の塗布ムラが促進されてしまう場合に比べて、レジスト膜に生じる塗布ムラは格段に少なく留めることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置は、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域及び該画素領域の周囲に位置する額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域を除く、前記シール領域によって囲まれた領域に形成された、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとを備える。
【００２０】
上述の電気光学装置の製造方法によれば、本態様に係る電気光学装置を好適に製造することが可能となる。この電気光学装置によれば、高品位なブラックマトリクスを備えることにより、表示画像に光学的なムラが生じにくく、優れた応答速度を有する、高品位な画像表示が可能な電気光学装置を実現することができる。
【００２１】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備する。
【００２２】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００２３】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ´線断面図である。
【図３】図２に示す断面図の一部を拡大して示す部分拡大図である。
【図４】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、順を追って示す工程断面図である。
【図５】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、図４に続いて順を追って示す工程断面図である。
【図６】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図７】電気光学装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
＜電気光学装置＞
以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【００２６】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ´線断面図である。尚、図２においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
【００２７】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板又は、シリコン基板である。対向基板２０は例えばＴＦＴアレイ基板１０と同様の材料からなる透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。尚、画像表示領域１０ａは、表示に寄与する光が出射され、画像表示を行うことが可能な領域である。
【００２８】
尚、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、本発明に係る「一対の基板」の一例であり、対向基板２０が本発明に係る「一方の基板」の一例であり、ＴＦＴアレイ基板１０が本発明に係る「他方の基板」の一例である。
【００２９】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、例えばシール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のビーズ状のギャップ材５６が散布されている。
【００３０】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。額縁遮光膜５３は、例えば遮光性金属膜等の遮光性材料から形成されている。尚、図２を参照して後述するように、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０に対向する側（即ち、図２中で上側）には、凹部２５が形成されており、額縁遮光膜５３は、凹部２５内に形成されている。
【００３１】
ＴＦＴアレイ基板１０上における、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域５２ａよりも内側に、サンプリング回路７がＴＦＴアレイ基板１０の法線方向から見て額縁遮光膜５３に重なるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域５２ａの内側に、ＴＦＴアレイ基板１０の法線方向から見て額縁遮光膜５３に重なるようにして設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で電気的に接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３２】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００３３】
次に図２を参照して、本実施形態にかかる液晶装置の断面構造について説明する。ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や例えば走査線、データ線等の配線、例えば走査線駆動回路１０４、データ線駆動回路１０１等の回路を構成する各種電子素子が作り込まれた積層構造が形成されている。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層に、絶縁膜１４を介して、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９がマトリクス状に設けられている。画素電極９上には、ラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）が形成されている。
【００３４】
他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０に対向する側（即ち、液晶層５０に面する側）には、凹部２５が形成されており、この凹部２５内にＲＧＢ（即ち、赤色、緑色、青色）に対応するカラーフィルタ層４（即ち、カラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ）がサブ画素毎に形成されている。
【００３５】
凹部２５は、対向基板２０におけるシール領域５２ａよりも内側の領域が、凹むように形成されている。凹部２５は、例えば、対向基板２０に対してエッチング処理が施されることにより形成される。尚、凹部２５は、対向基板２０に代えて或いは加えて、対向基板２０上に形成された絶縁膜に対してエッチング処理が施されることにより形成されてもよい。
【００３６】
赤色のカラーフィルタ層４Ｒは、赤色の光（即ち、例えば６２５〜７４０ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層であり、緑色のカラーフィルタ層４Ｇは、緑色の光（即ち、例えば５００〜５６５ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層であり、青色のカラーフィルタ層は、青色の光（即ち、例えば４５０〜４８５ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層である。例えば赤色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素、緑色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素、及び青色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素という、三つのサブ画素の集合から、一つの画素（即ち、一つのカラー画素或いはフルカラー画素）が構築されている。
【００３７】
対向基板２０に形成された凹部２５内には、隣り合うカラーフィルタ層４の境界を規定するように、ブラックマトリクス２３が例えば遮光性金属（例えばアルミニウム）等の遮光性材料から形成されている。ブラックマトリクス２３は、対向基板２０上で平面的に見て格子状にパターニングされている。このように、ブラックマトリクス２３が画像表示領域１０ａにおいて隣り合うサブ画素間に沿って形成されることによって、サブ画素間の混色や表示画像のコントラスト比の向上に貢献している。
【００３８】
本実施形態では特に、ブラックマトリクス２３は、後述する製造方法を採用することにより、高精度な寸法を有している。仮にブラックマトリクス２３の寸法精度が悪いと、ブラックマトリクス２３は、画像表示領域１０ａにおいて、開口領域を少なくとも部分的に規定しているため、表示光が透過する開口領域が、本来意図する範囲からズレてしまい、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。従って、本実施形態に係る液晶装置は、高精度な寸法を有するブラックマトリクス２３を備えることによって、高品位な画像表示を実現することができる。また、ブラックマトリクスの寸法は、液晶装置の応答速度に影響を与える基板間のセルギャップの大きさを決定する要素ともなるため、この観点からも、高精度な寸法を有するブラックマトリクスを備える本実施形態に係る液晶装置は、高品位な画像表示を実現することができる。
【００３９】
尚、図２では図示を省略するが、対向基板２０上の積層構造におけるブラックマトリクス２３とカラーフィルタ層４との層間には、絶縁膜２７（図３参照）が例えばＢＳＧ（Boron Silicate Glass：ボロンシリケートガラス）等の絶縁材料から形成されている。絶縁膜２７は、ブラックマトリクス２３を保護する保護膜としての機能を有している。具体的には、製造プロセスにおいて、ブラックマトリクス２３が形成された後に行われるフォトエッチング処理に用いられるアルカリ性の現像液によって例えばアルミニウムから形成されたブラックマトリクス２３が腐食してしまうことを、絶縁膜２７によって防ぐことができる。
【００４０】
対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４の上層側には、オーバーコート膜２４が、対向基板２０のほぼ全面を覆うように、例えば、アクリル樹脂、酸化シリコン（ＳｉＯ２）等の絶縁材料から形成されている。オーバーコート膜２４は、カラーフィルタ層４を保護する保護膜としての機能を有している。
【００４１】
オーバーコート膜２４上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９と対向して、対向基板２０のほぼ全面に亘って（例えばベタ状に）形成されている。対向電極２１上にはラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）が形成されている。
【００４２】
液晶層５０は、本発明に係る「電気光学物質」の一例としての例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜（即ち、画素電極９上に形成された配向膜、及び対向電極２１上に形成された配向膜）間で、所定の配向状態をとる。
【００４３】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００４４】
次に、本実施形態に係る液晶装置の対向基板側の構成について、図１及び図２に加えて図３を参照して詳細に説明する。ここに図３は、図２に示す断面図の一部を拡大して示す部分拡大図である。
【００４５】
カラーフィルタ層４、ブラックマトリクス２３及び額縁遮光膜５３は、対向基板２０に形成された凹部２５内に設けられている。このように凹部内に設けることによって、カラーフィルタ層４、ブラックマトリクス２３及び額縁遮光膜５３の厚みに起因して生ずる、対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４が形成された領域（即ち、画素領域）と、カラーフィルタ層４及び額縁遮光膜５３のいずれもが形成されていない領域であるシール領域との間における段差を低減できる。そのため、例えば、対向基板２０の最上層側に形成された対向電極２１上に配向膜を塗布法によって形成する際、画素領域とカラーフィルタ層４及び額縁遮光膜５３のいずれもが形成されていない領域であるシール領域５２ａとの間における段差に起因して生じる塗布ムラを低減できる。これにより、対向基板２０上における塗布ムラに起因して生じる表示不良を低減できる。
【００４６】
本実施形態では特に、カラーフィルタ層４の液晶層５０に面するカラーフィルタ層上面４ｔは、対向基板２０における液晶層５０に面する側の表面のうちシール領域５２ａにおける表面であるシール領域面５２ｔよりも、ＴＦＴアレイ基板１０側に形成されている。即ち、本実施形態では特に、カラーフィルタ層４は、対向基板２０上に形成された凹部２５内に、カラーフィルタ層上面４ｔが、対向基板２０におけるシール材５２と重なるシール領域面５２ｔよりもＴＦＴアレイ基板１０に近くなるように形成されている。
【００４７】
より具体的には、対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４が形成された領域とカラーフィルタ層４が形成されていないシール領域５２ａとの間における段差ｄ１と、液晶層５０の厚み（即ち、セルギャップ）Ｇとの間に、（セルギャップＧの大きさ）＋（段差ｄ１の大きさ）≧２．０ｕｍの関係式が成立するように、カラーフィルタ層４の厚み及び凹部２５の深さが調整されている。つまり、本実施形態に係る液晶装置１００では、シール材に散布或いは混入されるギャップ材として、比較的安価である例えば直径が約２．０ｕｍであるビーズ状のガラス、グラスファイバ等のギャップ材を用いて、セルギャップを例えば２．０ｕｍよりも狭くすることが可能である。例えば、ギャップ材５６として直径が約２．０ｕｍのビーズ状のギャップ材が用いられる場合でも、段差ｄ１（或いは段差ｄ２）の大きさが例えば約１．２ｕｍとなるように、カラーフィルタ層４の厚みを調整することで、セルギャップＧの大きさを約０．８ｕｍとすることができる。従って、本実施形態に係る液晶装置１００は、比較的低い製造コストで狭セルギャップを実現可能である。
【００４８】
以上説明した液晶装置１００は、次に説明する製造方法によって製造可能である。
＜製造方法＞
上述した実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図４及び図５を参照して説明する。図４及び図５は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、図２に示した断面図に対応して、順を追って示す工程断面図である。尚、ここでは、本実施形態に特徴的な対向基板２０側の製造方法について主に説明することとし、その他の部分の製造方法については説明を適宜省略する。
【００４９】
先ず、図４（ａ）を参照して、本発明に係る凹部形成工程の一例について説明する。ここでは、透明基板からなる対向基板２０上におけるシール領域５２ａよりも内側の領域に凹部２５を形成する。具体的には、透明基板からなる対向基板２０上におけるシール領域５２ａを覆うようにレジスト膜５１０を形成し、このレジスト膜５１０をマスクとして対向基板２０に対してエッチング処理を施す。これにより、シール領域５２ａよりも内側の領域が窪むように、対向基板２０に凹部２５が形成される。その後、レジスト膜５１０を除去する。尚、本実施形態では、凹部２５は、その深さが約１．０ｕｍとなるように形成される。このように凹部２５を形成することにより、画素領域と、その他の領域（例えば、シール領域５２ａ）との間に生ずる段差を低減することができる。
【００５０】
次に、図４（ｂ）を参照して、本発明に係る遮光膜形成工程の一例について説明する。ここでは、スパッタリング法により対向基板２０上の全面に、例えばアルミニウム等の遮光性金属膜２３´をベタ状に形成する。遮光性金属膜２３´は、凹部２５上を含め、対向基板２０上に広く形成されるため、その表面には凹部２５に対応する段差部２７が形成されることとなる。
【００５１】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´は対向基板２０上の全面に形成されているが、対向基板２０上の凹部２５を少なくとも含む所定の領域に渡って広く形成されていればよい。
【００５２】
続いて、図４（ｃ）を参照して、本発明に係る遮光膜除去工程について説明する。ここでは、遮光性金属膜２３´のうち窪んでいる領域上にレジスト膜５２０を形成し、当該レジスト膜５２０をマスクとして金属遮光膜２３´に対してエッチング処理を施すことにより、シール領域５２aにおいて遮光性金属膜２３´を除去し、対向基板２０の表面を露出させる。これにより、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、画素領域に残された遮光性金属膜２３´の表面との段差を軽減することができる。
【００５３】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´のうちシール領域５２ａに近接する一の領域２９（図４（ｄ）において点線で囲んだ領域）に形成された遮光性金属膜２３´も併せて除去される。すると、画素領域における遮光性金属膜２３´の表面と、シール領域５２ａにおいて露出している対向基板２０の表面との間の段差をより確実に軽減することができるようになる。理想的にはシール領域５２ａにおいてのみ遮光性金属膜２３´を除去することが最も望ましいが、遮光性金属膜２３´を除去する際のパターニングの精度との兼ね合いから、現実的には、シール領域５２ａに遮光性金属２３膜´が幾分残存してしまうおそれがある。本実施形態では、敢えてシール領域５２ａに形成された遮光性金属膜２３´だけでなく、画素領域のうちシール領域５２ａとの境界付近の一領域２９に形成された遮光性金属膜２３´も併せて一部除去することによって、画素領域における遮光性金属膜２３´の表面と、シール領域５２ａにおける対向基板２０の表面との間の段差をより確実に軽減させている。
【００５４】
尚、画素領域において遮光性金属膜２３´を除去する一の領域２９は、小さく留めることが好ましい。つまり、本態様では一の領域２９においても対向基板２０の表面が露出することになるため、当該露出した対向基板２０の表面とその他の画素領域における遮光性金属膜２３´の表面との間にも段差が生じてしまう。仮に一の領域２９が大きければ、当該段差もまた、ブラックマトリクス２３を形成する際に遮光性金属膜２３´上に塗布するレジスト膜５３０（図５（ｅ）参照）に塗布ムラを引き起こす原因となってしまう。しかし、画素領域全体に比べて一の領域２９が占める面積が小さければ、当該段差が、レジスト膜５３０の塗布ムラの原因となるリスクを少なく留めることができるため、現実的に問題となることはない。即ち、一の領域２９における表面と、遮光性金属膜２３´が形成されているその他の画素領域における表面との間に段差が少々生じたとしても、シール領域５２ａに遮光性金属膜２３´が幾分残存してレジスト膜５３０の塗布ムラが促進されてしまう場合に比べて、レジスト膜５３０に生じる塗布ムラは格段に少なく留めることができる。
【００５５】
続いて、図５（ｅ）から（ｈ）を参照して、本発明に係るブラックマトリクス形成工程について説明する。
【００５６】
まず、図５（ｅ）に示すように、遮光性金属膜２３´をパターニングすることによりブラックマトリクス２３を形成する。ここでは、遮光性金属膜２３´をエッチングによりパターニングするために、遮光性金属膜２３´上にレジスト膜５３０を形成する。上述のように、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、遮光性金属膜２３´の表面との段差は軽減されているので、遮光性金属膜２３´上に塗布されるレジスト膜５３０に塗布ムラは殆ど生じない。
【００５７】
遮光性金属膜２３´のパターニングは、例えば遮光膜上に塗布したレジスト膜５３０を露光及び現像することによってマスクを形成し、当該マスクを介して遮光性金属膜２３´に対してエッチング処理を施すことによって行われる（図５（ｆ）参照）。このとき、レジスト膜に塗布ムラが殆ど生じないため、レジスト膜に転写されるパターニング形状の寸法の精度を高くすることができる。その結果、画像表示領域１０ａにおける開口領域を少なくとも部分的に規定するブラックマトリクス２３の寸法、及び基板間のセルギャップを精度よく形成することが可能となる。
【００５８】
このように、ブラックマトリクス２３の寸法を精度よく形成することによって、高品位な画像表示が可能な液晶装置を製造することが可能となる。上述したように、仮にブラックマトリクス２３の寸法精度が悪いと、表示光が透過する開口領域の寸法も少なからずズレてしまうため、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。本実施形態では、レジスト膜の塗布ムラが生じにくいように、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、遮光性金属膜２３´の表面との段差を軽減することにより、ブラックマトリクス２３を高精度な寸法で形成することによって、高品位な画像表示を実現可能な液晶装置を製造することができる。
【００５９】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´をパターニングすることにより、ブラックマトリクス２３を形成すると同時に、額縁遮光膜５３も形成している。
【００６０】
以上の工程によってブラックマトリクス２３を形成したのち、図５（ｇ）に示すように、対向基板２０における画像表示領域１０ａに、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）夫々に対応したカラーフィルタ層４を形成する。例えば、初めに、Ｒに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを対向基板２０上に均一に塗布する。その後、露光及びパターニングを行い、不要なカラーレジストを除去し、カラーフィルタ層４Ｒを完成させる。次に、Ｇに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを、先に形成したカラーフィルタ層４Ｒ及び対向基板２０上に塗布し、不要なカラーレジストを除去してカラーフィルタ層４Ｇを完成させる。同様に、Ｂに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを先に形成したカラーフィルタ層４Ｒ及び４Ｇ並びに対向基板２０上に塗布し、不要なカラーレジストを除去してカラーフィルタ層４Ｂを完成させる。このようにして、対向基板２０における画像表示領域１０ａにＲＧＢ夫々に対応したカラーフィルタ層４が完成する。
【００６１】
尚、本実施形態では、カラーフィルタ層４は、カラーフィルタとしての機能を発揮するために、その厚さが約１．８ｕｍとなるように形成される。
【００６２】
次に、図５（ｈ）に示すように、対向基板２０上のほぼ全面を覆うようにオーバーコート膜２４を形成する。オーバーコート膜２４は、例えば、アクリル樹脂、酸化シリコン等の透明な絶縁材料が所定の膜厚で一様に塗布されることにより形成される。
【００６３】
続いて、オーバーコート膜２４上に対向電極２１を形成する。対向電極２１は、ＩＴＯ等の透明材料から形成される。
【００６４】
続いて、対向電極２１上にラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）等が形成されることによって、対向基板が完成する。
【００６５】
このようにして完成させられた対向基板２０は、別途、素子や配線等が形成されたＴＦＴアレイ基板１０（図２参照）と、シール領域５２ａに配置されたシール材５２（図２参照）によって貼り合わされ、液晶層５０が両基板間に挟持されること等によって、上述の実施形態に係る液晶装置１００が完成する。
【００６６】
以上説明した製造方法によれば、高精度な寸法を有するブラックマトリクス２３を有する液晶装置を製造することが可能となる。このようにして製造された液晶装置は、表示光が透過する開口領域が精度よく形成されていることから、光学的なムラの少ない高品位な画像表示が可能である。
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
【００６７】
先ず、上述した液晶装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について、図６を参照して説明する。図６は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、上述した液晶装置を適用した表示部１２０５とを備えている。
【００６８】
次に、上述した液晶装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について、図７を参照して説明する。図７は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、上述した液晶装置を適用した表示部１３０５を備える。
【００６９】
尚、本発明の電気光学装置を適用可能な電子機器としては、図６及び図７を参照して説明した電子機器の他にも、プロジェクタ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。
【００７０】
また本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、シリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。
【００７１】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００７２】
４ カラーフィルタ層、 ４ｔ カラーフィルタ層上面、 ９…画素電極、 １０ ＴＦＴアレイ基板、 １０ａ 画像表示領域、 ２０ 対向基板、 ２１ 対向電極、 ２３ ブラックマトリクス、 ２３´ 遮光性金属膜、 ２４ オーバーコート膜、 ２５ 凹部、 ５０ 液晶層、 ５２ シール材、 ５２ａ シール領域、 ５３ 額縁遮光膜、 ５６ ギャップ材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置を製造する方法、電気光学装置、及びこのような電気光学装置を備える電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置は、複数の画素部が形成された画素領域の周辺におけるシール領域においてシール材により一対の基板が貼り合わされ、一対の基板間には電気光学物質として例えば液晶が挟持される。この一対の基板間における液晶の厚み（即ち、セルギャップ）を制御するために、少なくともシール材内にギャップ材が散布され一対の基板間の間隔（即ち、基板間ギャップ）が制御される。
【０００３】
単板式でカラー表示を行うべく、画素領域に配置された複数の画素部の各々でカラー表示を行うために、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に着色層（即ち、カラーフィルタ）が設けられる。この場合、着色層が設けられる画素領域と着色層が設けられないシール領域との間に段差が生じ、基板間ギャップが異なる。このような事態を回避するため、例えば特許文献１では、一方の基板の画素領域に凹部を形成し、この凹部内に着色層を設けることで、一方の基板における液晶に面する側の上面の段差を軽減する技術が提案されている。また、特許文献２及び３では、隣り合う着色層間にブラックマトリクスを設けることにより、画素間に混色が発生することを防ぐ技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−０９９６１４号公報
【特許文献２】特開２００７−２７９１０１号公報
【特許文献３】特開２００２−２５０８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献１のように、一方の基板上の凹部内に着色層を形成する場合においても、特許文献２及び３に示されているブラックマトリクスを画素間に設けることが好ましい。しかしながら、凹部内にブラックマトリクスを高精度に製造することが困難であるという技術的な問題点がある。例えば、ブラックマトリクスを、基板上に形成した遮光膜をパターニングすることによって形成しようとする場合、凹部の段差によって、パターニングの際に遮光膜上に塗布されるレジスト膜に塗布ムラが生じてしまう。すると、レジスト膜の露光過程において使用される光線が、塗布ムラによって屈折等されてしまい、パターニングによって形成されるブラックマトリクスの寸法にズレを生じさせてしまう。ブラックマトリクスは少なくとも開口領域（即ち、画像表示領域のうち表示光が透過する領域）を部分的に規定するため、このようにブラックマトリクスの寸法にズレが生じてしまうと、表示光が透過する領域が、本来意図する領域からズレてしまい、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。また、ブラックマトリクスの寸法は、液晶装置の応答速度に影響を与える基板間のセルギャップの大きさを決定する要素ともなる。従って、この問題点は液晶装置の画質を左右する深刻な問題点となる。
【０００６】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置をより容易な手法で精度よく製造することができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域の周囲に位置する額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜と、前記額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材とを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうち一方の基板上の前記画素領域に凹部を形成する凹部形成工程と、前記一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する遮光膜形成工程と、前記一方の基板上における前記シール領域において、前記遮光膜を除去する遮光膜除去工程と、前記遮光膜除去工程の後に、前記一方の基板上における前記画素領域において、前記遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程とを備える。
【０００８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法によって製造される電気光学装置は、一対の基板がシール領域においてシール材によって互いに貼り合わされ、これらの基板間に電気光学物質として例えば液晶が封入される。即ち、一対の基板とシール材とに囲まれた内部空間に電気光学物質が封入された構造を採る。
【０００９】
基板上で平面的に見て電気光学物質が占める平面領域が、画素領域（又は「画像表示領域」や「画素アレイ領域」とも呼ぶ）とされ、この領域において、一対の基板の相互に対面する表面に、表示用の電極や配向膜が形成される。尚、画素領域の周囲には額縁遮光領域が配置されており、額縁遮光膜が設けられることによって画素領域の範囲を規定すると共に、光抜けによって画質が低下することを防止している。額縁遮光領域の更に周囲にはシール材が配置されるシール領域が設けられている。シール材は、典型的には、ギャップ材或いはスペーサ材が散布或いは混入されており、このギャップ材によって一対の基板間のギャップが制御されることにより、セルギャップ（液晶の厚み）が調整される。一対の基板のうち一方の基板上の画素領域には、例えば１画素内において、例えばＲ（赤色）用、Ｇ（緑色）用、Ｂ（青色）用のサブ画素が設けられており、夫々のサブ画素は、サブ画素間の混色を防止すべくブラックマトリクスによって区画されている。そして、Ｒ（赤色）用、Ｇ（緑色）用、Ｂ（青色）用のサブ画素の各々には、例えばカラーフィルタを構成する着色層が設けられ、着色層を介して例えば透過光が出射されることで、画素単位でカラー表示を行うことが可能となる。
【００１０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、凹部形成工程、遮光膜形成工程、遮光膜除去工程及びブラックマトリクス形成工程を含む。
【００１１】
凹部形成工程では、一方の基板上の画像領域において凹部を形成する。ブラックマトリクスや着色層が配置されることによって画素が形成される画素領域が凹むように形成することで、画素形成後の画素領域の周囲に位置する額縁領域と、その周囲に位置する領域（例えば、シール領域）との間に生ずる段差を低減することができる。例えば、一方の基板における他方の基板に対向する側の表面に配向膜を塗布法によって形成する際、一方の基板上における画素領域とその他の領域との間における段差に起因して生じる塗布ムラを低減することができる。これにより、一方の基板上における配向膜の塗布ムラに起因して生じる表示不良を低減できる。
【００１２】
遮光膜形成工程では、一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する。ここで、「ベタ状に形成」とは、一方の基板上に形成された凹部を少なくとも含む所定の領域に渡って、広く形成されていることを意味し、必ずしも一方の基板上の全体に渡って遮光膜が形成されていなくとも足りる。また、遮光膜は凹部上に形成されるので、遮光膜の表面には凹部に対応する段差が生ずることとなる。要するに、シール領域上に形成された遮光膜の表面は、画素領域上に形成された遮光膜の表面に比べて凸状に盛り上がるように形成される。
【００１３】
遮光膜除去工程では、シール領域において、遮光膜形成工程において形成した遮光膜を除去する。つまり、遮光膜の表面のうち凸状に突き出た領域であるシール領域上に形成された遮光膜を除去することによって、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差を軽減することができる。
【００１４】
ブラックマトリクス形成工程では、画像領域及び額縁領域において前記遮光膜をパターニングすることにより、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスを形成する。遮光膜のパターニングは、例えば遮光膜上にレジスト膜を塗布し、露光、現像、エッチング及び洗浄工程を実行することによって行われる。ここで、上述の遮光膜除去工程において、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクス）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差が軽減されるように、予めシール領域における遮光膜が除去されているため、遮光膜上にパターニングのために塗布されるレジスト膜には塗布ムラが生じにくい。仮に、塗布ムラが生じてしまうと、レジスト膜を露光する際に使用する光線が、塗布ムラの存在によって屈折等してしまい、レジスト膜に転写されるパターニング形状の寸法がずれてしまう。その結果、上述したように、表示光が透過する開口領域のズレや、表示画像への光学的なムラの発生を引き起こす原因となってしまう。その点、本発明に係る製造方法を用いれば、遮光膜上にパターニングのために塗布されるレジスト膜に塗布ムラが生じにくくすることができるため、ブラックマトリクスを高精度に形成することで、開口領域及びセルギャップを精度よく形成することが可能となる。その結果、表示画像に光学的なムラが生じにくく、優れた応答速度を有する、高品位な画像表示が可能な電気光学装置を製造することができる。
【００１５】
以上説明したように、本発明の電気光学装置の製造方法によれば、高品位なカラー表示が可能な電気光学装置を製造することができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置の製造方法の一態様では、前記遮光膜除去工程は、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された前記遮光膜を併せて除去する。
【００１７】
この態様によれば、シール領域に形成された遮光膜だけでなく、額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された遮光膜も併せて除去する。すると、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差を軽減することができる。遮光膜除去工程においては、理想的にはシール領域においてのみ遮光膜を除去することが最も望ましいが、遮光膜を除去する際のパターニングの精度との兼ね合いから、現実的には、シール領域に遮光膜が幾分残存してしまうおそれがある。すると、レジスト膜を塗布する際に塗布ムラが生じる原因となる、遮光膜の表面とシール領域において露出している基板の表面との間の段差を、逆に増長してしまうおそれがある。そこで、本態様では、敢えて額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された遮光膜まで、併せて除去することによって、シール領域に遮光膜が残存することを防ぎ、画素領域及び額縁領域における遮光膜（即ち額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面と、シール領域における基板の表面との間の段差をより確実に軽減することができる。
【００１８】
尚、額縁領域とシール領域との間隙に位置する間隙領域は、小さく留めることが好ましい。つまり、本態様では間隙領域においても一方の基板の表面が露出することになるため、当該間隙領域において露出した基板の表面と遮光膜（即ち、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面との間にも段差が生ずることとなる。従って、仮に間隙領域を大きく形成すると、当該段差もまた、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスを形成する際に遮光膜上に塗布するレジスト膜に塗布ムラを引き起こす原因となってしまう。しかし、基板の面積に比べて間隙領域が占める面積が小さければ、当該段差が、レジスト膜の塗布ムラの原因となるリスクを少なく留めることができるため、現実的に問題となることはない。つまり、間隙領域における表面と、遮光膜（即ち、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとなる遮光膜）の表面との間に段差が少々生じたとしても、シール領域に遮光膜が残存することによってレジスト膜等の塗布ムラが促進されてしまう場合に比べて、レジスト膜に生じる塗布ムラは格段に少なく留めることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置は、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域及び該画素領域の周囲に位置する額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域を除く、前記シール領域によって囲まれた領域に形成された、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスとを備える。
【００２０】
上述の電気光学装置の製造方法によれば、本態様に係る電気光学装置を好適に製造することが可能となる。この電気光学装置によれば、高品位なブラックマトリクスを備えることにより、表示画像に光学的なムラが生じにくく、優れた応答速度を有する、高品位な画像表示が可能な電気光学装置を実現することができる。
【００２１】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備する。
【００２２】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００２３】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ´線断面図である。
【図３】図２に示す断面図の一部を拡大して示す部分拡大図である。
【図４】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、順を追って示す工程断面図である。
【図５】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、図４に続いて順を追って示す工程断面図である。
【図６】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図７】電気光学装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
＜電気光学装置＞
以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【００２６】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ´線断面図である。尚、図２においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
【００２７】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板又は、シリコン基板である。対向基板２０は例えばＴＦＴアレイ基板１０と同様の材料からなる透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。尚、画像表示領域１０ａは、表示に寄与する光が出射され、画像表示を行うことが可能な領域である。
【００２８】
尚、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、本発明に係る「一対の基板」の一例であり、対向基板２０が本発明に係る「一方の基板」の一例であり、ＴＦＴアレイ基板１０が本発明に係る「他方の基板」の一例である。
【００２９】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、例えばシール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のビーズ状のギャップ材５６が散布されている。
【００３０】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。額縁遮光膜５３は、例えば遮光性金属膜等の遮光性材料から形成されている。尚、図２を参照して後述するように、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０に対向する側（即ち、図２中で上側）には、凹部２５が形成されており、額縁遮光膜５３は、凹部２５内に形成されている。
【００３１】
ＴＦＴアレイ基板１０上における、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域５２ａよりも内側に、サンプリング回路７がＴＦＴアレイ基板１０の法線方向から見て額縁遮光膜５３に重なるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域５２ａの内側に、ＴＦＴアレイ基板１０の法線方向から見て額縁遮光膜５３に重なるようにして設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で電気的に接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３２】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００３３】
次に図２を参照して、本実施形態にかかる液晶装置の断面構造について説明する。ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や例えば走査線、データ線等の配線、例えば走査線駆動回路１０４、データ線駆動回路１０１等の回路を構成する各種電子素子が作り込まれた積層構造が形成されている。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層に、絶縁膜１４を介して、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９がマトリクス状に設けられている。画素電極９上には、ラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）が形成されている。
【００３４】
他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０に対向する側（即ち、液晶層５０に面する側）には、凹部２５が形成されており、この凹部２５内にＲＧＢ（即ち、赤色、緑色、青色）に対応するカラーフィルタ層４（即ち、カラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ）がサブ画素毎に形成されている。
【００３５】
凹部２５は、対向基板２０におけるシール領域５２ａよりも内側の領域が、凹むように形成されている。凹部２５は、例えば、対向基板２０に対してエッチング処理が施されることにより形成される。尚、凹部２５は、対向基板２０に代えて或いは加えて、対向基板２０上に形成された絶縁膜に対してエッチング処理が施されることにより形成されてもよい。
【００３６】
赤色のカラーフィルタ層４Ｒは、赤色の光（即ち、例えば６２５〜７４０ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層であり、緑色のカラーフィルタ層４Ｇは、緑色の光（即ち、例えば５００〜５６５ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層であり、青色のカラーフィルタ層は、青色の光（即ち、例えば４５０〜４８５ｎｍの波長を有する光）のみを通過させるカラーフィルタ層である。例えば赤色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素、緑色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素、及び青色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素という、三つのサブ画素の集合から、一つの画素（即ち、一つのカラー画素或いはフルカラー画素）が構築されている。
【００３７】
対向基板２０に形成された凹部２５内には、隣り合うカラーフィルタ層４の境界を規定するように、ブラックマトリクス２３が例えば遮光性金属（例えばアルミニウム）等の遮光性材料から形成されている。ブラックマトリクス２３は、対向基板２０上で平面的に見て格子状にパターニングされている。このように、ブラックマトリクス２３が画像表示領域１０ａにおいて隣り合うサブ画素間に沿って形成されることによって、サブ画素間の混色や表示画像のコントラスト比の向上に貢献している。
【００３８】
本実施形態では特に、ブラックマトリクス２３は、後述する製造方法を採用することにより、高精度な寸法を有している。仮にブラックマトリクス２３の寸法精度が悪いと、ブラックマトリクス２３は、画像表示領域１０ａにおいて、開口領域を少なくとも部分的に規定しているため、表示光が透過する開口領域が、本来意図する範囲からズレてしまい、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。従って、本実施形態に係る液晶装置は、高精度な寸法を有するブラックマトリクス２３を備えることによって、高品位な画像表示を実現することができる。また、ブラックマトリクスの寸法は、液晶装置の応答速度に影響を与える基板間のセルギャップの大きさを決定する要素ともなるため、この観点からも、高精度な寸法を有するブラックマトリクスを備える本実施形態に係る液晶装置は、高品位な画像表示を実現することができる。
【００３９】
尚、図２では図示を省略するが、対向基板２０上の積層構造におけるブラックマトリクス２３とカラーフィルタ層４との層間には、絶縁膜２７（図３参照）が例えばＢＳＧ（Boron Silicate Glass：ボロンシリケートガラス）等の絶縁材料から形成されている。絶縁膜２７は、ブラックマトリクス２３を保護する保護膜としての機能を有している。具体的には、製造プロセスにおいて、ブラックマトリクス２３が形成された後に行われるフォトエッチング処理に用いられるアルカリ性の現像液によって例えばアルミニウムから形成されたブラックマトリクス２３が腐食してしまうことを、絶縁膜２７によって防ぐことができる。
【００４０】
対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４の上層側には、オーバーコート膜２４が、対向基板２０のほぼ全面を覆うように、例えば、アクリル樹脂、酸化シリコン（ＳｉＯ２）等の絶縁材料から形成されている。オーバーコート膜２４は、カラーフィルタ層４を保護する保護膜としての機能を有している。
【００４１】
オーバーコート膜２４上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９と対向して、対向基板２０のほぼ全面に亘って（例えばベタ状に）形成されている。対向電極２１上にはラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）が形成されている。
【００４２】
液晶層５０は、本発明に係る「電気光学物質」の一例としての例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜（即ち、画素電極９上に形成された配向膜、及び対向電極２１上に形成された配向膜）間で、所定の配向状態をとる。
【００４３】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００４４】
次に、本実施形態に係る液晶装置の対向基板側の構成について、図１及び図２に加えて図３を参照して詳細に説明する。ここに図３は、図２に示す断面図の一部を拡大して示す部分拡大図である。
【００４５】
カラーフィルタ層４、ブラックマトリクス２３及び額縁遮光膜５３は、対向基板２０に形成された凹部２５内に設けられている。このように凹部内に設けることによって、カラーフィルタ層４、ブラックマトリクス２３及び額縁遮光膜５３の厚みに起因して生ずる、対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４が形成された領域（即ち、画素領域）と、カラーフィルタ層４及び額縁遮光膜５３のいずれもが形成されていない領域であるシール領域との間における段差を低減できる。そのため、例えば、対向基板２０の最上層側に形成された対向電極２１上に配向膜を塗布法によって形成する際、画素領域とカラーフィルタ層４及び額縁遮光膜５３のいずれもが形成されていない領域であるシール領域５２ａとの間における段差に起因して生じる塗布ムラを低減できる。これにより、対向基板２０上における塗布ムラに起因して生じる表示不良を低減できる。
【００４６】
本実施形態では特に、カラーフィルタ層４の液晶層５０に面するカラーフィルタ層上面４ｔは、対向基板２０における液晶層５０に面する側の表面のうちシール領域５２ａにおける表面であるシール領域面５２ｔよりも、ＴＦＴアレイ基板１０側に形成されている。即ち、本実施形態では特に、カラーフィルタ層４は、対向基板２０上に形成された凹部２５内に、カラーフィルタ層上面４ｔが、対向基板２０におけるシール材５２と重なるシール領域面５２ｔよりもＴＦＴアレイ基板１０に近くなるように形成されている。
【００４７】
より具体的には、対向基板２０上におけるカラーフィルタ層４が形成された領域とカラーフィルタ層４が形成されていないシール領域５２ａとの間における段差ｄ１と、液晶層５０の厚み（即ち、セルギャップ）Ｇとの間に、（セルギャップＧの大きさ）＋（段差ｄ１の大きさ）≧２．０ｕｍの関係式が成立するように、カラーフィルタ層４の厚み及び凹部２５の深さが調整されている。つまり、本実施形態に係る液晶装置１００では、シール材に散布或いは混入されるギャップ材として、比較的安価である例えば直径が約２．０ｕｍであるビーズ状のガラス、グラスファイバ等のギャップ材を用いて、セルギャップを例えば２．０ｕｍよりも狭くすることが可能である。例えば、ギャップ材５６として直径が約２．０ｕｍのビーズ状のギャップ材が用いられる場合でも、段差ｄ１（或いは段差ｄ２）の大きさが例えば約１．２ｕｍとなるように、カラーフィルタ層４の厚みを調整することで、セルギャップＧの大きさを約０．８ｕｍとすることができる。従って、本実施形態に係る液晶装置１００は、比較的低い製造コストで狭セルギャップを実現可能である。
【００４８】
以上説明した液晶装置１００は、次に説明する製造方法によって製造可能である。
＜製造方法＞
上述した実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図４及び図５を参照して説明する。図４及び図５は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、図２に示した断面図に対応して、順を追って示す工程断面図である。尚、ここでは、本実施形態に特徴的な対向基板２０側の製造方法について主に説明することとし、その他の部分の製造方法については説明を適宜省略する。
【００４９】
先ず、図４（ａ）を参照して、本発明に係る凹部形成工程の一例について説明する。ここでは、透明基板からなる対向基板２０上におけるシール領域５２ａよりも内側の領域に凹部２５を形成する。具体的には、透明基板からなる対向基板２０上におけるシール領域５２ａを覆うようにレジスト膜５１０を形成し、このレジスト膜５１０をマスクとして対向基板２０に対してエッチング処理を施す。これにより、シール領域５２ａよりも内側の領域が窪むように、対向基板２０に凹部２５が形成される。その後、レジスト膜５１０を除去する。尚、本実施形態では、凹部２５は、その深さが約１．０ｕｍとなるように形成される。このように凹部２５を形成することにより、画素領域と、その他の領域（例えば、シール領域５２ａ）との間に生ずる段差を低減することができる。
【００５０】
次に、図４（ｂ）を参照して、本発明に係る遮光膜形成工程の一例について説明する。ここでは、スパッタリング法により対向基板２０上の全面に、例えばアルミニウム等の遮光性金属膜２３´をベタ状に形成する。遮光性金属膜２３´は、凹部２５上を含め、対向基板２０上に広く形成されるため、その表面には凹部２５に対応する段差部２７が形成されることとなる。
【００５１】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´は対向基板２０上の全面に形成されているが、対向基板２０上の凹部２５を少なくとも含む所定の領域に渡って広く形成されていればよい。
【００５２】
続いて、図４（ｃ）を参照して、本発明に係る遮光膜除去工程について説明する。ここでは、遮光性金属膜２３´のうち窪んでいる領域上にレジスト膜５２０を形成し、当該レジスト膜５２０をマスクとして金属遮光膜２３´に対してエッチング処理を施すことにより、シール領域５２aにおいて遮光性金属膜２３´を除去し、対向基板２０の表面を露出させる。これにより、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、画素領域に残された遮光性金属膜２３´の表面との段差を軽減することができる。
【００５３】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´のうちシール領域５２ａに近接する一の領域２９（図４（ｄ）において点線で囲んだ領域）に形成された遮光性金属膜２３´も併せて除去される。すると、画素領域における遮光性金属膜２３´の表面と、シール領域５２ａにおいて露出している対向基板２０の表面との間の段差をより確実に軽減することができるようになる。理想的にはシール領域５２ａにおいてのみ遮光性金属膜２３´を除去することが最も望ましいが、遮光性金属膜２３´を除去する際のパターニングの精度との兼ね合いから、現実的には、シール領域５２ａに遮光性金属２３膜´が幾分残存してしまうおそれがある。本実施形態では、敢えてシール領域５２ａに形成された遮光性金属膜２３´だけでなく、画素領域のうちシール領域５２ａとの境界付近の一領域２９に形成された遮光性金属膜２３´も併せて一部除去することによって、画素領域における遮光性金属膜２３´の表面と、シール領域５２ａにおける対向基板２０の表面との間の段差をより確実に軽減させている。
【００５４】
尚、画素領域において遮光性金属膜２３´を除去する一の領域２９は、小さく留めることが好ましい。つまり、本態様では一の領域２９においても対向基板２０の表面が露出することになるため、当該露出した対向基板２０の表面とその他の画素領域における遮光性金属膜２３´の表面との間にも段差が生じてしまう。仮に一の領域２９が大きければ、当該段差もまた、ブラックマトリクス２３を形成する際に遮光性金属膜２３´上に塗布するレジスト膜５３０（図５（ｅ）参照）に塗布ムラを引き起こす原因となってしまう。しかし、画素領域全体に比べて一の領域２９が占める面積が小さければ、当該段差が、レジスト膜５３０の塗布ムラの原因となるリスクを少なく留めることができるため、現実的に問題となることはない。即ち、一の領域２９における表面と、遮光性金属膜２３´が形成されているその他の画素領域における表面との間に段差が少々生じたとしても、シール領域５２ａに遮光性金属膜２３´が幾分残存してレジスト膜５３０の塗布ムラが促進されてしまう場合に比べて、レジスト膜５３０に生じる塗布ムラは格段に少なく留めることができる。
【００５５】
続いて、図５（ｅ）から（ｈ）を参照して、本発明に係るブラックマトリクス形成工程について説明する。
【００５６】
まず、図５（ｅ）に示すように、遮光性金属膜２３´をパターニングすることによりブラックマトリクス２３を形成する。ここでは、遮光性金属膜２３´をエッチングによりパターニングするために、遮光性金属膜２３´上にレジスト膜５３０を形成する。上述のように、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、遮光性金属膜２３´の表面との段差は軽減されているので、遮光性金属膜２３´上に塗布されるレジスト膜５３０に塗布ムラは殆ど生じない。
【００５７】
遮光性金属膜２３´のパターニングは、例えば遮光膜上に塗布したレジスト膜５３０を露光及び現像することによってマスクを形成し、当該マスクを介して遮光性金属膜２３´に対してエッチング処理を施すことによって行われる（図５（ｆ）参照）。このとき、レジスト膜に塗布ムラが殆ど生じないため、レジスト膜に転写されるパターニング形状の寸法の精度を高くすることができる。その結果、画像表示領域１０ａにおける開口領域を少なくとも部分的に規定するブラックマトリクス２３の寸法、及び基板間のセルギャップを精度よく形成することが可能となる。
【００５８】
このように、ブラックマトリクス２３の寸法を精度よく形成することによって、高品位な画像表示が可能な液晶装置を製造することが可能となる。上述したように、仮にブラックマトリクス２３の寸法精度が悪いと、表示光が透過する開口領域の寸法も少なからずズレてしまうため、表示画像に光学的なムラを生じさせてしまう。本実施形態では、レジスト膜の塗布ムラが生じにくいように、シール領域５２ａにおいて露出した対向基板２０の表面と、遮光性金属膜２３´の表面との段差を軽減することにより、ブラックマトリクス２３を高精度な寸法で形成することによって、高品位な画像表示を実現可能な液晶装置を製造することができる。
【００５９】
尚、本実施形態では、遮光性金属膜２３´をパターニングすることにより、ブラックマトリクス２３を形成すると同時に、額縁遮光膜５３も形成している。
【００６０】
以上の工程によってブラックマトリクス２３を形成したのち、図５（ｇ）に示すように、対向基板２０における画像表示領域１０ａに、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）夫々に対応したカラーフィルタ層４を形成する。例えば、初めに、Ｒに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを対向基板２０上に均一に塗布する。その後、露光及びパターニングを行い、不要なカラーレジストを除去し、カラーフィルタ層４Ｒを完成させる。次に、Ｇに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを、先に形成したカラーフィルタ層４Ｒ及び対向基板２０上に塗布し、不要なカラーレジストを除去してカラーフィルタ層４Ｇを完成させる。同様に、Ｂに対応するフォトレジストを含んだカラーレジストを先に形成したカラーフィルタ層４Ｒ及び４Ｇ並びに対向基板２０上に塗布し、不要なカラーレジストを除去してカラーフィルタ層４Ｂを完成させる。このようにして、対向基板２０における画像表示領域１０ａにＲＧＢ夫々に対応したカラーフィルタ層４が完成する。
【００６１】
尚、本実施形態では、カラーフィルタ層４は、カラーフィルタとしての機能を発揮するために、その厚さが約１．８ｕｍとなるように形成される。
【００６２】
次に、図５（ｈ）に示すように、対向基板２０上のほぼ全面を覆うようにオーバーコート膜２４を形成する。オーバーコート膜２４は、例えば、アクリル樹脂、酸化シリコン等の透明な絶縁材料が所定の膜厚で一様に塗布されることにより形成される。
【００６３】
続いて、オーバーコート膜２４上に対向電極２１を形成する。対向電極２１は、ＩＴＯ等の透明材料から形成される。
【００６４】
続いて、対向電極２１上にラビング処理等の配向処理が施された配向膜（図示省略）等が形成されることによって、対向基板が完成する。
【００６５】
このようにして完成させられた対向基板２０は、別途、素子や配線等が形成されたＴＦＴアレイ基板１０（図２参照）と、シール領域５２ａに配置されたシール材５２（図２参照）によって貼り合わされ、液晶層５０が両基板間に挟持されること等によって、上述の実施形態に係る液晶装置１００が完成する。
【００６６】
以上説明した製造方法によれば、高精度な寸法を有するブラックマトリクス２３を有する液晶装置を製造することが可能となる。このようにして製造された液晶装置は、表示光が透過する開口領域が精度よく形成されていることから、光学的なムラの少ない高品位な画像表示が可能である。
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
【００６７】
先ず、上述した液晶装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について、図６を参照して説明する。図６は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、上述した液晶装置を適用した表示部１２０５とを備えている。
【００６８】
次に、上述した液晶装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について、図７を参照して説明する。図７は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、上述した液晶装置を適用した表示部１３０５を備える。
【００６９】
尚、本発明の電気光学装置を適用可能な電子機器としては、図６及び図７を参照して説明した電子機器の他にも、プロジェクタ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。
【００７０】
また本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、シリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。
【００７１】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００７２】
４ カラーフィルタ層、 ４ｔ カラーフィルタ層上面、 ９…画素電極、 １０ ＴＦＴアレイ基板、 １０ａ 画像表示領域、 ２０ 対向基板、 ２１ 対向電極、 ２３ ブラックマトリクス、 ２３´ 遮光性金属膜、 ２４ オーバーコート膜、 ２５ 凹部、 ５０ 液晶層、 ５２ シール材、 ５２ａ シール領域、 ５３ 額縁遮光膜、 ５６ ギャップ材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域の周囲に位置する額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜と、前記額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材とを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち一方の基板上の前記画素領域に凹部を形成する凹部形成工程と、
前記一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する遮光膜形成工程と、
前記一方の基板上における前記シール領域において、前記遮光膜を除去する遮光膜除去工程と、
前記遮光膜除去工程の後に、前記一方の基板上における前記画素領域において、前記遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記遮光膜除去工程は、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された前記遮光膜を併せて除去することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
一対の基板と、
該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域及び該画素領域の周囲に位置する額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、
前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域を除く、前記シール領域によって囲まれた領域に形成された、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスと
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域の周囲に位置する額縁遮光領域に配置された額縁遮光膜と、前記額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材とを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち一方の基板上の前記画素領域に凹部を形成する凹部形成工程と、
前記一方の基板上に、遮光膜をベタ状に形成する遮光膜形成工程と、
前記一方の基板上における前記シール領域において、前記遮光膜を除去する遮光膜除去工程と、
前記遮光膜除去工程の後に、前記一方の基板上における前記画素領域において、前記遮光膜をパターニングすることにより、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記遮光膜除去工程は、前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域に形成された前記遮光膜を併せて除去することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
一対の基板と、
該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が配置された画素領域及び該画素領域の周囲に位置する額縁領域の更に周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、
前記基板上で平面的に見て、前記額縁領域と前記シール領域との間隙に位置する間隙領域を除く、前記シール領域によって囲まれた領域に形成された、額縁遮光膜を含むブラックマトリクスと
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１９１３１３（Ｐ２０１０−１９１３１３Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３７３９６（Ｐ２００９−３７３９６）
【出願日】平成２１年２月２０日（２００９．２．２０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２０日（２００９．２．２０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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