説明

Fターム[2H090MA15]の内容

Fターム[2H090MA15]に分類される特許

1 - 20 / 559



【課題】パッシブ方式による3次元画像表示に関して、高い精度により効率良くパターン位相差フィルムを量産することができるようにする。
【解決手段】ロール版20により配向膜に係る凹凸形状を作製するようにして、ロール版20の母材40を回転させながら、斜めに傾けたラビングロール52を回転させながら母材40に押し付けて移動させることによりロール版20の全周をラビング処理する。 (もっと読む)


【課題】広視野角での高コントラストを実現することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】一対の透明電極13で液晶層11を挟んで構成される垂直配向型の液晶表示装置は、一対の透明電極13が第1透明電極13Aと第2透明電極13Bとで構成され、第1透明電極13Aに、単一又は複数の開口部を有する波型形状の第1スリット21が複数並設され、第2透明電極13Bには、液晶層11の厚み方向に沿う方向視で第1スリット21と重複しない位置に第2スリット31を備えている。 (もっと読む)


【課題】 表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 走査線GLと、走査線GLと交差する信号線SLと、信号線SLが延びる方向に延び走査線GLが延びる方向に並んで配置された複数の櫛歯画素電極PE1〜PE3を含む画素電極PEと、複数の櫛歯画素電極PE1〜PE3の間において信号線SLが延びる方向に延び、櫛歯画素電極PE1〜PE3と所定のスペースを置いて配置された複数の櫛歯共通電極CE1〜CE4を含む共通電極CEと、少なくとも信号線SLと信号線SLの近傍に配置された櫛歯画素電極PE1、PE3との間に配置された遮光部COM1と、を備えた第1基板101と、信号線SLが延びる方向と略直交する方向において遮光部COM1と同じ幅であって信号線SLと対向する遮光層BMを備え、第1基板101と対向して配置された第2基板102と、第1基板101と第2基板102との間に挟持された液晶層LQと、を備えた液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】広い視野角が得られるとともに、光の透過率を高くすることができるVA型の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶層を介して対向する第1電極4および第2電極に、それぞれ十字形の開口部および矩形の開口部を格子状に設ける。第1電極4に設ける開口部のパターンと、第2電極に設ける開口部のパターンとは同じである。そして、第2電極に設けられる十字形の開口部は、観察者方向から見たときに、第1電極4において縦方向および横方向に2つずつ並ぶ4つの十字形の開口部の対向する凹頂点同士を対角の頂点とする正方形の領域31に属する。 (もっと読む)


【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】第1基板11及び第2基板12と、第1基板に設けられた第1電極13a及び第2電極13bと、第2基板に設けられた第3電極14a及び第4電極14bと、第1基板に設けられた第1垂直配向膜15と、第2基板に設けられた第2垂直配向膜16と、第1基板と第2基板の相互間に設けられた液晶層19を含み、第1及び第2垂直配向膜の少なくとも一方は一軸配向処理されており、第1電極と第3電極は、互いに重畳した領域がドットマトリクス表示部1を構成し、第2電極と第4電極は、互いに重畳した領域がセグメント表示部2を構成し、液晶層は、例えば、誘電率異方性が負の液晶材料と、感光性樹脂モノマーを重合させた高分子体を有しており、ドットマトリクス表示部に対応する領域よりもセグメント表示部に対応する領域の方が高分子体によって付加されるプレティルト角が小さい。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置及び配向膜、並びにこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】配向膜は、基板上のポリシロキサンに結合した第1プレチルト官能基、第2プレチルト官能基及び第1垂直配向性官能基を含む。環状化合物を含む前記第1垂直配向性官能基33は、前記基板191に対して実質的に垂直方向に配列する。前記第2プレチルト官能基と架橋した前記第1プレチルト官能基35aは、前記基板に対して傾くように配列する。 (もっと読む)


【課題】薄いフィルムの上下振動による偏光部の形成精度の低下を防止し、また、シワの発生を防止することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム10は、バックロール5に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム10はバックロール5によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、マスク7及びスリットマスク17が配置されている。フィルム10は、このマスク7の開口を介して、露光光源6からのCW円偏光の露光光がそのほぼ全面に照射され、スリットマスク17の複数個のスリットを介して、露光光源16からのCCW円偏光の露光光が帯状に照射される。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、PSA方式の液晶表示素子において、長時間の連続駆動後、特に長時間光に曝された場合に、液晶配向性能及び電気特性の維持に優れた液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供することを課題とする。特にIPSモード、FFSモードといった横電界方式の液晶表示素子において上記課題を達成できるような液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜及び液晶表示素子を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン、[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、及び[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有する液晶配向剤である。 (もっと読む)


【課題】表示品位の劣化を抑制する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配置された複数の画素PXを含むアクティブエリアACTと、画素PXに配置された画素電極PEと、画素電極PE上に配置され配向処理が成された第1配向膜AL1と、を備えた第1基板ARと、画素電極PEを挟んだ両側に配置された共通電極CEと、共通電極CE上に配置され配向処理が成された第2配向膜AL2と、を備えた第2基板CTと、第1基板ARと第2基板CTとの間に保持された液晶分子LMを含む液晶層LQと、を備え、第1配向膜AL1と第2配向膜AL2との配向処理方向は互いに平行であって、画素電極PEおよび共通電極CEは、配向処理方向に対して鋭角に傾いた方向に延びている液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】液晶表示装置は、第1基板、第2基板、第1基板に設けられた第1電極及び第1垂直配向膜、第2基板に設けられた第2電極及び第2垂直配向膜、第1基板と第2基板の相互間に設けられた液晶層、液晶層を囲んで第1基板と第2基板の相互間に設けられたシール材を含む。第1基板と第2基板の重なる領域内には、第1電極と第2電極が重なる部分を内包する有効表示領域と、シール材と重畳する領域と当該シール材の端部から有効表示領域に向かって少なくとも1mm以上の幅の領域からなる外周領域が設けられている。第1及び第2垂直配向膜の少なくとも一方は、外周領域において液晶層に接する部位が有効表示領域において液晶層と接する部位よりも相対的に高いプレティルト角を発現する。 (もっと読む)


【課題】高速応答性等の諸特性に優れたPSA方式の液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、この液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備えるPSA方式の液晶表示素子及びこのような液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]下記式(1)で表される基を有する化合物(以下、「[A]化合物」ともいう。)を含有する。


(式(1)中、Rは少なくとも2個の単環構造を有する基である。Rは二重結合、三重結合、エーテル結合、エステル結合又は酸素原子を含む連結基である。aは0〜1の整数である。) (もっと読む)


【課題】 IPSモード及びFFSモードに比べて焼き付きの発生を低減することができる横電界モードあるいは斜め電界モードを採ることができ、優れたコントラストの視角特性を得ることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板に隙間を置いて対向配置された第2基板と、複数の第1液晶層LQ1及び複数の第2液晶層LQ2を有した液晶層LQと、それぞれ第1液晶層及び第2液晶層を1つずつ含む複数の画素PXと、を備える。第2液晶層LQ2は、第1液晶層LQ1の液晶分子LMの初期配向とは異なる方向に液晶分子LMの初期配向を採る。各画素PXは、第1基板上に形成され、第2方向Yに沿って延出した主画素電極と、第2基板上に形成され、第1方向に主画素電極を挟んで位置し第2方向Yに沿って延出した一対の主共通電極と、を有する。 (もっと読む)


【課題】コストの削減を可能とするとともに表示品位の劣化を抑制することを可能とする。
【解決手段】第1方向に延出した第1ゲート配線及び第2ゲート配線と第2方向に延出した第1ソース配線及び第2ソース配線とで囲まれスイッチング素子とコンタクトするコンタクト位置よりも第1ゲート配線側に位置し第1方向に延出した第1主画素電極及びコンタクト位置よりも第2ゲート配線側に位置し第1方向に延出した第2主画素電極を備えコンタクト位置から第1主画素電極までの第2方向に沿った距離とコンタクト位置から第2主画素電極までの第2方向に沿った距離とが同一である画素電極を備えた第1基板と、コンタクト位置、第1ゲート配線、及び、第2ゲート配線のそれぞれの上方を通り第1方向に延出した主共通電極を備えた第2基板と、第1基板と第2基板との間に保持された液晶分子を含む液晶層と、を備えた液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性および長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示素子の製造方法は、下記工程を経る。導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、(A)ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種の重合体100重量部、(B)重合性不飽和結合を2個以上有する化合物10〜100重量部ならびに(C)ラジカル捕捉剤1〜50重量部を含有する重合体組成物を塗布し、次いでこれを加熱して塗膜を形成する工程、前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶分子の層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを形成する工程、および前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程。 (もっと読む)


【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】液晶表示装置は、第1基板、第2基板、第1基板に設けられた第1電極13、第2基板に設けられた第2電極14、第1基板に設けられた第1垂直配向膜、第2基板に設けられた第2垂直配向膜、少なくとも第1電極と第2電極の重畳する領域内に配置され、第1基板と第2基板の双方に当接した複数の柱状スペーサー18、第1基板と第2基板の相互間に設けられた液晶層を備える。第1垂直配向膜は、一方向へ配向処理を施され、液晶層は、電圧無印加時においてプレティルト角を有しており、複数の柱状スペーサーは、各々、平面視において液晶層の層厚方向の略中央における液晶分子の配向方向に対して直交せず、かつ平行ではない線からなる輪郭を有する。 (もっと読む)


【課題】大がかりな製造装置を用いなくても容易に応答特性を向上させることが可能な液晶表示素子を備え、しかも、液晶分子にプレチルトを付与するときに印加する電圧の一層の低電圧化を可能にした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、一対の基板20,30の対向面側に設けられた一対の配向膜22,32、及び、一対の配向膜22,32の間に設けられ、負の誘電率異方性を有する液晶分子41を含む液晶層40を有する液晶表示素子を備え、一対の配向膜22,32のうちの少なくとも一方は、側鎖として架橋性官能基を有する高分子化合物が架橋あるいは変形した化合物を含み、液晶層は、更に、環構造、及び、環構造を結ぶスペーサーを有する分子を含み、液晶分子は、架橋あるいは変形した化合物によってプレチルトが付与される。 (もっと読む)


【課題】液晶の複屈折により光波を変調する液晶デバイスにおいて、良好に配向制御と位相制御を行い、残留複屈折が生じた場合でも、それを補償することを可能とする。
【解決手段】電極を形成した第1の基板1と第2の基板2とで液晶分子5を挟持し、液晶の複屈折により光波を変調する液晶デバイスにおいて、第1の基板1、又は第2の基板2には、光波の波長より短いピッチpを有するグレーティング構造6を設け、グレーティング構造6は、液晶分子5の配向方向を制御し、かつ、液晶を通過した光波の位相制御を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部と同一方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有し、上記第1パターン部および上記第2パターン部の厚みが異なることを特徴とする3次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】良好な表示特性の液晶装置を高い生産性で製造する製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極9を備えた第1基板10と、これに対向配置される第2基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極9に対応する位置が表示領域Pとされ、この表示領域P間が非表示領域BMとされる液晶装置の製造方法である。画素電極9を表示領域Pとなる位置に、その周縁部を非表示領域BMとなる位置に形成し、画素電極9上の表示領域Pとなる位置に垂直配向膜41を形成し、非表示領域BMの少なくとも画素電極9の周縁部上に水平配向膜42を形成する。このとき、基板10A上の配向膜42aにラビング処理し、レジストパターンRをマスクにして表面改質して、水平配向膜42を形成し、垂直配向膜41の材料を形成する。 (もっと読む)


1 - 20 / 559