【課題】 偏光板の引っ張り応力に起因する液晶表示パネルの反りの発生を防止する。
【解決手段】 一対の基板（アレイ基板２及び対向基板３）を貼り合わせ、これら基板２，３間に液晶材料を封入した後、貼り合わされた一対の基板２，３の少なくとも表示面側の面に偏光板４を貼り合わせるに際し、貼り合わされた一対の基板２，３（偏光板貼り合わせ前の液晶表示パネル１Ａ）を湾曲させ、偏光板４を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタなどとして用いられ、製造時における寸法変化が有効に防止され、これにより優れた寸法精度を有する光学フィルムを提供すること。
【解決手段】環状オレフィン重合体基材の表面に、ガスバリア膜を形成する工程と、前記ガスバリア膜上に、感放射線性樹脂組成物膜を形成する工程と、前記環状オレフィン重合体基材の前記感放射線性樹脂組成物膜に、放射線を照射して、選択露光を施し、潜像パターンを形成する工程と、放射線を照射した前記環状オレフィン重合体基材にアルカリ処理を施す工程と、アルカリ処理を施した前記環状オレフィン重合体基材を、１２０〜２５０℃でポストベークする工程と、を有する環状オレフィン重合体を基材とする光学フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、均一な高さで、液晶表示装置に用いた際に焼きつき等が生じることの少ない高品質な液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成された着色層と、上記着色層上に形成された透明電極層と、上記透明電極層上の上記着色層に対応する領域に形成された液晶配向制御用突起とを有するカラーフィルタであって、上記液晶配向制御用突起は、１種または２種の原子による６員環構造を有し、上記６員環構造中は３つの不飽和結合を含み、かつ上記６員環構造に隣接する原子の少なくとも１つ以上が酸素原子または窒素原子であるユニットを有する高分子を含有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成させる。 （もっと読む）

【課題】バックライトに白色ＬＥＤを採用しながらも明るく深みのある赤色色度を得ることを可能とする液晶表示装置、及び上記バックライトにマッチングする赤色再現性を有する、パターン形状の良好な赤色画素を備えるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】青色ＬＥＤと赤色発光蛍光体及び緑色発光蛍光体とを組み合わせた白色ＬＥＤ装置を備えるバックライト、および透明基板上に赤色画素を含む複数色の着色画素の備えるカラーフィルタを具備する液晶表示装置であって、前記白色ＬＥＤ装置の発光スペクトルが第１のピーク波長、第２のピーク波長、第３ピーク波長を有し、前記赤色画素が、赤色感光性着色組成物の全固形分に対して０．１重量％以上２０重量％以下の多官能チオールを含む赤色感光性着色組成物の硬化物により形成され、前記液晶表示装置の赤色色度が、ｘｙ色度座標系で４点を結ぶ色度範囲内である。 （もっと読む）

【課題】オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを有するカラーフィルタについての、安価で生産性の高い製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】感光硬化性樹脂をカラーフィルタ基板に一括塗布する。その後、開口部とグレートーン部とハーフトーン部というように相異なる３以上の領域を有するフォトマスクを用いて、平面パターンを一括露光描画、現像を行う。これにより、オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを、順次別個にパターン形成するのではなく一括形成し、工程数を削減する。 （もっと読む）

【課題】１工程で配向制御突起、第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサーを形成するすることのできるフォトマスク、また第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサー、配向制御突起が設けられたカラーフィルタを廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供すること。
【解決手段】フォトマスクＰＭ上のパターンは、遮光部３２、透光部３３、及び２種の半透光部３４からなり、２種の半透光部は、透過率が異なる２種の半透光膜（ハーフトーン膜）、開口率が異なる２種の微細パターン（グレートーン部）、又は半透光膜と微細しパターンの２種からなり、該半透光膜の透過率と該微細パターンの実効透過率が異なること。上記フォトマスクを用いること。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での保存による反射率の低下を抑制した表示媒体、及びそれを利用した書き込み装置を提供すること。
【解決手段】それぞれ電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、光導電層２４と、光選択透過層２２と、液晶層２０と、を積層させて、表示媒体１０を構成する。そして、着色層としての光選択透過層２２を、脱イオン処理を施した材料により構成させる。また、当該光選択透過層２２のイオン濃度を所定範囲にする。 （もっと読む）

【課題】薄型軽量化が可能であり、かつ、製造における光学特性の制御が容易な、液晶セル基板、液晶パネルおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】樹脂基板上に光学補償層が積層された液晶セル基板であって、前記光学補償層の屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚが、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有し、かつ、光学補償層が、光学補償層形成材料を前記樹脂基板または前記樹脂基板とは別の基材に塗布することにより形成されたものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】散乱反射機能を維持しつつ、反射膜上の凹凸を防止し、良好な表示特性が得られるようにした液晶表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板と、対向する一対の基板間に挟持された液晶層７０と、 一対の基板のうちの一方の基板と液晶層７０との間に設けられた反射膜３０と、反射膜３０と一対の基板のうちの他方の基板との間に設けられた液晶ポリマーからなる散乱層４０と、を備え、散乱層４０の内部には、液晶ポリマーの形成材料である液晶材料が局所的に配向してなる複数の液晶ドメインを含み、液晶ポリマーは、複数の液晶ドメインを保持した液晶材料が重合して形成していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吐出安定性に優れるとともに、顔料の長期分散安定性（分散安定性）に優れており、コントラストに優れ、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、個体間での特性の均一性に優れたインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供する。
【解決手段】Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７と、分散媒と、下記式（１）に示される顔料誘導体とを含み、分散媒は、１，３−ブチレングリコールジアセテート、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含む。
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【課題】顔料の長期分散安定性（分散安定性）、液滴の吐出安定性に優れ、コントラストに優れ、色再現範囲の広い画像表示が可能で、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、個体間での特性の均一性に優れたカラーフィルターの製造に用いるインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】カラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられ、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４とＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７と分散媒と下記式（I）に示される顔料誘導体とを含み、分散媒は１，３−ブチレングリコールジアセテート、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートの１種以上を含むことを特徴とする。
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【課題】顔料の長期分散安定性（分散安定性）、液滴の吐出安定性に優れ、コントラストに優れ、色再現範囲の広い画像表示が可能で、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、個体間での特性の均一性に優れたカラーフィルターの製造に用いるインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】カラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられ、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４とＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７と分散媒と下記式（１）に示される化合物のニッケル錯体とを含み、分散媒は１，３−ブチレングリコールジアセテート、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートの１種以上を含むことを特徴とする。
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【課題】光源からの光束の有効利用効率が高く、光源と緑色光を発光する発光領域とフィルターとの関係の最適化が図られているカラー液晶表示装置組立体を提供する。
【解決手段】フロント・パネル、リア・パネル及び液晶材料から成るカラー液晶表示装置並びに面状光源装置６０を備えたカラー液晶表示装置組立体において、光源は第１原色光（青色光）を射出し、フロント・パネルの液晶材料側には、第２サブピクセルを通過した第１原色光によって励起されて第２原色光（緑色光）を発光する第２原色発光領域５２、第３サブピクセルを通過した第１原色光によって励起されて第３原色光（赤色光）を発光する第３原色発光領域５３、及び、第１サブピクセルを通過した第１原色光（青色光）を通過させる第１原色光通過領域５１が備えられ、第２原色発光領域５２から出射された光の一部を通過させる黄色のフィルター５８を更に備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非感光性樹脂からなる第１の層と感光性樹脂からなる複数のパターン化層からなる液晶表示装置用カラーフィルタ基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】複数色の着色層がパターン形成された基板上に非感光性樹脂からなる第１の層を形成し、さらにその上に感光性樹脂を含有する第２の層を積層してパターン加工を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも下記の工程をこの順に行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
（１）該基板上に非感光性樹脂組成物を塗布、セミキュアして第１の層を形成する工程
（２）該第１の層上に感光性樹脂組成物を塗布、セミキュアして第２の層を形成する工 程
（３）ハーフトーンフォトマスクを介して該第２の層を露光する工程
（４）第２の層を現像液によりパターン加工して、高さの異なる２種以上の突起を形成する工程
（５）該第１の層および該第２の層を加熱、硬化させる工程 （もっと読む）

【課題】顔料の長期分散安定性に優れ、吐出安定性に優れるとともに、コントラストに優れ、色再現範囲の広い画像表示が可能で、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、個体間での特性の均一性に優れたカラーフィルターの製造に用いるインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用インクであり、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０と、下記式（１）に示されるスルホン化された顔料誘導体とを含むことを特徴とする。
【化１】
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【課題】透過表示部と反射表示部とを備える半透過型液晶表示装置において、反射領域に内蔵する偏光層の二色比を高め、表示性能を向上させる。
【解決手段】透過表示部と反射表示部とが画素ごとに形成された液晶表示装置であって、
反射表示部に反射層が形成され、かつ、液晶層に対向する主面を有する第１の基板と、液晶層を介して前記第１の基板に対向する第２の基板とを備え、第１の基板の主面には、反射層上に偏光層がその下地層を介して形成されている。偏光層はクロモニック液晶性の分子からなり、かつ、偏光層と下地層との界面はシロキサン構造またはシラザン構造を有する。 （もっと読む）

【課題】表示品質が向上した液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置１０は、複数の画素領域を含み、画素領域毎に光を反射する反射領域Ｒと光を透過させる透過領域Ｔとを有する液晶装置であって、対向する一対の基板１２，１４と、一対の基板１２，１４間に設けられた液晶層１８と、反射領域に対応して一対の基板１２，１４の内面に選択的に形成された位相差層５２と、を含み、一対の基板のうち一方の基板１２は、画素電極３４と、画素電極３４に接続されたスイッチング素子３０と、を備え、一対の基板のうち他方の基板１４は、カラーフィルタ２８を備え、他方の基板１４の液晶層１８側に対して反対側の表面に、表面側から順に、透明導電膜５６と、透明導電膜５６より屈折率が小さい透明膜５８と、の積層構造６０を有する。 （もっと読む）

【課題】吐吐出安定性、顔料の分散安定性に優れ、コントラストに優れ、色再現範囲の広い画像表示が可能であり、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、個体間での特性の均一性に優れたカラーフィルターの製造に用いるインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いるものであり、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６と、分散媒と、下記式（１）に示される顔料誘導体とを含み、分散媒は、１，３−ブチレングリコールジアセテート、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートよりなる群から選択される１種以上を含むことを特徴とする。
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【課題】照明装置から射出され、反射層の照明装置側の面で反射された光が、配線層の液晶層側の面に反射されて発生する光漏れを低減し、コントラストを向上することができる液晶装置とその製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】反射層２９の照明装置６１側に光吸収層２８が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空槽内における残留ガスや基板からの脱ガスによる過剰エッチングを回避するため脱ガスを最小限にすることが可能な薄膜製造技術を提供する。
【解決手段】本発明方法は、成膜対象物上に設けられた有機層に対して真空中でプラズマ雰囲気に曝すプラズマ（エッチング）処理工程Ｓ３と、この成膜対象物の有機層上に真空中でＳiＯ₂膜層を形成するＳiＯ₂膜形成工程Ｓ４を有する薄膜形成方法である。本発明では、プラズマ暴露工程であるプラズマ処理（エッチング）工程Ｓ３の前に、真空中で成膜対象物上の有機層を加熱する加熱工程Ｓ２を有する。本発明では、加熱工程Ｓ２における雰囲気温度が、プラズマ処理工程Ｓ３及びＳiＯ₂膜形成工程Ｓ４における雰囲気温度より高くする。 （もっと読む）