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Fターム[2H092JA22]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 能動素子 (19,865) | 三端子素子 (19,408) | 種類 (8,621)

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【課題】 画素選択トランジスタにて光リークが生じたとしても、電気光学素子の階調が劣化しない画素回路、それを用いた電気光学装置及びその駆動方法並びに電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置の画素回路10は、一端にデータ線DLが接続され、かつ走査線WLによってオン/オフが制御される画素選択トランジスタ12と、画素選択トランジスタ12を経由して書き込まれる表示電圧に基づいて光透過率が変化する電気光学素子40と、画素選択トランジスタ12と電気光学素子40との間に設けられたメカニカルスイッチ20と、を有する。メカニカルスイッチ20は、画素選択トランジスタ12と電気光学素子40との間の導通経路上の固定接点26と、固定接点26に対して接離される可動接点24とを備える。 (もっと読む)


【課題】溝部と画素電極とにおける段差が小さい反射型液晶表示用半導体装置を提供する。
【解決手段】液晶素子が搭載される半導体装置の製造方法において、半導体素子が形成されている半導体基板上に画素電極となる金属膜を形成する工程と、前記金属膜上に第1の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第1の酸化シリコン膜とともに前記金属膜を分離し前記画素電極を形成するための溝を形成する工程と、前記溝及び前記第1の酸化シリコン膜上に第2の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第2の酸化シリコン膜及び前記第1の酸化シリコン膜をエッチバックする工程と、前記エッチバックされた面に第3の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第3の酸化シリコン膜をエッチバックし、前記画素電極を露出させる工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光リークがなく、高品質の表示が可能な電気光学装置とその駆動方法、及び電子機器を提供する。また、小型で幅広いデバイスに適用可能なスイッチとその製造方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明の液晶装置は、スイッチング素子基板10及び対向基板20間に液晶層50を挟持してなり、スイッチング素子基板10の液晶層側に画素電極35と、画素電極35と接続されたスイッチング素子41とを有しており、スイッチング素子41が、固定電極と可動電極22との間に静電気力を作用させて可動電極22と画素電極35との接続状態をスイッチングする素子となっている。 (もっと読む)


【課題】光リークがなく、高品質の表示が可能な電気光学装置とその駆動方法、および電子機器を提供する。また本発明は、小型で幅広いデバイスに適用可能なスイッチとその製造方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明の液晶装置は、スイッチング素子基板10および対向基板間に液晶層を挟持してなり、スイッチング素子基板TFTの液晶層側に画素電極35と、画素電極35と接続されたスイッチング素子41とを有しており、スイッチング素子41が、固定電極22と可動電極22との間に静電気力を作用させて可動電極22を基板の厚さ方向に揺動させ、可動電極22と画素電極35との接続状態をスイッチングする素子となっている。 (もっと読む)


【課題】省電力化を図りつつ、開口率をより向上させることができるアクティブマトリクス装置、スイッチング素子の製造方法、電気光学表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス装置10は、基板50の一方の面側に設けられた複数の画素電極8と、各画素電極8に対応して設けられ、画素電極8に接続された固定電極3と、固定電極3に対向して設けられ、固定電極3側へ変位可能な可動電極5と、可動電極5に静電ギャップを介して対向して設けられた駆動電極2とを備えるスイッチング素子1と、各可動電極5に接続された第1の配線11と、各駆動電極2に接続された第2の配線12とを有し、固定電極3、可動電極5および駆動電極2は、基板50の板面に沿った方向で互いに異なる位置に配置され、可動電極5は、基板50の板面に沿った方向で固定電極3側に変位するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 サブフィールド駆動を用いた電気光学装置において、電気光学材料の種類とサブフィールド期間の時間長によって定まる分解能よりも、さらに細かい階調を刻むこと(すなわち、分解能のさらなる向上)を、サブフィールド数を増やすことなく実現する。
【解決手段】 画素回路に、第1の保持容量(C3)および第2の保持容量(C4)を設け、各保持容量の電気光学素子(LC)への接続を、スイッチ素子(SW1,SW2)によって制御する。第1の保持容量(C3)の容量値は、1サブフィールド期間において画素の表示電圧を一定に維持できないほど小さく設定されているため、電気光学素子に印加される電圧は微小となり、したがって電気光学素子(LC)に従来にない微小な過渡応答が生じ、これによって細かな階調を刻むことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】基板とFPCとの貼り合わせにおいて、接続端子の電極(パッド)の線幅方向に位置ずれが生じると、FPC端子と接続端子との接続面積が小さくなり、接触抵抗が大きくなってしまう。とくに、電源の電源電位が入力されている接続端子での接触抵抗の増加は表示不良の原因となる。そこで、電源供給ラインの抵抗を小さくし、電源供給ラインでの電圧降下を抑制し、表示不良を防止することを課題とする。
【解決手段】接続端子部には、複数の接続端子を有し、該複数の接続端子は、それぞれ接続端子の一部を成す接続パッドを備え、該複数の接続パッドには、第1の接続パッドと、該第1の接続パッドと線幅の異なる第2の接続パッドが含まれ、複数の接続パッドのピッチは等しくする。 (もっと読む)


【課題】 電気光学装置の画素を駆動するTFTに代替するスイッチング素子を採用することにより、電気光学装置の製造コストの削減、製造工程及び構造の単純化を図る電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板10と、基板10上に、第1強磁性層24と第1強磁性層24に対向配置された第2強磁性層28と第1強磁性層24と第2強磁性層28との間に設けられた半導体層26とを有するスイッチング素子30と、基板10上に、第1金属層34と第1金属層34に対向配置された第2金属層3と第1金属層34と第2金属層3との間に設けられた絶縁層36とを有する容量部60と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 ICが直接あるいは可撓性基板を介して実装された基板に割れが発生しているか否かを容易に診断可能な実装構造体、この実装構造体を備えた電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置1aにおいて、素子基板10に基板割れが発生せず、基板割れ診断用導電パターン83が切断していない場合には、診断部58からバンプ55に出力された信号は、そのまま、パッド45、基板割れ診断用導電パターン83、パッド46、バンプ56を経由して診断部58に入力される。これに対して、素子基板10に基板割れが発生し、基板割れ診断用導電パターン83が切断している場合には、診断部58からバンプ55に出力された信号は、バンプ56から診断部58に入力されないことになる。 (もっと読む)


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