【課題】表示パネルに集積されたゲート駆動部を外部環境から効果的に保護することのできる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置は、基板、前記基板上に行列形態に配列されていて、スイッチング素子を各々含む複数の画素、前記スイッチング素子に接続されていて、行方向にのびている複数のゲート線、そして前記ゲート線に各々接続されていて、前記基板上に集積されて形成されているゲート駆動部を含み、前記ゲート駆動部は、整列されている第１領域、及び前記第１領域と交差している第２領域を含む。 （もっと読む）

【課題】高画質な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、基板上方の複数のソース信号線、複数のゲート信号線、及びトランジスタと、トランジスタ上方の絶縁膜と、絶縁膜上方の有機樹脂膜と、有機樹脂膜上方の画素電極と、を有し、絶縁膜は窒化シリコン、酸化シリコン、酸化窒化シリコンのいずれかを含み、画素電極は、トランジスタを介して複数のソース信号線の一つに電気的に接続され、トランジスタのゲートは、複数のゲート信号線の一つに電気的に接続され、第一のフレーム期間中に、第一の映像信号が、複数のソース信号線の一つを介して画素電極に供給され、第一のフレーム期間の次のフレーム期間中に、第一の映像信号とは逆の極性の第二の映像信号が、ソース信号線の一つを介して画素電極に供給され、フレーム周波数は１２０Ｈｚ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品質の低下を招来することなく画像表示部の外周辺領域の省スペース化を実現した液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】透明基板上にマトリクス状に配置された複数のソース線ＳＷ_１〜ＳＷ_ｎ及びゲートＧＷ_１〜ＧＷ_ｎ線と、これらのゲート線間に略平行に設けられた複数の補助容量線と、各ソース線及びゲート線の交点近傍に設けられた薄膜トランジスタとを備えたアレイ基板の外周辺に、複数のゲート線から延出した複数本の引回し線が配線された液晶表示装置において、複数本の引回し線ＧＬ_１〜ＧＬ_ｎは、互いに隣接する引回し線を２本ずつに組分けして一方を低位に他方を間に補助容量線を覆うゲート絶縁膜より肉厚の絶縁層を介在させて高位にして積層配線されている。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成可能とする。
【解決手段】基板Ｐに配線形成材料を含む液状体を塗布する工程と、塗布した液状体を焼成する工程とを有する。配線形成材料に対して不活性な雰囲気下で前記焼成を行う。 （もっと読む）

【課題】リーク電流が少なく、消費電力が少なく、画質良好なアクティブマトリクス型液晶表示装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス型液晶表示装置は、複数の画素部を備えた画素アレイと、前記画素アレイに設けられ、独立に制御されるゲート線と、前記画素アレイに設けられ、正負各極性の信号が供給されるソース線とを備え前記画素部は、画素電極と前記ソース線とを選択的に接続し、前記ゲート線にそれぞれのゲートが接続され、かつ直列接続された複数のトランジスタを備える。第1のゲート線には画素電極電位が正極性に保持されている場合に画素電荷の最小漏洩となる電位近傍の電位が与えられ、第２のゲート線には画素電極電位が負極性に保持されている場合に画素電荷の最小漏洩となる電位近傍の電位が与えられる。また、画素部は、第1のゲート信号のキックバック効果を画素電極に伝えるべき容量を備える。 （もっと読む）

【課題】表示装置において、従来よりもコストを低減する。
【解決手段】表示パネルと、前記表示パネルを構成する基板の第１の辺の周辺部に、第１の方向に実装される複数の第１半導体チップと、前記基板の第１の辺の周辺部に設けられる第１電源配線層とを有し、前記第１の方向の一方の端部に配置される第１半導体チップの、前記第１電源配線層に接続されるバンプ電極の位置と、前記第１の方向の他方の端部に配置される第１半導体チップの、前記第１電源配線層に接続されるバンプ電極の位置とが異なっている。 （もっと読む）

【課題】ルーバーあるいは視角制御用セルを設けることなく、視角制御機能を有する液晶表示装置を得る
【解決手段】画素の集合からなる表示画面を有するＴＮモード用の液晶表示装置であって、下部基板１と対向基板２との間に設けられた画素のそれぞれは、ＴＮ液晶分子が傾くように配向制御された表示制御領域１０と、表示制御領域１０とは独立した視角制御信号によりＴＮ液晶分子が傾くように配向制御された視角制御領域２０とを備え、視角制御領域２０内のＴＮ液晶分子は、表示制御領域１０内のＴＮ液晶分子よりも対向基板２側に配置される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、文書、イメージスキャン、タッチ入力、及び入力されたイメージを画像で具現できるイメージセンシング機能を有する液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置は、基板上に相互交差して形成され、画素電極が位置する画素領域を定義するゲートライン及びデータラインと、前記ゲートライン及びデータラインの交差領域に位置する第１の薄膜トランジスタと、イメージ情報を有する光をセンシングすると共に前記データラインから第１の駆動電圧を供給されるセンサー薄膜トランジスタと、前記ゲートラインと並んで位置し、前記センサー薄膜トランジスタに第２の駆動電圧を供給する駆動電圧供給ラインと、を備える。 （もっと読む）

【課題】複雑な修正作業を要する難易度の高い欠陥に対しても精度良く欠陥修正を行えるようにする。
【解決手段】複数の配線パターンが形成された基板６上の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、基板６上の欠陥部位を検出し、その欠陥部位の基板６上における位置情報を取得する。次に、その時点のプロセス情報を入手し、欠陥部位の位置情報に基づいて当該欠陥部位における基板の基板設計情報を取得する。また、抽出された欠陥部位の特徴量を数値化し特徴情報を生成し、特徴情報に基づいて欠陥種別を分類する。そして、欠陥部位の位置情報、特徴情報、欠陥種別及び基板設計情報に基づいて欠陥部位の欠陥修正方法を生成し、生成された欠陥修正方法に基づき欠陥修正機構４を動作させて欠陥修正を行う。 （もっと読む）

【課題】液晶表示器の液晶表示装置への搭載性を向上させる。また、液晶表示器の非表示領域を文字盤等の板で覆って使用する場合に、液晶表示器を構成する基板材料を削減する。
【解決手段】液晶表示器１の第１、第２透光性基板１１、１２を、上側非表示領域５の幅Ａが下側非表示領域６の幅Ｂよりも狭い形状とする。これは、下側非表示領域６の幅Ｂは、第１透明電極１４とドライバＩＣ１３とを電気的に接続する配線のスペースを確保するため、広くすることが必要であるが、上側非表示領域５の幅Ａは、そのような制約が無いため、下側非表示領域６の幅Ｂよりも狭くできる。これにより、搭載性を向上させ、液晶表示器を構成する基板材料を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成する。
【解決手段】基板上に第１配線４０と、第１配線４０より幅狭で第１配線４０に接続される第２配線４１とが形成される。基板上の第１配線形成領域５２及び第２配線形成領域５４に跨る第１導電層Ｆ１を成膜する工程と、第１配線形成領域５２においては第１導電層Ｆ１上に積層状態で、且つ第２配線形成領域５４においては第１導電層Ｆ１に対して非積層状態で配置される第２導電層Ｆ２を成膜する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】たとえ導電性ペーストで配線層を形成する場合においても、隣接する他の配線層との離間距離を従来よりも狭めて形成することのできる表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】同層かつ隣接して形成される第１配線層および第２配線層を有し、第１配線層および第２配線層は、いずれも導電性インクの塗布および乾燥により形成されるものであって、前記第１配線層および第２配線層はそれぞれ別工程による塗布および乾燥によって形成する。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成する。
【解決手段】基板Ｐ上に配線パターン４１を形成する工程と、配線パターン４１の少なくとも一部上にスイッチング素子を形成する工程とを有し、配線パターン４１をメッキ処理により成膜する。 （もっと読む）

【課題】大画面に適用しうる配線の構造、特に液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の端部に設けられ、他の基板に設けた回路の配線と電気的に接続するための入力端子部における配線の構造について提案する。
【解決手段】表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の端子部において、耐熱性導電性材料を含有する第１の層と、Ａｌ及びＮｄを含有する第２の層と、を含む配線と、前記配線に電気的に接続された透明導電膜と、を有し、前記透明導電膜は、異方性導電材を介して、前記アクティブマトリクス基板とは異なる基板に設けられた回路に電気的に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置に係り、特に、駆動回路一体型の液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、特に、第１マスク工程によって、駆動回路部と画素領域に構成するｐ型及びｎ型の第１薄膜トランジスタ及び第２薄膜トランジスタの半導体層を形成して、半導体層と補助電極が積層された第１ストレージ電極を形成する。また、第２マスク工程及び第３マスク工程によって、ｐ型及びｎ型の薄膜トランジスタのゲート電極を形成して、前記各薄膜トランジスタの多結晶半導体層にｐ＋イオンと、ｎ＋イオンのドーピング工程及びｎ-イオンのドーピング工程を行い、第２ストレージ電極を形成する。さらに、前記各多結晶薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極と画素電極を単一マスク工程によって形成する。 （もっと読む）

【課題】工程時間を短縮でき、不良発生率を減少させて生産効率を高めることができる液晶表示装置及びその製造方法を得る。
【解決手段】基板１００上の非表示領域に形成された、第１多結晶半導体と第１ゲート電極と第１ソース電極と第１ドレイン電極を有するｐ型の駆動薄膜トランジスタ、第２多結晶半導体と第２ゲート電極と第２ソース電極と第２ドレイン電極を有するｎ型の駆動薄膜トランジスタと、基板上１００の表示領域に形成された、相互に交差して画素領域を定義するゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬと、第３多結晶半導体パターンと第３ゲート電極と第３ソース電極と第３ドレイン電極を有する画素薄膜トランジスタと、前記第３ドレイン電極を上から覆う画素電極１７０と、前記第１ソース電極及びドレイン電極と前記第２ソース及び第２ドレイン電極を上から覆う遮断パターンと、前記データ配線と前記第３ソース電極を上から覆う遮断配線１７３を含む。 （もっと読む）

【課題】 製造工程を単純化して原価節減及び製造便宜性を図ったタッチスクリーン機能を有する表示基板及びその製造方法並びにそれを具備した表示パネルを提供する。
【解決手段】複数のゲートライン及びデータラインによって画定された複数の画素部と、タッチ（ｔｏｕｃｈ）位置を感知するための第１信号ライン及び第２信号ラインとが形成されたアレイ基板と前記タッチ位置にて電気的に接触しタッチ位置の位置座標を検出するタッチスクリーン機能を有する表示パネルの表示基板において、前記表示基板は、前記ベース基板と、前記ベース基板上に第１長さで直接形成され前記アレイ基板との離隔距離を一定に保持する支持パターンと、前記ベース基板上に第２長さで直接形成され前記タッチ位置で前記第１信号ライン及び第２信号ラインとそれぞれ電気的に接触する第１突起パターン及び第２突起パターンとを有する。 （もっと読む）

【課題】所定の機能を確保しつつ、安定してパターンを形成する。
【解決手段】機能液を基板上に配置して線状の第１膜パターン４０と、第１膜パターン４
０より幅狭で基端部で第１膜パターン４０に接続される第２膜パターン４１とを形成する
。第１膜パターン４０に対応する第１開口部５５及び第２膜パターン４１に対応する第２
開口部５６を有する隔壁３４を形成する工程と、第１開口部５５に機能液の液滴を配置し
、機能液の自己流動により機能液を第２開口部５６に配置する工程とを有する。第２膜パ
ターン４１の先端部は、矩形輪郭を欠落させた形状の欠落部４１ａを有する。 （もっと読む）

【課題】表示面側にアンチグレア処理が施された偏光板を配置した場合でも、レーザ光を偏光板を透過させて画素の修理個所に照射することができ、画素の修理が可能となる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板および前記基板上に形成された複数の画素を有した表示パネルと、前記表示パネルの外面に設けられているとともにアンチグレア処理が施された偏光板８２とを備えた表示装置の製造方法において、画素の表示状態を検査し、検査した画素に修復が必要な場合、偏光板に貼付した透明フィルム９０を介して、レーザ光を前記画素の修理個所に向けて照射する。 （もっと読む）

【課題】 配線層それ自体の厚さの増加及びアンダーカットの生成に起因するステップカバレッジの低下と、生産性の低下、製造コストの上昇という難点を生じないで、透明導電層の腐食及びコンタクト抵抗の増加という問題を解消できる液晶表示装置と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁性基板１上に形成されたＡｌ層またはＡｌ合金層からなる第１配線層２を、第１配線層２の一部を露出させるコンタクトホール３３を持つ第１絶縁層３で覆う。メッキ法で堆積した金属よりなる第１導電材９ｂをコンタクトホール３３中に配置し、第１配線層２の露出部分に接触させ且つその露出部分全体を覆う。第１導電材９ｂ上に第１透明導電層１０ｂを形成し、第１透明導電層１０ｂを第１導電材９ｂを介して第１配線層１に電気的に接続する。 （もっと読む）