【課題】対向する基板を備え、一方向に突出した一方の基板の突出部上に２個の駆動用の半導体チップが直列的に搭載された液晶表示装置において、突出部の突出長を小さくする。
【解決手段】基板１の対向基板２から突出された１つの突出部１ａ上には走査ライン６を駆動する半導体チップ１１、およびデータライン７を駆動する半導体チップ１２が直列的に搭載されている。表示領域３に行方向に延びて設けられた走査ライン６のほぼ上半分は引き廻し線１３を介して一方の半導体チップ１１の第１の出力端子に接続されている。走査ライン６のほぼ下半分は引き廻し線１４、および突出部１ａ上の他方の半導体チップ１２下に設けられた引き廻し線１５を介して一方の半導体チップ１１の下面に設けられた第２の出力端子に接続されている。表示領域３の左側に設けられた引き廻し線１３の突出部１ａ上における配置領域を比較的小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 駆動部や端子の位置によらず、配線パターン群の占めるスペースを従来よりも減少させることができ、かつ配線抵抗の増大や断線の恐れがない表示装置を提供する。
【解決手段】 表示装置１は表示部３を有しており、表示部３を挟むようにして基板５ａ、５ｂが設けられている。表示部３の辺９は複数の端子１１を有している。
基板５ａの周縁部には駆動部１３が設けられ、駆動部１３は複数の端子１７を有している。
基板５ａには第１配線パターン群１９ａが設けられ、第１配線パターン群１９ａは複数の配線２１を有している。配線２１は両端が複数の端子１１および複数の端子１７に接続されている。
第１配線パターン群１９ａは、傾斜部２３ａを有しており、傾斜部２３ａは複数段の階段状の形状からなる段差部を形成している。そのため、配線２１同士の隙間は従来よりも狭く、スペース３１は従来よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣチップとＦＰＣ間の接続不良を防止することができる液晶表示パネルを提供
すること。
【解決手段】ゲートラインＧＷ_１〜ＧＷ_ｍ及びソースラインＳＷ_１〜ＳＷ_ｎを有する表示
領域ＤＡと、ＩＣチップＤＲが搭載されるＩＣチップ搭載領域３０と、ＦＰＣが接続され
るＦＰＣ接続領域４０と、を備えたアレイ基板１０を有する液晶表示パネル１において、
ＩＣチップ搭載領域とＦＰＣ接続領域との間には絶縁膜によって表面が被覆された入力側
引出し線ＩＬ_１〜ＩＬ_ｘが設けられており、入力側引出し線の両端部は、絶縁膜に設けら
れたコンタクトホールＣＨ２、ＣＨ３を介して導電膜３５、４２により被覆されて入力側
接続端子を形成しており、さらに、入力側接続端子の導電膜は絶縁膜上に形成された入力
側補助引出し線５１_１〜５１_ｘにより電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】基板の電子素子が破損されることを回避するように、静電気のエネルギーを効果的に低減させるアクティブマトリクスを提供する。
【解決手段】アクティブマトリクスであって、少なくとも基板と、前記基板に配置される複数の走査線と、前記走査線と直交するように前記基板に配置される複数の信号線と、前記走査線及び前記信号線に接続される複数の画素ユニットと、前記走査線や前記信号線と交差するように前記基板に配置され、少なくとも前記走査線及び前記信号線が通らないコーナー域を有する静電気放電回路と、前記コーナー域に配置され、前記静電気放電回路に接続される第１静電気対策回路と、を含むアクティブマトリクスを提供する。 （もっと読む）

【課題】素子の配列の正確度が向上した液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁マザー基板を提供し、波長が３５５ｎｍ未満であり、絶縁マザー基板が１０％以上の吸光率を有するようなレーザ光を照射して、絶縁マザー基板の内部にアラインマークを形成し、形成したアラインマークを基準に絶縁マザー基板上に多数の素子を形成し、絶縁マザー基板をカットして複数の絶縁単位基板を形成することを含む液晶表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】引き回し電極が形成されている引き回し部において異常点灯が発生してしまうのを防止するとともに、両基板の間隙におけるギャップむらの発生を防止し、表示の高品質化を図る。
【解決手段】第２透明基板２ｂの内面のうち各第１引き回し電極１０ａに対向する対向面に、各第１引き回し電極１０ａよりも幅寸法が短い複数の対向ダミー電極１５を、それぞれ他の電極から独立し各第１引き回し電極１０ａに対向する形状に形成し、各対向ダミー電極１５の間隙であって各第１引き回し電極１０ａに対向しない位置に、線間ダミー電極１６を設け、線間ダミー電極１６を、平面形状において折曲して形成し、長さ方向における途中の折曲部において分断する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有し、ガラス基板への付着力が強く、且つ、耐プラズマ性及び可視光反射率の高い材料を実現し、且つ低抵抗化を図り得る銀合金材料を提供する。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板１１において、ゲート配線１３およびゲート電極１７を構成材料として、銀とインジウムとを含む銀合金材料であって、銀に対するインジウムの含有量が０．５重量％以下である銀合金材料を用いることで、可視光反射率の高い材料を実現し、さらに、アルミニウム配線ではなし得ない低電気抵抗配線の形成を可能する。 （もっと読む）

【課題】絶縁層を介して形成された上部電極と下部電極を有し、前記上部電極に液晶分子を駆動するための電界を通す開口部を形成する液晶表示装置において、表示品質を向上することである。
【解決手段】上部電極である画素電極４２には下部電極である共通電極との間の電界を通すために複数のスリット４３が設けられる。画素電極４２の下部で共通電極が除去されている領域である窓状開口部１００の近傍の領域では、画素電極４２に電位を供給するためのコンタクトホール１０２の部分を避けるようにしてスリット４３が配置される。窓状開口部１００の近傍領域においてスリット４３は、その長手方向の両端部のうちの片側端部の円弧形状が窓状開口部１００の内側になるように配置される。また、窓状開口部１００は、上部電極である画素電極４２の外周端部よりも内側に配置されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】溶液の広がりや飛散若しくは誤滴下等による寄生容量やリークパスの発生を防止することのできる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機デバイスの製造方法は、基板１０上に導電性有機材料を含む溶液を配置する工程と、前記溶液を乾燥することにより導電性有機膜１５を形成する工程と、不所望な領域に配置された前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８に光Ｌを照射し、前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８の導電性を低下させる工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】表示装置において、電源回路の効率の低下を防止する。
【解決手段】正電源発生回路１３１及び負電源発生回路１３２は、駆動クロック、入力電源電位が外部から印加される端子部１４０に近接して配置する。端子部１４０は、ＴＦＴガラス基板１００上の端部に形成される。即ち、正電源発生回路１３１及び負電源発生回路１３２は、液晶表示装置の主要回路である、画素部１０５、水平駆動回路１１０、垂直駆動回路１２０よりも端子部１４０に近接して配置されている。これにより、正電源発生回路１３１、負電源発生回路１３２の配線負荷（電源配線、駆動クロック配線が有する抵抗性や容量性の負荷）を最小にして、回路効率の低下を防止したレイアウトを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の光センサの検出信号に基づいてバックライトの輝度調整を行う際に、配線
抵抗に起因する、光センサ間での検出誤差の発生を防止する。
【解決手段】液晶パネル１に配置された光センサ３ａ、３ｂのＴＦＴセンサ３１及びコン
デンサ３２間のそれぞれの配線長さを略同一となるように形成し、且つ、コンデンサ３２
と信号処理部４との間のそれぞれの配線長さを略同一となるように形成する。ＴＦＴセン
サ３１ａ、３１ｂのそれぞれと信号処理部４との間の配線抵抗が略同一となり、信号処理
部４に入力される各光センサ３ａ、３ｂの検出信号のそれぞれには、配線抵抗による検出
誤差が同等に含まれることになる。よって、光センサ３ａ、３ｂの検出信号間の、配線抵
抗による検出誤差のずれの発生を回避することができ、この検出誤差に対する補正処理等
といった処理を行う必要はなく、その分、処理負荷の軽減を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の配線および電極を形成するための銅合金薄膜を提供する。
【解決手段】Ａｇ、Ｃａ、ＭｇおよびＺｎの内の１種または２種以上を合計で０．０１〜１原子％含有し、さらに酸素：０．１〜２原子％を含み、さらに必要に応じて希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．０１〜１原子％を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金薄膜からなる熱欠陥発生がなくかつ密着性に優れた液晶表示装置用配線および電極。 （もっと読む）

本発明は導電膜形成のための銀ペーストに関するものであって、炭素数０〜１２の脂肪酸銀０．１〜６０重量％；銀粉末１〜８０重量％；バインダー０．１〜１５重量％；及び有機溶媒残量で構成される導電膜形成用ペーストを提供する。
本発明の銀ペースト組成物を用いると、従来のペーストで形成された伝導性パターンと比較して相対的に薄い厚さ、または狭い線幅でもはるかに低い電気抵抗の特性を示し、高価なナノスケールの銀粒子を用いなくても非常に低い温度で熱処理が可能である、良好な微細構造を有する導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を招くことなくパネル上の配線不良の有無を確実に検査することができ、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置、及び、この表示装置に適用される検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素によって構成されたアクティブエリアにおいて、各画素に対して駆動信号を供給する信号配線を備え、アクティブエリアの外側に位置する外周部において、駆動源が接続されるとともに信号配線の一端にそれぞれ接続された出力パッドと、出力パッドのそれぞれと接続された検査パッドと、を備えた表示装置に適用される検査装置１００であって、検査信号を生成する信号生成部１１０と、複数の検査パッドに対して同時に接触して信号生成部１１０によって生成された検査信号を入力する検査端子１２０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を向上させ、タクトタイムの短縮及び作業者の工数費の削減を図る。
【解決手段】過去に実施された欠陥修正手法を含む複数の欠陥修正手法をデータベースに蓄積し、配線基板の検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出する。そして、検出された欠陥の配線基板内における位置に基づいてデータベースから欠陥修正手法を読み出して所定の条件に従い選定し、選定された欠陥修正手法に基づき欠陥の修正を実行する。上記欠陥修正手法は欠陥の特徴を示すテンプレート情報７３と、実際の修正方法及び欠陥の位置を示すオブジェクト情報７４から構成されており、検出された欠陥の情報がテンプレート情報７３及びオブジェクト情報７４の特定の条件に一致しているものを欠陥修正手法として出力する。 （もっと読む）

【課題】各画素における開口領域に効率的に集光できると共に比較的容易に製造可能な電気光学装置用基板を提供する。
【解決手段】電気光学装置用基板は、第１透明基板（２１０）と、この第１透明基板に対向して配置され、第１透明基板に対向する側の表面における開口領域（Ｄ１）を除く非開口領域（Ｄ２）の少なくとも一部に、非開口領域に入射される光を開口領域へ向かうように屈折させるための溝（２２５）が掘られた第２透明基板（２２０）と、第１及び第２透明基板を接着する接着部材（２５０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 スイッチング用薄膜トランジスタを静電気から保護するための静電気保護機能およびテスト機能を備えた液晶表示装置において、額縁面積を小さくする。
【解決手段】 走査ライン駆動用ドライバ搭載領域９内に、走査ライン用静電気保護兼テスト用薄膜トランジスタ１８、第１〜第３の走査ラインテスト用引き回し線１９〜２１および第１〜第３の走査ライン用テスト端子１５〜１７を設けると、これらを配置するためのそれ専用の配置領域が不要となり、それに応じて額縁面積を小さくすることができる。また、データライン駆動用ドライバ搭載領域１２内に、データライン用静電気保護兼テスト用薄膜トランジスタ２７、第１〜第４のデータラインテスト用引き回し線２８〜３１およびデータライン用テスト端子２３〜２６を設けると、これらを配置するためのそれ専用の配置領域が不要となり、それに応じて額縁面積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル完成後の点灯検査で検出された短絡欠陥を修正する場合に、配線の切断が困難であった。
【解決手段】本発明に係るＴＦＴ基板は、走査線（１-1，１-2，１-3）、信号線（２-1，２-2）、グランド電極線（３-1，３-2）及び電源供給線（４-1，４-2）が形成されるとともに、グランド電極線（３-1，３-2）及び電源供給線（４-1，４-2）は、それぞれアルミニウムによって形成された主要配線部と、主要配線部の配線パターンの一部にモリブデンによって形成された修正用配線部（１ａ〜１ｇ，２ａ〜２ｇ，３ａ〜３ｇ，４ａ〜４ｇ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの枚数を低減しながらも、容易且つ高精度に半導体装置を製造する。
【解決手段】ゲート配線５と、ソース配線６と、ゲート配線５及びソース配線６に接続された薄膜トランジスタ１２と、薄膜トランジスタ１２に接続された絵素電極１１とを備えた半導体装置１を製造する場合に、絵素電極１１とソース配線６とを同時にパターン形成する。 （もっと読む）

【課題】異なる幅を連結した導電膜の極細パターンを少ないプロセス数で高精度に形成して高精細な液晶表示パネルを得る。
【解決手段】幅広の導電膜と幅狭の導電膜のように、薄膜トランジスタ基板ＳＵＢ１の下地膜ＵＷの表面の大部分を撥液性ＲＡとし、幅狭のゲート電極形成部ＧＴＡのみを親液性ＦＡとする。新液性ＦＡのゲート電極形成部ＧＴＡに導電性インクを滴下し、滴下したインク膜がゲート電極形成部ＧＴＡに均一に広がった後、撥液性ＲＡのゲート配線形成部ＧＬＡに幅広のゲート配線をＩＪ直描で形成する。ゲート電極形成部ＧＴＡとゲート配線形成部ＧＬＡのインク膜の膜厚は、それぞれの部分におけるインクの滴下量で制御し、焼成後側液晶表示パネルに得られる両者の膜厚を同等にする。 （もっと読む）