【課題】表示ムラを発生しにくくできる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板上に５以上の角を有する多角形または円形の表示エリアに配置された複数の画素電極と、画素トランジスタと、信号線と、走査線と、対抗基板と、液晶層とを備え、全信号線Ｘと全走査線Ｙとを互いに交差させたことで、各走査線Ｙの容量の均一化が図られ、走査電圧の遅延時間の差異が生じにくくなり、よって、表示ムラを発生しにくくすることができる。 （もっと読む）

【課題】反射部と透過部の境界部分にスリットが形成された画素電極を備え、反射部の反
射効率が良好で明るく、しかも面押し強度が強いＶＡ方式の半透過型液晶表示装置を提供
すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置１０Ａは、マトリクス状に配置された走査線１２及び
信号線１３で囲まれたそれぞれの画素領域毎に反射部１９と透過部２０とが形成され、前
記反射部１９の画素電極１６ａと前記透過部２０の画素電極１６ｂとが連結部２５の画素
電極１６ｃによって接続されており、前記反射部１９の画素電極１６ａの下部には表面に
凹凸が形成された反射板２２が設けられているアレイ基板ＡＲと、カラーフィルタ基板Ｃ
Ｆと、を備え、前記反射部１９の画素電極１６ａと透過部２０の画素電極１６ａとの間に
位置する前記信号線１３に上に柱状スペーサ４０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、トランジスタにおける光リーク電流をより有効に且つより簡易な構成により低減する。
【解決手段】電気光学装置は、走査線１１ａと絶縁膜１２を介して互いに異なる層に配置される半導体膜１ａと、チャネル領域１ａ'に重なるゲート電極３ａとを含むＴＦＴ３０を備える。更に、絶縁膜１２には、平面的に見て、チャネル領域１ａ'の脇に配置された本体部分８０１ａと、半導体膜１ａにおける、画素電極側ＬＤＤ領域１ｃ及び画素電極側ソースドレイン領域１ｅの第１接続部分１ｅｃを含む第１部分領域１１０ｄに対して、本体部分８０１ａから半導体膜１ａに沿って延在する第１延在部分８０１ａとを有する、ゲート電極３ａと走査線１１ａとを電気的に接続するためのコンタクトホール８０１が形成される。 （もっと読む）

【課題】デジタルアナログ変換回路を備える液晶表示装置において、基板サイズの増大を抑え、基板温度の不均一性を抑えるとともに、有効表示領域の周囲の良好な黒表示を実現すること。
【解決手段】液晶表示装置は、液晶を含む画素１０が複数配置された表示領域２７、２８と、入力されたデジタル信号を画素１０を駆動するためのアナログ信号に変換する複数のデジタルアナログ変換回路１６と、を有するアクティブマトリクス基板２２と、開口部を有する遮光板２６と、を備える。表示領域２７、２８は、有効表示領域２７と、有効表示領域１７の周囲に配置された黒表示領域２８と、を有する。前記開口部の外縁は、黒表示領域１８に位置している。複数のデジタルアナログ変換回路１６は、前記開口部の外側に位置する黒表示領域１８の画素１０に重なる位置であって、有効表示領域１７を挟んで対向する位置にそれぞれ配置されている。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、トランジスタにおける光リーク電流をより有効に且つより簡易な構成により低減する。
【解決手段】電気光学装置は、半導体膜１ａ及びゲート電極３ａを含むＴＦＴ３０と、ゲート電極３ａより第２絶縁膜４１ａを介して上層側に配置され、平面的に見て、ゲート電極３ａ及び画素電極側ＬＤＤ領域１ｃと少なくとも部分的に重なるように形成されると共にゲート電極３ａと電気的に接続された遮光部１１ｂとを備える。更に、第１絶縁膜１２及び第２絶縁膜４１ａには、遮光部１１ｂとゲート電極３ａとを電気的に接続する第１部分８０１ａと、該第１部分８０１ａから延在し、半導体膜１ａの脇で遮光部１１ｂと走査線１１ａとを電気的に接続する第２部分８０１ｂとを有するコンタクトホール８０１が形成される。 （もっと読む）

【課題】液晶等の電気光学装置において、光リーク電流の発生を低減し、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）と、基板上において、互いに交差して延在するデータ線（６ａ）及び走査線（１１ａ）と、データ線及び走査線の交差に対応して規定される画素毎に設けられた画素電極（９ａ）と、チャネル領域（１ａ’）、データ線側ソースドレイン領域（１ｄ）、画素電極側ソースドレイン領域（１ｅ）、第１の接合領域（１ｂ）、及び第２の接合領域（１ｃ）を有する半導体層（１ａ）と、第１の接合領域を覆うように島状に設けられた第１絶縁膜（３１ａ）と、第２の接合領域を覆うように島状に設けられた第２絶縁膜（３１ｂ）と、チャネル領域にゲート絶縁膜（２）を介して対向すると共に、第１及び第２絶縁膜上に延在されているゲート電極（３ａ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、電蝕の発生を防止すると共に発熱を抑制する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、複数の画素電極（９ａ）と、画素電極の下地として配置された絶縁膜（４３）と、絶縁膜に開孔されたコンタクトホール（８５）を介して画素電極に電気的に接続された第１導電膜（９３）とを備える。更に、画素電極より下層側且つ絶縁膜より上層側に、基板上で平面的に見て、コンタクトホールに重なるように島状に形成された第２導電膜（４１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】高感度の光センサを構成する。
【解決手段】電気光学装置は、素子基板６０と対向基板７０とがシール材３５を介して接着されている。シール材３５は紫外線を吸収する機能があり、外光を受光する第１のＰＩＮ型ダイオード８１を覆っている。第１のＰＩＮ型ダイオード８１に入射する紫外線を除去し、可視波長範囲の光を選択的に第１のＰＩＮ型ダイオード８１に入射させることができるので高感度の光センサが実現する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、画素内のＴＦＴにおける光リーク電流の発生を低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）と、基板上に設けられるデータ線（６ａ）と、データ線の上層側に設けられており、データ線と交差する走査線（１１）と、走査線の上層側に設けられており、データ線及び走査線の交差に対応して設けられた画素電極（９ａ）と、画素電極の下層側に、該画素電極に容量絶縁膜（７５）を介して対向するように設けられた容量電極（７１）と、データ線の上層側且つ走査線の下層側に設けられており、データ線側ソースドレイン領域（１ｄ）及び画素電極側ソースドレイン領域（１ｅ）、及び走査線の一部からなる又は走査線に接続されたゲート電極（３ａ）に絶縁膜（４１）を介して対向配置されたチャネル領域を有する半導体層（１ａ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】光検出機能を有する表示装置において開口率を損なうことなく指示物の位置、領域を正確に特定する。
【解決手段】表示選択信号によって表示信号に応じた光透過状態となる液晶画素部と容量素子とを備えた画素部７２と、第２電圧が供給され光電流を生成する受光素子１５１を備え光センサ選択信号によって受光信号が読取可能な状態になりリセット信号によって受光信号が第１電圧にリセットする光センサ部１５０と、表示選択信号によって調節信号に応じた光透過状態となる液晶画素部と容量素子とを備え光センサ部１５０への入光量を調節する光量調節部８２と、表示選択信号とリセット信号とを供給する表示選択信号線３ａと、容量素子に固定電位を供給する容量電位線３００と、第１電圧を供給する第１電源線３５１と、第２電圧を供給する第２電源線３５２と、光センサ選択信号を供給する光センサ行選択信号線３５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置に関し、例えばＦＦＳ、ＩＰＳ等の液晶モードの液晶表示装置に適用して、広い視野角特性を確保しつつ、簡易な構成で、ＩＰＳモード等による半透過型表示を実現する。
【解決手段】本発明は、透過表示部ＡＲ１では正面方向に位相差が発生しない位相差板１６をＣＦ基板３の液晶層４側に設ける。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜、画素電極、電極間絶縁膜、および共通電極がこの順に積層されたＦＦＳモードの液晶装置の製造方法、および液晶装置において、コンタクトホール内部およびその開口縁での短絡や断線を確実に防止可能な構成を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０上には、薄膜トランジスタ３０と、層間絶縁膜４、６と、層間絶縁膜６に形成されたコンタクトホール６ａおよびドレイン電極５ｂを介して薄膜トランジスタ３０に電気的に接続された画素電極７ａと、電極間絶縁膜８ａと、スリット状の開口部９ｂが複数、形成された共通電極９ａとが積層されている。コンタクトホール６ａは、画素電極７ａの上層側に形成されたホール内絶縁膜８ｂにより埋められている。ホール内絶縁膜８ｂは、電極間絶縁膜８ａと同時形成された絶縁膜であり、ポリシラザンを所定の溶媒に溶解、分散させてなる液状物を塗布後、焼成させてなる。 （もっと読む）

【課題】引出配線上にＢＭ層が形成された後に発見される引出配線の断線の修復を可能とすると共に、引出配線間の光漏れを防止して画面品位を向上する表示用基板を提供することを課題とする。
【解決手段】隣接する２つの引出配線４の間に形成され、一方の引出配線４の少なくとも２箇所において照射により短絡可能な遮光性を有する金属の補助配線５を有するので、引出配線４上にＢＭ層７が形成された場合であっても、断線した引出配線を照射により電気的に再接続することができ、引出配線４間の光漏れを防止して画面品位を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜素子の製造方法において、直接描画技術を用いて、樹脂基板を損傷させることなく良質な無機膜を備えた薄膜素子を製造することができるようにするとともに、材料選択性を広くする。
【解決手段】薄膜素子１は、基板１０を用意する工程（Ａ）と、基板１０上に熱バッファ層５０を形成する工程（Ｂ）と、熱バッファ層５０を備えた基板１０上に非単結晶膜からなる被アニール膜３０ａをパターン状に形成する工程（Ｄ）と、被アニール膜３０ａを短波長光Ｌを用いてアニールして無機膜３０を形成する工程（Ｅ）とを実施して製造される。工程（Ｂ）と工程（Ｄ）との間には、少なくとも熱バッファ層５０を備えた基板１０上の被アニール膜３０ａが形成されない非パターン部分１０ｒに、短波長光Ｌが基板１０に到達する割合を低減させて、短波長光Ｌによる基板１０の損傷を防止する光カット層２０を形成する工程（Ｃ）を有する。 （もっと読む）

【課題】 光リーク電流を抑制した高い耐光性を有するＴＦＴを、製造工程を簡素化することにより低コストで実現する。
【解決手段】 本実施例のＴＦＴ１００は、絶縁基板１０７としてのガラス基板上に形成された遮光膜１１３と、遮光膜１１３上に形成された絶縁膜１１２と、絶縁膜１１２上に形成された半導体膜１１１と、半導体膜１１１上に形成されたゲート絶縁膜１０４とを基本的に有する。遮光膜１１３、絶縁膜１１２及び半導体膜１１１の三層から成る積層体１００ａは、各層が同時にパターニングされている。そして、積層体１００ａの各層がシリコン又はシリコンを含む材料から成る。 （もっと読む）

【課題】ハーフトーン露光技術を用いることなくチャネルを形成し、さらに、ソース配線やドレイン配線を保護し絶縁するとともに、ブラックマトリクスやフォトスペーサとしても機能する保護絶縁層を形成することにより、液晶表示装置におけるトータル的な製造工程数を削減することの可能な表示装置用基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置及びその製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】走査線などの形成工程、半導体層の形成工程、ソース・ドレイン配線などの形成工程、及び、保護絶縁層への開口部形成工程を有し、ハーフトーン露光技術を用いないので、４枚マスク・プロセスを実現する。また、保護絶縁層に感光性黒色顔料分散樹脂を用いて、ＢＭ機能とＰＳ機能を表示装置用基板に付与する。 （もっと読む）

【課題】表示パネル１００へのタッチ操作を判別する。
【解決手段】画素１１０における光センサ１３０Ｒは運転席側からの光を入射し、光センサ１３０Ｌは助手席側からの光を入射する。指のような被検出物が表示パネル１００に接触したとき、光センサ１３０Ｒにより検出されるＲ像と、光センサ１３０Ｌにより検出されるＬ像とは、視差の分だけシフトするが、ほぼ重なることになる。Ｒ像とＬ像とが視差を考慮して予め設定された閾値よりも小さければタッチ操作であると判別する。 （もっと読む）

【課題】 応答速度が速く、残像の発生が抑えられた垂直配向型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 画素電極６６を有する第１基板６０と、対向電極７２を有する第２基板７０とを備えた液晶表示装置１００であって、画素電極６６が第１単位電極６６ａ及び第２単位電極６６ｂを有し、第２単位電極６６ｂに対向する第２基板７０の液晶層８０の側の面に線状に延びる線状突起７５が形成されており、電極間に所定の電圧が印加されたとき、第１単位電極６６ａに対応する液晶ドメインの液晶分子８１は、第１単位電極６６ａの略中心部を基準として略放射状に傾斜し、第２単位電極６６ｂに対応する液晶ドメインの液晶分子８１は、線状突起７５の延びる方向に垂直な面内で傾斜する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置に生じた点欠陥を確実に修正することが可能な点欠陥修正装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る点欠陥修正装置１００は、液晶装置（修正対象液晶パネル）１０ａの点欠陥を修正するための点欠陥修正装置であって、前記液晶装置１０ａは一対のガラス基板の間に液晶層が挟持されてなるものであり、前記液晶装置１０ａに点欠陥が検出された場合に、前記点欠陥を撮影するカメラ４２と、前記点欠陥が生じた位置の前記ガラス基板１１を切削するドリル４０と、前記ドリル４０にて切削した位置に遮光材を塗布するディスペンサ４１と、を一体装置４９として備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの額縁部の透明導電膜からの電圧リーク防止用の絶縁膜を透明導電膜上に形成する際に、工数を増やさず絶縁膜を形成するフォトマスク、電圧リーク防止したカラーフィルタの製造方法。
【解決手段】周辺駆動回路６２と対向するカラーフィルタ上の部位に設ける電圧リーク防止用の絶縁膜５７に対応したフォトマスク上にハーフトーン部３２を有すること。透明導電膜５４が形成されたガラス基板５０上に、フォトレジスト塗膜２０を設け、露光・現像によりフォトスペーサーを形成する工程を具備し、前記フォトマスクを用い周辺駆動回路と対向する部位に絶縁膜５７をフォトスペーサーＰｓの高さより低く、フォトスペーサーの形成と同時に形成する。 （もっと読む）