【課題】第１の走査線上の表示が不鮮明にならない、かつ、静電破壊が防止された液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板３と、第２基板４と、両基板３，４間に設けられた液晶５とを備え、第１基板３上において、行列状に配置された第１から第Ｎ（Ｎは２以上の整数）までの走査線ｇ１〜ｇ６００および複数の信号線ｓ１〜ｓ２４００と、第１の走査線ｇ１に沿ってその外側近傍に設けられたダミー線１５と、第１の走査線ｇ１と各信号線ｓ１〜ｓ２４００とに接続された各スイッチング素子２５と、各スイッチング素子２５とダミー線１５との間に接続された各補助コンデンサ２６と、各走査線ｇ１〜ｇ６００を駆動する走査駆動部３１ａ，３１ｂと、各信号線ｓ１〜ｓ２４００を駆動する信号駆動部３０ａ〜３０ｅとを備え、走査駆動部３１ａ，３１ｂは走査時において、ダミー線１５に対して非選択時駆動電圧以下の電圧を常時、出力する。 （もっと読む）

【課題】田の字型の画素において、選択トランジスタを効率的に配置する。
【解決手段】田の字型の４つ（４色）の表示ドットによって、１画素を構成する。この１画素の行方向の中間部分を通過するようにゲートラインＧＬを配置し、このゲートラインＧＬに４つの表示ドットのスイッチングトランジスタＳＷのゲートを接続する。これによって、各スイッチングトランジスタＳＷのゲート配線を短くして効率的な配置が可能となる。 （もっと読む）

【課題】樹脂からなる突出体を備えた突起電極において電極の狭ピッチ化を容易に実現で
きるとともに、製造工程の長時間化や製造コストの増加を抑制することのできる構造若し
くは製法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、樹脂により形成された突出体１２４及び該突出体上
に形成された電極層１２５を有する突起電極１２０Ｂを備え、前記突出体は、複数の山状
の突出部１２４ａをそれらの周縁部１２４ｂの一部が接続された態様で一体に連結した形
状を有し、複数の前記突出部にそれぞれ前記導電層が形成されることにより複数の前記突
起電極が設けられてなり、隣接してなる前記突出部同士が接続されてなる接続部１２４ｖ
は、前記隣接してなる突出部にそれぞれ設けられてなる前記電極層の間に配置されてなる
ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板を加熱処理する工程において、特に、半導体層を結晶化させる際の結晶化工程に用いた場合に、結晶粒界の発生が少なく、結晶化度が高い半導体層を形成することができる電気光学装置用基板の製造装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱ユニットを備えた電気光学装置用基板の製造装置において、加熱ユニットは加熱部を含むとともに、加熱部の一端を回転中心として、加熱部と、電気光学装置用基板と、を相対的に円運動させるための回転部を備える。 （もっと読む）

【課題】ディスペンス性に優れ、硬化時の軟化を抑えることができ、シール剤のバルク強度が高くシール剤の垂れや破片の発生を抑制できるため、滴下工法による液晶表示素子の製造において、液晶汚染を防止することができ、液晶表示素子の高表示品位及び高信頼性を実現することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、これらを用いてなる液晶表示素子を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂５〜５０重量％、（メタ）アクリル樹脂４０〜９０重量％、ヒドラジド化合物３〜４０重量％、光重合開始剤０．１〜１０重量％、及び、シランカップリング剤０．１〜４重量％からなり、Ｅ型粘度計を用いて２５℃において１．０ｒｐｍの条件で測定した粘度が１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、動的粘弾性測定装置を用いて１℃／ｍｉｎ、周波数０．５Ｈｚの条件で測定した最低損失弾性率が１００Ｐａ・ｓ以上である液晶滴下工法用シール剤。 （もっと読む）

【課題】ソース・ドレイン配線を構成するアルミニウム合金膜と透明電極が直接接続され、該ソース・ドレイン配線とゲート配線の特性が共に良好なものであって、大幅に簡略化されたプロセスで製造することのできる薄膜トランジスタ基板と、該薄膜トランジスタ基板を備えた表示デバイスを提供する。
【解決手段】ゲート配線とこれに直交配置されたソース配線及びドレイン配線を有する薄膜トランジスタ基板であって、上記ゲート配線を構成する単層アルミニウム合金膜の組成と、上記ソース配線及びドレイン配線を構成する単層アルミニウム合金膜の組成が、同一であることを特徴とする薄膜トランジスタ基板とこれを備えた表示デバイス。 （もっと読む）

【課題】画素の開口率を十分に高く維持したまま、副画素間でのクロストークの発生を抑えることのできる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置では、各画素電極が、列方向に並んだ２つの副画素電極を有する。さらに、各画素を通るデータ線が、第１副画素電極に隣接する第１部分と、第２副画素電極に隣接する第２部分とを含む。第１部分と第２部分とでは行方向での位置が異なる。それにより、データ線が各画素の中間で一度折れ曲がっている。第１部分は第１副画素電極とは重なっていない。第２部分は第２副画素電極と重なっている。 （もっと読む）

【課題】高いアライメント精度でパターンを形成する。
【解決手段】アライメントマークＡＭを用いて基板Ｐ上の隔壁Ｂ１間にパターン形成材料を含む液体材料を配置してパターン８０を形成する。パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ソース線によって正反射された光に起因する視認性の低下を防止することが可能な４色の色相を有する電気光学装置等を提供する。
【解決手段】電気光学装置の一例としての液晶装置はＲ、Ｇ、Ｂ及びＣ（シアン）の４色の着色層を用いて構成され色再現範囲が大きくなっている。また、この液晶装置は、４色の着色層を有するカラーフィルタ基板と、アルミニウム等にて形成されたソース線及びソース線の上側に設けられた散乱層とを有する素子基板との間に液晶層を挟持してなる。散乱層は液晶層と屈折率が異なる材料にて形成されている。特に、ソース線と平面的に重なる散乱層の表面は凹部及び凸部を有する曲面形状に形成されているので、屈折率の相異なる、液晶層と凸部との間に凹レンズが形成され、これにより、ソース線にて正反射された正反射光を拡散させることができる。よって、ぎらついた表示状態となるのを防止できる結果、当該ソース線にて正反射された光により視認性が低下するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】ストレージキャパシタの面積を減らしながらも容量を維持するようにした液晶表示装置アレイ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１００上に形成されるゲート配線９０及び当該ゲート配線９０に交差するように形成されるデータ配線と、ゲート配線９０とデータ配線の交差部に形成される薄膜トランジスタと、ゲート配線９０に平行して凹凸形状パターンに形成されるストレージキャパシタ第１電極１３０と、第１電極１３０上に薄膜トランジスタのドレイン電極と一体的に形成されるストレージキャパシタ第２電極１３６と、ドレイン電極と電気的に連結される画素電極と、を有する。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成する。
【解決手段】基板Ｐ上に配線パターン４１を形成する工程と、配線パターン４１の少なくとも一部上にスイッチング素子を形成する工程とを有し、配線パターン４１をメッキ処理により成膜する。 （もっと読む）

【課題】所定の機能を確保しつつ、安定してパターンを形成する。
【解決手段】機能液を基板上に配置して線状の第１膜パターン４０と、第１膜パターン４
０より幅狭で基端部で第１膜パターン４０に接続される第２膜パターン４１とを形成する
。第１膜パターン４０に対応する第１開口部５５及び第２膜パターン４１に対応する第２
開口部５６を有する隔壁３４を形成する工程と、第１開口部５５に機能液の液滴を配置し
、機能液の自己流動により機能液を第２開口部５６に配置する工程とを有する。第２膜パ
ターン４１の先端部は、矩形輪郭を欠落させた形状の欠落部４１ａを有する。 （もっと読む）

【課題】モールディング後に残っている残膜を効果的に除去できる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置の製造方法は、ベース基板を設ける工程と；ベース基板上にベース基板の少なくとも一部を露出させる所定パターンの開口が設けられたマスター層を形成する工程と；マスター層と開口によって露出されたベース基板の表面を処理した後に開口内部に光遮断物質をジェッティングし、表面処理によってマスター層と光遮断物質の間の界面張力の差を増加させる工程と；ベース基板とマスター層上にモールド材料層を形成し、モールド材料層と光遮断物質を硬化させて、光遮断膜が設けられたモールドを製造する工程と；モールドをマスター層から分離した後、感光膜が形成された絶縁基板上にモールドを配置して相互加圧し、露光する工程と；モールドを分離した後、感光膜を現像する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良い液晶セルを提供する。
【解決手段】画素５内の反射表示領域21を挟んだ両側に透過表示領域22を配置する。第１の高さ調整層33を対向基板31の対向電極34の下に形成して反射表示領域21での液晶層42の厚さを透過表示領域22の厚さより薄くする。反射表示領域21の周縁での液晶分子41の動きと、透過表示領域22の周縁での液晶分子41の動きとが、反射表示領域21の両側で対称となる。画素５内での液晶配向安定性を向上できる。液晶層42中の液晶分子41の配向揺らぎによる表示むらの欠陥を回避できる。視野角の非対称性を回避できる。 （もっと読む）

【課題】高画質であって、フレキシビリティーが高く、かつ耐屈曲性の高い平板表示装置を提供すること。
【解決手段】基板にマトリクス状に配置された複数の画素を備える平板表示装置であって、前記複数の画素はそれぞれ、ナノワイヤ、ナノロッド、ナノリボンまたはナノチューブを含むチャネル領域を有する薄膜トランジスタ、および前記薄膜トランジスタにより駆動される表示素子を含み、前記ナノワイヤ、ナノロッド、ナノリボンまたはナノチューブの軸方向は、チャネル領域のソース−ドレイン方向と同方向であり、ソース−ドレイン方向と交わるように屈曲される平板表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】クロストークやフリッカ等の表示不良を良好に抑えることができる小画素面積もしくは高精細化された液晶表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、透明基板１１上にマトリクス状に設けられた複数の信号線１７及び走査線１６と、前記走査線に平行に設けられた補助容量線１８と、薄膜トランジスタＴＦＴと、前記薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極Ｄに電気的に接続された画素電極２０とを備えた液晶表示装置１０において、走査線１６及び補助容量線１８と信号線１７との交差部は、それぞれゲート絶縁膜２５_１、２５_２及び半導体層１９_１、１９_２により分離されているとともに、画素電極２０が位置する部分の補助容量線１８の表面にはゲート絶縁膜２５よりも厚さが薄い絶縁層２６を介して前記薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極Ｄが延在されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電子部品の小型化や高密度実装によってもリークやショートなどを引き起こすことが無く、かつ導電性を充分に確保しつつ導電粒子を効率的に利用可能な異方性導電材を有する電子部品実装基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 異方性導電材１８、１８‥、１８‥は、電子部品１７の電気接点１７ａと、導電膜１２とが電気的にコンタクトされる位置に開口穴１６を形成し、この開口穴１６を埋めるように形成される。これにより、電子部品１７は、異方性導電材１８、１８‥、１８‥を介して導電膜１２の所定位置に電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】補助容量を形成する膜の膜厚ばらつきに起因する階調ずれを防止する。
【解決手段】各画素に配置された補助容量２２と同一の層構造をもつ検出用容量４をアレイ基板１に設け、複数ある補助容量２２の代表として検出用容量４の容量値を検出し、この検出値に基づいて補助容量２２に接続された電源配線Ｙの電位振幅ΔＶcsを調整する。 （もっと読む）

【課題】 より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、電子デバイス、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン形成方法は、基板Ｐ上に隔壁３０を形成する隔壁形成工程と、隔壁３０に囲まれたパターン形成領域３０ａに導電層８０を形成する導電層形成工程と、導電層８０上にめっき核２６を配置するめっき核配置工程と、導電層８０上に、無電解めっき法によりめっき核２６を触媒として拡散防止層８２を形成する拡散防止層形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】画素の表示特性の低下を防止する。
【解決手段】基板Ｐ上に画素電極形成材料を含む液滴を吐出して画素電極４５を形成す
る。基板Ｐ上に隔壁形成材料の薄膜を形成する工程と、薄膜の表面に撥液処理を施す工程
と、撥液処理が施された薄膜をパターニングして、画素電極４５の形状に応じた隔壁６１
を形成する工程と、隔壁６１の間の凹部に液滴を吐出する工程とを有する。 （もっと読む）