【課題】導電層の平坦性を向上させる金属配線形成方法及び焼成炉を提供すること。
【解決手段】基板Ｓ上に形成されたマンガン層２５上に、金属微粒子を分散させた配線形成用インクＸ２を塗布する第２液滴吐出工程と、配線形成用インクＸ２を加熱して前記金属微粒子を粒成長させ、銀層２６を形成する第２焼成工程とを有し、前記第２焼成工程で、基板Ｓの上下に間隔をあけて基板Ｓのうち少なくとも配線形成用インクＸ２が塗布された領域に対して赤外線を均一に照射する一対の金属板１８を配置した状態で、基板Ｓを焼成温度まで昇温する。 （もっと読む）

【課題】本発明は共通電極と画素電極間の間隔を小さくすることにより、電極の駆動電圧を減少させて小さい駆動電圧でも作動する横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による横電界方式の液晶表示装置は、第１基板及び該第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板上に互いに交差して画素領域を定義するゲートライン及びデータラインと、前記画素領域内に水平電界を発生させるために、所定の空いた空間を介して離間して形成された共通電極及び画素電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】非線形性に優れ、かつ、抵抗の低い配線を下電極と同時形成することのできる非線形素子および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】非線形素子１０ｘの下電極１３ｘおよびタンタル配線１３ｙを構成するにあたって、窒素含有の第１タンタル層１３１ｘおよび下層タンタル層１３１ｙの上層に、窒素を含有しない第２タンタル層１３２ｘおよび中間タンタル層１３２ｙを積層し、その上層に窒素含有の第３タンタル層１３３ｘおよび下層タンタル層１３３ｙを形成する。第２タンタル層１３２ｘおよび中間タンタル層１３２ｙは、立方晶系の単相のタンタル膜になっており、比抵抗が低い。絶縁層１４ｘは、窒素を含有するタンタル酸化膜であるため、非線形素子１０ｘは、非線形性に優れている。 （もっと読む）

【課題】大画面用の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の作製に好適なパターン形成方法及びＴＦＴアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。
【解決手段】走査方向に対し、描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記ポジ型感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う露光工程等を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

導電性の、構造化された、又はほぼ平坦な表面を支持体上に製造する方法であって、第１工程で、マトリックス材料中に導電性の粒子を含む分散物を使用して、構造化された又はほぼ平坦な基礎層を支持体上に施し、第２工程で、マトリックスを少なくとも部分的に硬化及び／又は乾燥させ、第３工程で、マトリックスを少なくとも部分的にブレークすることによって導電性の粒子を露出させ、そして第４工程で、無電解及び／又は電解被覆によって、構造化された又はほぼ平坦な基礎層上に金属層を形成することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】複数の画素を有する表示領域に形成された複数の信号配線、前記表示領域の外側に形成された複数のファンアウト配線を含む少なくとも１つのファンアウト配線部、前記信号配線とファンアウト配線の間に前記信号配線とほぼ平行に形成され前記２つの配線を連結し、少なくとも一部は屈曲パターンを有する複数の信号補償配線を含む信号補償配線部を含む薄膜トランジスタ基板及び表示装置を提供する。
【解決手段】信号補償配線間の間隔は、駆動回路付近での配線間隔より充分に広いので、多数の配線にこのような屈曲パターンを容易に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 薄膜トランジスタを転写して形成する表示装置の製造方法における犠牲層のエッチングの高速化と、エッチング停止層におけるエッチングの低速化。
【解決手段】 基板上に、犠牲層、エッチング停止層、絶縁膜層、Ｓｉ層を形成して薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トランジスタを転写して表示装置を構成する製造方法において、前記犠牲層を、ＳｉＯ絶縁膜にリン、ボロン、ゲルマニウムのうち少なくともいずれか一種以上を、リン＋ボロン＋ゲルマニウムの重量百分率で３％以上含有して構成する。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁層以外の絶縁層を誘電体層として利用することにより、保持容量の耐
電圧や静電容量のばらつきを小さく抑えることのできる電気光学装置、電子機器、および
電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の素子基板１０では、画素電極２ａにおいて下電極３ｃにパッシベ
ーション膜８を介して対向する部分を保持容量１ｈの上電極として用いる。保持容量１ｈ
において、画素電極２ａと下電極３ｃとの間には、ゲート絶縁層４が厚さ方向の全体にわ
たって除去された第１の除去領域４ｃが形成されている、また、下層側導電層層接続用コ
ンタクトホール８９の形成領域には第２の除去領域４ｆを形成する。 （もっと読む）

【課題】細い線状のパターンを、精度よく安定して形成する。
【解決手段】表示装置の駆動のための薄膜トランジスタであって、バンクで区画された領域にゲート電極４１の少なくとも一部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、開口率を向上させる。
【解決手段】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記第１の基板は、アクティブ素子と、前記アクティブ素子よりも上層に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜よりも上層に設けられた第１の電極と、前記第１の電極よりも上層に設けられた第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜よりも上層に設けられた画素電極とを有する液晶表示装置であって、前記液晶表示パネルは、透過部と反射部とを有する複数のサブピクセルを有し、前記画素電極は、前記透過部と前記反射部とで共通し、前記第１の電極は、前記透過部と前記反射部とでそれぞれ独立しており、前記画素電極は、前記透過部と前記反射部とでそれぞれ独立している前記第１の電極の隙間に形成されるコンタクトホールを介して、前記アクティブ素子に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】回路基板として、ガラス基板だけではなく、高分子系材料で構成される基板（被転写体）上などへ、十分な密着性、低抵抗、高精細、高信頼性、絶縁性を有し、かつ低コスト、短納期、低環境負荷などの要求を満足させる配線を形成するための、金属薄膜素子の転写方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成された金属薄膜素子を有する転写体の薄膜素子を選択的に被転写体に転写する方法であって、転写体は基材と薄膜素子の少なくとも一面に光熱変換層を備え、転写体と被転写体を接着層を介して対向し、光熱変換層にレーザ光を選択的に照射し、得られた熱により接着層を選択的に溶融・軟化させ、薄膜素子と被転写体とを選択的に接着させ、選択的に接着された薄膜素子を転写体から離脱させて被転写体に転写層を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト工程などの煩雑な工程を増加させたり、高度な貼り合わせ技術を要求することなく、高コントラストで、視角特性の優れた液晶表示装置を提供する。また、かかる液晶表示装置において、色ムラの発生を抑制する。
【解決手段】 第１の基板１０１と第２の基板の間に例えば誘電異方性が負の液晶層１００が挟持され、第１の基板１０１上の共通電極１０２と第２の基板１１０上の画素電極１１４の間に電圧を印加する構造を有する液晶表示装置において、画素電極１１４が、共通電極１０２で覆われていると共に、対称性の良い形状とする。この構成にすることにより、駆動させる際の電界が、基板に対して斜めになり、一画素内の液晶の配向が自然に複数の領域に分割され、広視野角化が図れる。 （もっと読む）

【課題】幅広部と微細部とを有する膜パターンの膜厚を簡単に制御して均一化することが可能な膜パターン形成方法、及びこのような膜厚が均一な膜パターンを備えることにより、高性能なデバイスの製造方法、表示品質の高い電気光学装置、並びに電子機器の提供をする。
【解決手段】機能液を基板上に配置して所定の膜パターンを形成する方法であって、前記基板上に、幅広部と、当該幅広部と接続された微細部とを有するパターン領域を形成するパターン領域形成工程と、前記幅広部に前記機能液を選択的に吐出することにより、前記パターン領域に機能液を配置する機能液配置工程と、前記幅広部から前記微細部に向かう方向に温度勾配を付与しながら機能液を乾燥させることにより、膜パターンを形成する乾燥工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 レジストのリフロー処理において、軟化したレジストを速やかに流動させ、しかもその流動方向および流動面積を高精度に制御し、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供する。
【解決手段】 レジスト１０３からターゲット領域Ｓ_１までの下層膜１０１の流動促進領域１０４に界面活性剤によって表面処理を施し、レジストが流動しやすいようにその濡れ性を改善する。レジスト１０３を軟化させた場合、軟化したレジスト１０３は流動促進領域１０４の方に進行し、ターゲット領域Ｓ_１に誘導されていく。表面処理を施していない禁止領域Ｓ_２に向うレジスト１０３の進行は、ターゲット領域Ｓ_１へ向かうレジスト１０３が多くなるほど、その反作用で逆に抑制される。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を介した導電膜間の接続不良を防止し、基板上の各導電膜間の良好な接続を得る半導体装置を提供する。
【解決手段】基板６上に形成された第１の導電膜１と、前記第１の導電膜１上に第１の絶縁膜７および第２の絶縁膜８を介して形成された第２の導電膜９とを備えた半導体装置。前記絶縁膜７、８の一部が開口され、該開口部２を介して前記第１の導電膜１と前記第２の導電膜９とが接続され、前記開口部２において前記第１の導電膜１と前記第２の導電膜９とが重なり合わない領域を備えている。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出法により基板上に多層配線の薄膜パターンを形成する場合において、導電膜パターンの密着性を確保しつつ、上下層間のコンタクト抵抗を低減する。
【解決手段】多層配線を有する薄膜パターンの形成方法であって、基板を含み、かつ、前記基板上に導電性を有する第１のパターン領域を有する基体上に、絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、前記絶縁膜上に、第１の幅広部と、前記コンタクトホールを含む領域に第２の幅広部を有する第２のパターン領域を形成するためのバンクを形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】マスクの温度変化を抑制して、パターンの焼き付け精度のばらつきを防止する。
【解決手段】制御装置６０の加温制御部６１は、露光処理を開始する前に、モータ駆動回路７０を制御してシャッター３４を所定時間開き、マスク２の温度を飽和温度又はそれに近い温度まで上昇させる。露光制御部６２は、モータ駆動回路７０を制御してシャッター３４の開閉を行い、これによって露光光をマスク２へ照射する工程（実際の露光工程）と露光光をマスク２へ照射しない工程（基板１の搬入、搬出等の工程）とを含む露光処理が行われる。保温制御部６３は、露光処理を中断している間に、モータ駆動回路７０を制御してシャッター３４を露光処理と同じ間隔で開き、マスク２の温度を飽和温度又はそれに近い温度に保つ。 （もっと読む）

【課題】製造工程が簡単な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置の製造方法は、ベースフィルム上に感光性表面活性剤をコーティングする工程と；表面活性剤上に有機層を形成する工程と；有機層上に所定のパターンの開口部が形成されたマスクを整列配置した後に露光して、表面活性剤と有機層の間の界面粘着力を減少させる工程と；ベースフィルム上の有機層を絶縁基板に付着させる工程と；熱を加えて有機層と絶縁基板の間の粘着力を増加させる工程と；ベースフィルムを絶縁基板から分離し、露光された表面活性剤に対応する有機層を絶縁基板に転写する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非表示領域に位置するキャパシタが占める面積を最小化しながら高容量のキャパシタを具現することができ、別の追加工程なしに高容量を有するキャパシタを具現することができる構造を有するアレイ基板を提供する。
【解決手段】アレイ基板は、多数の画素部を含む表示領域及び該表示領域の外郭に位置する周辺領域を有する基板と、基板の表示領域に形成されゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を含む薄膜トランジスタと、基板の周辺領域に形成され下部に位置する第１サブキャパシタ及び上部に位置する第２サブキャパシタが電気的に並列接続される構造を有するキャパシタと、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造工程が簡単な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置の製造方法は、絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、第１表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、第２表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、第３表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階とを含む。 （もっと読む）