【課題】下記の液晶材料を用いて半透過反射型の表示を行う際に、透過領域及び反射領域にて所望の透過率を得る、液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】電界の非印加時に光学的に等方性を示し且つ電界の印加時には電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す液晶を有する液晶層と、液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板とを備えた液晶装置１００である。反射表示を行う反射表示領域Ｒと透過表示を行う透過表示領域Ｔとが設けられたサブ画素領域９´と、第１基板のサブ画素領域９´において、反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔの両領域に設けられた第１電極及び第２電極とを備え、第１電極及び第２電極の間に生じる電界によって液晶層が駆動され、第２基板の透過表示領域Ｔには、第１電極９又は第２電極１９の少なくとも一方の電極との間に生じる電界によって、液晶層を駆動する第３電極５９が設けられる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程の回数を削減し、製造工程を簡略化し、低いコストで歩留まり良く製造すること可能となる半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】半導体膜を成膜し、レーザビームを遮蔽する遮蔽物を有するフォトマスクを通してレーザビームを照射し、半導体膜中の、フォトマスク中の遮蔽物が形成されない領域を介してレーザビームが照射された領域は昇華し、フォトマスク中の遮蔽物が形成された領域によりレーザビームが照射されなかった領域は昇華せずに島状半導体膜が形成され、ソース電極またはドレイン電極の一方である第１の電極と、ソース電極またはドレイン電極の他方である第２の電極が形成され、ゲート絶縁膜が形成され、ゲート絶縁膜上にゲート電極が形成される半導体装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】液晶分子をベンド配向にしやすくすることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】液晶分子５１の一部が突起部３０の上面３０ａに設けられた凹部３０ｂに入り込み、凹部３０ｂの開口部近傍において液晶分子５１ａが基板面に対して垂直な方向を向く。この状態で液晶層５に電圧を印加することで初期転移操作を行うと、当該凹部３０ｂの開口部近傍における液晶分子５１ａを核として、当該液晶分子５１ａの周りにベンド配向が伝播することになる。したがって、突起部３０を設けない状態で初期転移操作の電圧を印加する場合に比べて、液晶分子５１全体をベンド配向にしやすくすることができる。 （もっと読む）

【課題】フリッカを抑制して画像品位の向上を図ることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配置された液晶画素電極と、液晶画素電極と接続された保持容量及びトランジスタ素子とを有し、保持容量の下部電極とトランジスタ素子のチャネルとが同一のポリシリコンで形成された液晶駆動基板を備える液晶表示装置において、保持容量の上部電極４ｃの抵抗値が下部電極４ｂの抵抗値よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】インクジェット直描を用い、かつソース電極とドレイン電極間のギャップを４μｍ以下の狭小化をプロセスの増加なしに実現する。
【解決手段】薄膜トランジスタのソース電極ＳＤ１およびドレイン電極ＳＤ２を、シリコン半導体層ＳＩの上層にインクジェット直描により第１の間隔で対向配置した導体層ＳＤ１ＡとＳＤ２Ａ、該第１の層の上層と該対向配置された導体層の各対向端のそれぞれを覆って導体層の各対向端の第１の間隔より狭い第２の間隔で対向する透明導電膜ＳＤ１とＳＤ２の積層で構成した。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用電極やタッチパネル用電極用途で長期間安定に動作できる、導電性フィルムの提供。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面に、下記（ａ）〜（ｃ）を含有する組成物から形成される透明導電塗膜層を積層して、温度６０℃湿度９０％で２４０時間処理した後の表面抵抗変化率が１５０％以下である透明導電性フィルムを得る。（ａ）下記式で表される単位を主たる繰返し単位とするポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子、（ｂ）該導電性高分子の固形重量を基準として１０〜１０００重量％の割合で添加された、分子中に光硬化性官能基を３以上及びポリオキシエチレン単位を含有し、そのオキシエチレン単位の合計の繰返し単位数が１０〜３０である水溶性光硬化性化合物、（ｃ）該導電性高分子の固形分に対して１０〜１０００重量％の割合で添加された、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物。
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【課題】液晶表示装置の配線および電極を形成するための銅合金薄膜並びにその薄膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｇ：０．０２〜２原子％を含有し、さらにＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、ＮｉおよびＺｎのうちの１種または２種以上を合計で０．０１〜２．５原子％を含み、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金薄膜からなる熱欠陥発生のない液晶表示装置用配線および電極、並びにこれらを形成するためのＡｇ：０．１〜１０原子％を含有し、さらにＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、ＮｉおよびＺｎのうちの１種または２種以上を合計で０．０２〜５原子％を含み、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる組成を有するスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で、コスト削減が可能な半導体装置の作製方法を提供する。また、レジストを用いずとも所望の形状の半導体層を有する半導体素子を有する半導体装置の作製方法を提供する。また、基板上に形成された配線の欠陥を修正する際の効率を上げ、歩留まり及び量産性を高めることが可能な半導体装の作製方法を提供する。
【解決手段】透光性を有する基板の一方の面に光吸収層を形成し、透光性を有する基板の他方の面側からマスクを介してレーザビームを光吸収層に照射する。当該照射により、レーザビームのエネルギーが光吸収層に吸収される。当該エネルギーによる光吸収層内における気体の放出や光吸収層の昇華等により光吸収層の一部を解離させ、透光性を有する基板から光吸収層の一部を剥離させ、対向する基板上に選択的に光吸収層の一部を転写し、基板上に層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ピクセル口径比（開口率）を増大し、静電容量性クロストークを減少させたＴＦＴアレイ、およびそのＴＦＴアレイを有するアクティブ・マトリックス方式の液晶ディスプレイ、および製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のコンタクト・バイアスあるいは開口部を有するフォトイメージ形成型絶縁層をアドレス線とピクセル電極間に設け、両者を重複可能とする。この絶縁層により静電容量性クロストークを減少し、かつピクセル開口率を増加させる。フォトイメージ形成型絶縁層の厚さは、前記重複領域で約１．５μｍから２．５μｍであり、前記液晶ディスプレイは少なくとも約６５％のピクセル口径比と約４０から５００μｍのピクセル間隔を有する。 （もっと読む）

【課題】垂直配向分割モードの液晶表示素子において、実効的開口率を低下させることなく、広視野角を実現する。
【解決手段】画素電極１が形成されている駆動基板２と、それに対向する対向電極３が形成されている対向基板４と、駆動基板２と対向基板４の間に挟まれた液晶からなる液晶表示素子であって、画素電極１にスリット７又は切れ込み８が形成され、スリット７又は切れ込み８により区分された画素電極１の各領域に対応して、対向基板４に突起物６等の核が設けられる。 （もっと読む）

【課題】開口率の高い表示装置又は素子の面積の大きい半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】隣接する画素電極（又は素子の電極）の間に設けられた配線との下方にマルチゲート構造のＴＦＴのチャネル形成領域を設ける。そして、複数のチャネル形成領域のチャネル幅の方向を前記画素電極の形状における長尺方向と平行な方向とする。また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 （もっと読む）

【課題】透過率の低下なく、高輝度の表示品質で低コストの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板ＳＵＢ１上に薄膜トランジスタのゲート電極ＧＴを一部に形成して走査信号を印加するゲート配線ＧＬと、ゲート配線を覆って成膜されたゲート絶縁膜ＧＩと、ゲート絶縁膜の上に島状に形成されて薄膜トランジスタの能動層を構成する半導体層ｎＳ／Ｓと、ゲート絶縁膜ＧＩの上かつ半導体層に個別に接続されたソース電極ＳＤ１およびドレイン電極ＳＤ２と、ドレイン電極ＳＤ２に接続された画素電極ＰＸを有し、ゲート配線ＧＬとゲート電極ＧＴ、ソース電極ＳＤ１およびドレイン電極ＳＤ２、画素電極ＰＸを絶縁性膜のバンクＧ−ＢＮＫ、ＳＤ−ＢＮＫ、Ｐ−ＢＮＫで囲まれた領域内にインクジェット塗布した導電性溶液の焼成で形成するものにおいて、これらのバンクのいずれも第２基板ＳＵＢ２に有する遮光膜ＢＭで隠される領域内にのみ配置し、表示領域には設けない。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、開口率及び透過率を高め、残像発生を防止する。
【解決手段】液晶表示装置は、基板と、基板上に形成されるゲート線と、基板上に形成され、ゲート線と交差するデータ線と、基板上に形成される画素電極とを含み、画素電極は、ゲート線に平行な第１主辺と、データ線に平行な第２主辺と、第１主辺の一部に連続し第１主辺と所定角度をなす第１斜辺と、第１斜辺に連続し第１斜辺と所定角度をなし、更に第２主辺に所定角度をなして連続する第２斜辺とを含み、第１主辺と第１斜辺とがなす第１斜角と第１主辺と第２斜辺とがなす第２斜角は互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイパネルの中間調イメージを表示する際の色変動を改善すること。
【解決手段】ＬＣＤパネルは、第１の基板、第２の基板、液晶層、複数の第１の調整パターン、第２の調整パターン、第３の調整パターンを含む。ＬＣ層は、第１および第２の基板の間で配列される。複数の第１、第２、第３サブピクセル領域は、第２の基板の上で定められる。第１の調整パターンは、第１および第２の方向に沿って第１のサブピクセル領域に配置され、ここで第１の方向と第２の方向の角度θ１である。第２の調整パターンは、第３および第４の方向に沿って第２のサブピクセル領域内に配置され、第３の方向とが第４の方向は角度θ２である。第３の調整パターンは、第５および第６の方向に沿って第３のサブピクセル領域内に配置され、第５の方向と第６の方向が角度θ３であり、θ１≦θ２＜θ３である。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。また、それらの表示装置を構成する配線等のパターンを、所望の形状で制御性よく形成できる技術を提供することも目的とする。
【解決手段】導電層を形成する際、形成したいパターンの外側（パターンの輪郭、端部に相当する）に液状の導電性材料を含む組成物を付着させ、枠状の第１の導電層（又は絶縁層）を形成する。枠状の第１の導電層の内側の空間を充填するように、液状の第２の導電性材料を含む組成物を付着させ第２の導電層を形成する。第１の導電層及び第２の導電層は接して形成され、第２の導電層の周囲を囲むように第１の導電層が形成されるので、第１の導電層及び第２の導電層は連続した一つの導電層として用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 駆動領域と画素領域のＴＦＴが異なる特性、特に、電子移動度と、または漏れ特性を有する駆動回路と画素領域の全体的なＴＦＴ構造を提供する。
【解決手段】 薄膜トランジスタデバイスを含む画像表示システムであって、駆動回路領域と画素領域を含む基板、駆動回路領域と画素領域の基板の上にそれぞれ設置され、チャネル領域、ソース／ドレイン領域と、その間に形成された軽ドープ領域を含む第１と第２活性層、および第１と第２活性層の上にそれぞれ設置され、堆積された第１と第２ゲート誘電体層とゲート長を有するゲート層を含み、第２ゲート誘電体層が第１ゲート誘電体層より短い長さを有するが、ゲート層の前記ゲート長より長い２つのゲート構造を含み、第１活性層の軽ドープ領域は、第２活性層と異なる長さを有するシステム。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスでも安定した電気特性を有する透明導電膜を形成することができる透明導電膜形成用の液体材料を提供する。
【解決手段】本発明の液体材料は、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆ、及びＳｎから選ばれる１種以上の元素を含む酸化物からなる酸化物微粒子１２と、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆ、及びＳｎから選ばれる１種以上の元素を含む金属材料からなる金属微粒子１３とを、分散媒に分散させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反りのあるワークに対しても正確なアライメントを行うことができるアライメント方法およびアライメント機構を提供すること、また、反りのあるワークに対しても正確に描画することが可能な描画方法および描画装置を提供すること。
【解決手段】テープ８０をステージ５０に載置するステップ（ａ）と、押さえ機構３４がテープ８０の両端部をステージ５０に向かって押圧するステップ（ｂ）と、ステージ５０がテープ８０を吸着するステップ（ｃ）と、によってテープ８０の反りを矯正した状態でステージ５０に吸着させ、ステージ５０をテープ８０とともに移動させてアライメントを行う。その後、液滴吐出ヘッドからテープ８０へ機能液を吐出するステップと、機能液を乾燥させてテープ８０上にパターンを形成するステップと、によってパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】画像の表示品質を向上させた表示パネルが開示される。
【解決手段】表示パネルは、第１基板、第２基板、及び液晶層を含む。第１基板は、単位画素を定義する信号線、信号線と電気的に接続された薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタと電気的に接続され単位画素内に形成された画素電極を含む。第２基板は、光を遮断する遮光膜、及び遮光膜の上部に形成され、画素電極と対応するように形成されたドメイン定義部を有する共通電極を含む。液晶層は、第１基板と第２基板との間に介在される。遮光膜は、信号線及び薄膜トランジスタをカバーするように単位画素のエッジに形成されたメイン遮光部、及びメイン遮光部からドメイン定義部が形成されていない領域に所定の長さに突出されたサブ遮光部を含む。これにより、第１及び第２基板が外部衝撃によって互いにずれても光漏れが発生することを防止して、画像の表示品質をより向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶シャッターの種々の部分を駆動しようとパターンニング部分へ電線を配設すると、電線の痕跡が透明電極を使用しても液晶層の存在により見た目で認識されてしまうので、駆動形態について改良が望まれていた。
【解決手段】液晶シャッター１０の上層側からは図中水平方向に上層ＩＴＯ膜層１２までカットして行を形成し、裏面側は図中垂直方向に下層ＩＴＯ膜層１４までカットして列を形成し、あたかも９個の区画Ｓ１１〜Ｓ３３に区分した状態とする。区分された各行、列のそれぞれ端縁に位置する各３個の配線用の区画のＩＴＯ膜に電極配線１６を接続し、制御装置１７によって各行、列ごとに電源供給可能とし、任意の区画に電圧を加え、行、列同時に電圧が加えられた区画だけが透過状態となり、その他は拡散状態となるようにし、電圧印加箇所を変更して所望の箇所だけを透過状態とし得る構成とする。 （もっと読む）