【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】第１基板１１及び第２基板１２と、第１基板に設けられた第１電極１３ａ及び第２電極１３ｂと、第２基板に設けられた第３電極１４ａ及び第４電極１４ｂと、第１基板に設けられた第１垂直配向膜１５と、第２基板に設けられた第２垂直配向膜１６と、第１基板と第２基板の相互間に設けられた液晶層１９を含み、第１及び第２垂直配向膜の少なくとも一方は一軸配向処理されており、第１電極と第３電極は、互いに重畳した領域がドットマトリクス表示部１を構成し、第２電極と第４電極は、互いに重畳した領域がセグメント表示部２を構成し、液晶層は、例えば、誘電率異方性が負の液晶材料と、感光性樹脂モノマーを重合させた高分子体を有しており、ドットマトリクス表示部に対応する領域よりもセグメント表示部に対応する領域の方が高分子体によって付加されるプレティルト角が小さい。 （もっと読む）

【課題】電界の漏れによる特性の悪化を軽減することができる液晶光学素子を提供する。
【解決手段】液晶光学素子は、所定の領域毎に群を構成するように形成された透明な複数の帯状電極を備えた第１基板、透明な共通電極を備えた第２基板、及び、第１基板と第２基板との間に配置され、共通電極と帯状電極との間に印加される電圧によって所定の領域毎にリタデーション分布が制御される液晶層、を備えており、第１基板と第２基板との間において、所定の領域の境界に対応する部分には、壁状のスペーサが設けられており、スペーサの２つの壁面のうち少なくとも一方には、一定値の電圧が印加される遮蔽電極が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 表示パネル形成に際してのラビング時の静電気対策を主の目的としたカラーフィルタ形成基板の裏面の透明導電層のダメージの不具合を解決でき、且つ、表示用パネルに用いられた際に、横電界の乱れを抑制して、確実に液晶の配向の乱れを抑制できる横電界方式のＬＣＤ表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を提供する。
【解決手段】 透明基板側から、ブラックマトリクス層、各色のカラーフィルタ用の着色層、オーバーコート層、柱状物の順として、且つ、前記透明基板と前記オーバーコート層との間に、全面に、透明導電層を配しており、前記透明導電層は、少なくとも前記カラーフィルタ用の各色の着色層形成領域の一部を開口する開口部を有している。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルな基板を用いても、高い精度で薄膜トランジスタを形成することができる薄膜トランジスタの製造装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に薄膜トランジスタを製造する製造装置であり、基板に関する基板情報を取得する取得部と、取得部で得られた基板に関する基板情報に基づいて、基板の伸縮強度が高い方向を特定し、伸縮強度が高い方向と薄膜トランジスタのチャネル領域を挟んでソース電極およびドレイン電極が配置される配置方向とが直交するように薄膜トランジスタを形成する向きを設定する設定部とを有する。 （もっと読む）

【課題】画像形成層上に、容易且つ迅速にパターン形成できる方法で導体パターンを形成するディスプレイ・デバイスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ・デバイス１０は、基板１５と、基板上に形成した第１の透明導電性層２０と、第１の透明導電性層上のコレステリック液晶光変調層３０と、コレステリック液晶光変調層上に形成した第２の導電性層４０とを含んでなるディスプレイ・デバイスであって、前記第２の導電性層４０が銀をベースにするＵＶ硬化性の導電性層である。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタは、第１方向に形成された少なくとも１本のゲートラインを含むゲート１１と、ゲート上に形成されたゲート絶縁層１２と、ゲート絶縁層１２上に形成された少なくとも１つのソース１３及びドレイン１４と、を含み、ソース１３及びドレイン１４のうち少なくともいずれか一つは、延長部分１３ｂ、１４ｂを含み、延長部分１３ｂ、１４ｂは、少なくとも１本のゲートラインと平行するように、第１方向に形成される。ゲート１１は、ライン状に均一厚を有し、その側面と上面との間に曲面を含み、１本または２本以上のゲートラインを含む形態となる。 （もっと読む）

【課題】 光の量の調節を連続的に行え、ピントの調節も行えるカメラ用絞り光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 カメラ用絞り光学素子１ｂは、所定のパターンを備える透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとエレクトロクロミック膜層１２とを有する第１のガラス基板３と、所定のパターンを備え、エレクトロクロミック膜層１２に対向配置された透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを有する第２のガラス基板２と、両ガラス基板２，３間に配設された電解質層１１とを備える。透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、各ガラス基板２，３上に同心円状に配置された複数の部分を備え、エレクトロクロミック膜層１２は、第１のガラス基板３の透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの複数の部分のそれぞれの上に設けられ、該複数の部分の間で透明電極層の側壁が露出されている。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法により微細なパターンでショートさせることなく機能性膜を形成することができる機能性膜の形成方法を提供する。
【解決手段】被印刷面上に、低表面エネルギー領域を隔てて隣接する高表面エネルギー領域２３１，２４１を有する表面において、高表面エネルギー領域２３１，２４１の形状及び機能液の着弾範囲に基づいて、高表面エネルギー領域２３１（２４１）に機能液を供給する際に該機能液が高表面エネルギー領域２３１（２４１）のみに触れるための滴下許容範囲２３１Ａ（２４１Ａ）を決定し、ついで滴下許容範囲２３１Ａ（２４１Ａ）内の任意の位置を高表面エネルギー領域２３１（２４１）に対する機能液の滴下位置２３１Ｃ（２４１Ｃ）として決定し、高表面エネルギー領域２３１（２４１）の滴下位置２３１Ｃ（２４１Ｃ）にインクジェット法を用いて選択的に機能液を供給して所定パターンの機能性膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基材表面の選択的領域に気相から堆積層を形成するための蒸着マスクを用いる薄膜パターン形成工程において、薄膜パターンの位置ズレやパターンエッヂのボケがなく、基材表面へのキズ等の欠陥を与えることのない蒸着マスクおよびそれを用いた薄膜パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】非堆積領域とすべき部分を被覆して基材表面と密着させる材料が可撓性フィルム１１１からなる可撓性貼付フィルム１１０を用いた蒸着マスク１１を使用し、可撓性貼付フィルムを基材１０の成膜側全表面に密着させた後、所望の堆積層１３を形成すべき領域を覆う可撓性貼付フィルムを選択的に除去し、しかる後に堆積層を形成する成膜工程を実施し、最後に基材表面上に残された可撓性貼付フィルムを除去する。 （もっと読む）

【課題】移動度が高く電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な金属酸化物半導体薄膜を提供する。更に、本発明は、該金属酸化物半導体薄膜の製造方法及び該金属酸化物半導体薄膜を用いた薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有する金属酸化物半導体薄膜であって、前記金属酸化物は、下記式（１）に規定する関係を満たすことを特徴とする金属酸化物半導体薄膜。
［数１］
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【課題】金属元素を用いた結晶化法において、ゲッタリングのために必要な不純物元素の濃度が高く、その後のアニールによる再結晶化の妨げとなり問題となっている。
【解決手段】
本発明は半導体膜に、希ガス元素を添加した不純物領域を形成し、加熱処理およびレーザアニールにより前記不純物領域に半導体膜に含まれる金属元素を偏析させるゲッタリングを行なうことを特徴としている。そして、半導体膜が形成された基板（半導体膜基板）の上方または下方からレーザ光を照射してゲート電極を加熱し、その熱によってゲート電極の一部と重なる不純物領域を加熱する。このようにして、ゲート電極の一部と重なる不純物領域の結晶性の回復および不純物元素の活性化を行なうことを可能とする。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。
【解決手段】ＵＶ硬化性樹脂及び添加剤を含んで、前記ＵＶ硬化性樹脂及び前記ＵＶ硬化性樹脂と接触するベース層間に化学的結合を誘導する接着増進剤を含むことを特徴とするレジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】表示基板を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による表示基板は、絶縁基板上に形成されたゲート配線と、前記ゲート配線上に形成され、酸化物半導体を含む酸化物半導体パターンと、前記酸化物半導体パターン上に前記ゲート配線と交差するように形成されたデータ配線を含み、前記酸化物半導体パターンは第１酸化物および第３元素を含む第１酸化物半導体パターンおよび第２酸化物を含む第２酸化物半導体パターンを含む。 （もっと読む）

【課題】配線電極が見えたり、配線電極の一部が半点灯することが無く、簡素な製造方法により製造可能な光散乱型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】表示電極５と配線電極６を形成し、その上に絶縁膜８を形成し、その上に背景電極９を形成している。背景電極９は、絶縁膜８を介して表示電極５の外周部を重なるように、更に、配線電極６も絶縁膜８を介して重なるように形成する。 （もっと読む）

【課題】凹凸のあるスルーホール部分であっても、層間絶縁膜の上下の導電層間で良好な電気的な接続が得られる、版を用いた印刷法による薄膜トランジスタアレイの製造方法を提供すること。
【解決手段】版に形成された画素電極パターンのスルーホールに対向する位置に保持されたインクの量を、画素電極パターンのスルーホールに対向する位置以外の部分に保持されたインクの量よりも多くすることによって、凹凸のあるスルーホール部分であっても、層間絶縁膜の上下の導電層間で良好な電気的な接続が得られる、版を用いた印刷法による薄膜トランジスタアレイの製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】電極の引出し加工が容易であり、かつマイグレーションの発生を抑制できる画像表示素子を提供する。
【解決手段】前面パネル１と、これに対向する裏面パネル２と、前面パネル１及び裏面パネル２間に配置された複数の画素と、画素を制御する複数の電極とを有し、前面パネル１と裏面パネル２が画素及び電極を挟んで貼り合わされて構成され、金属膜配線５を介して電極を駆動回路に接続する画像表示素子において、電極端子４が露出するように分割されると共に、この分割部分に断面Ｖ字型の溝部３が形成されており、金属膜配線５は、裏面パネル２の上部２ａの面に形成されており、電極端子４と金属膜配線５は、溝部３を構成する傾斜面に沿って塗布された導電ペースト１０により接続されている。 （もっと読む）

【課題】工程数の低減が可能な電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基板の上方に、第１導電性膜を形成する工程と、第１導電性膜上に、第１導電性膜を露出する第１凹部(C2)と、平面視において第１凹部を取り囲むよう配置された第２凹部(G2)と、を有する層間絶縁膜(R1,R2)を形成する工程と、第２凹部の底面をエッチングし、第２凹部より大きい開口部を有する第３凹部(G3)を形成することにより、第２凹部の下方にオーバーハング部(OH)を形成する工程と、第１、第２および第３凹部内を含む前記層間絶縁膜上に第２導電性膜を堆積することにより、第１導電性膜と電気的に接続され、第２導電性膜よりなる画素電極を形成するとともに、第３凹部(G3)によって画素電極(PE)とその外周の第２導電性膜(30b)とを電気的に分離する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】滴下工法により液晶表示素子を製造した場合に、液晶汚染を生じにくく、色ムラが少ない高品位な画像の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を提供する。また、真空注入工法により液晶表示素子を製造した場合であっても液晶汚染を生じにくく、色ムラが少ない高品位な画像の液晶表示素子を製造することができる液晶パネル用封口剤を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル基を有する樹脂、及び、カルボキシル基を有するアゾ開始剤を含有する液晶滴下工法用シール剤。 （もっと読む）

【課題】光電変換効率の優れた光センサを備える表示装置の提供。
【解決手段】基板上に光センサが形成された表示装置であって、
前記光センサは、前記基板の側から、ゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層の順序で、あるいは、半導体層、ゲート絶縁膜、ゲート電極の順序で積層され、前記半導体層の両側からそれぞれ電極が取り出されて構成され、
前記半導体層は、結晶性半導体層、非晶質半導体層の積層体で構成され、前記結晶性半導体層は前記ゲート絶縁膜側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】櫛歯状の画素電極を有するＩＰＳ方式の液晶表示装置において、スルーホール部の信頼性、端子部の信頼性を確保しつつ、残像を防止する。
【解決手段】櫛歯状の画素電極１１０を有するＩＰＳ方式の液晶表示装置において、櫛歯電極と櫛歯電極の間がラビングされないことによって残像が生ずる。画素電極１１０、画素電極に電圧を供給するスルーホール１１１、および、端子部４０１はＩＴＯによって形成されている。画素電極部１１０のＩＴＯのみをスルーホール部１１１のＩＴＯおよび端子部４０１のＩＴＯよりも膜厚を小さくすることによって、画素電極１１０の櫛歯電極間のラビングが十分に出来るようにする。 （もっと読む）