【課題】レアメタルであるインジウムを使用せず、酸化亜鉛を使用し、高い電気伝導性を備えた透明導電膜付き基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜をマグネトロンスパッタリング法により成膜し、前記成膜工程において基板にバイアスを印加して成膜すること、および、印加するバイアスは、成膜の初期段階でのバイアスの値がＲ０、初期段階後のバイアスの値がＲとすると、Ｒ０/Ｒを１．２〜２．５にすることにより課題を達成した。 （もっと読む）

【課題】偏光性を有し、可視光の透過率が良好な透明導電性電極及びこれを用いた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電性電極２９は、透明な基板の表面に形成された薄膜状の透明導電性電極２９であって、長さＬが可視光の最長波長よりも長く、幅Ｗが可視光の最長波長の波長よりも短い微細長孔３８が前記微細長孔３８の幅方向に等間隔で複数個形成されていることを特徴とする。前記微細長孔３８を前記微細長孔の幅方向に平行に形成すると、前記透明導電性電極にワイヤグリッド型偏光板と同様の偏光性が付与されるため、前記微細長孔を有しない透明導電性電極の場合よりもよりも特定の偏光性を有する光の透過率が向上する。この透明導電性電極を液晶表示装置の電極として用いると、電気的には従来例の場合と同様であるが、より明るい表示ができる液晶表示装置となる。 （もっと読む）

【課題】反射型表示装置の製造工程を大幅に簡略化する。
【解決手段】薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタの上方に配置された絶縁層及び画素電極を有し、画素電極は、薄膜トランジスタに電気的に接続され、表面に凹凸を有し、かつ、反射機能を有し、絶縁層は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素及び有機性樹脂から選ばれた材料を積層した構造を有し、絶縁層の少なくとも一層はカーボン系材料及び顔料の少なくともいずれか一を含む遮光膜である表示装置とする。 （もっと読む）

【課題】非表示領域の周辺において、信号線の配置に占める面積を小さくできる表示装置の提供。
【解決手段】基板上に、一方向に並設される複数のゲート信号線と、前記一方向と交差する方向に並設される複数のドレイン信号線と、前記ゲート信号線とドレイン信号線とのうちの一方の信号線のそれぞれの間に前記一方の信号線に沿って配置される複数の共通信号線とを備え、共通信号線と交差して配置される接続配線に電気的に接続され、接続配線は、複数の共通信号線うち、仮想的にそのまま延長した場合でも非表示領域を横切ることなく配置されている第２の共通信号線に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】 ドットマトリクス型もしくはキャラクター表示とドットマトリクス表示混在型の液晶表示素子で曲線の滑らかなキャラクター表示を行う。
【解決手段】
液晶表示素子は、対向する一対の基板と、一対の基板の一方に設けられ、多数のアクティブ素子を含む画素と、一対の基板の他方に設けられ、２層の互いに電気的に絶縁された透明電極を含むコモン電極と、一対の基板間に挟持された液晶層とを有し、画素とコモン電極とが一対の基板の対向面側に形成され、コモン電極は、基板上方に形成され、文字や図形を表示するための表示パターンを内包した第１のコモン電極と、第１のコモン電極上方に絶縁膜を介して形成され、表示パターンの背景を内包した第２のコモン電極とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は液晶表示装置用アレイ基板製造用のエッチングテープを提供する。
【解決手段】本発明のエッチングテープは、ベースシート及びベースシート上にゲルタイプのエッチング物質が塗布されて形成されたエッチング物質層を含む。このエッチングテープは、透明絶縁基板上にゲート電極、ストレージキャパシターの第１電極、ゲート配線を形成する段階、ゲート絶縁膜、アクティブ層、オーミック接触層、ソース電極及びドレーン電極を形成し、誘電体層及びストレージキャパシターの第２電極を形成し、データ配線を形成する段階、画素電極を形成し、ゲートパッド電極を形成し、データパッド電極を形成する段階、保護層を形成する段階及びゲートパッド電極上に形成された保護層とデータパッド電極上に形成された保護層をエッチングすることでコンタクトホールを形成する段階を含む液晶表示装置用アレイ基板の製造方法に利用される。 （もっと読む）

【課題】例えば、ＯＤＦ法を用いて形成される液晶パネル及び外部回路の電気的な接続不良を低減する。
【解決手段】液晶装置（１）では、接続部分（５２Ｃ）の中心部（Ｃ１）及び端子（１０２）は、図中Ｙ方向に沿って、互いに第１シール部分（５２Ｌ）及び第２シール部分（５２Ｒ）の夫々の線幅（Ｗ０）以上の間隔である幅（Ｗｇｙ）以上隔てられている。即ち、液晶装置１によれば、接続部分（５２Ｃ）の線幅（Ｗ１）が拡がる上限値を考慮したうえで接続部分（５２Ｃ）が端子（１０２）に重ならないようにシール部（５２）が形成されているため、液晶装置（１）及び外部回路を互いに電気的に接続する端子（１０２）に接続部分（５２Ｃ）が重なることによって生じる端子（１０２）及び外部回路等の間の接続不良を低減できる。 （もっと読む）

【課題】スプレイ配向からベンド配向への転移が確実に行われるＯＣＢモードの液晶装置、これを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００は、画素ごとに設けられたスイッチング素子としてのＴＦＴ３０と、これに電気的に接続された信号配線としての走査線３ａおよびデータ線６ａと画素電極１５とを備え、画素電極１５は、画素電極１５から突出してＴＦＴ３０の近傍に位置する走査線３ａの一部または／およびデータ線６ａの一部に誘電体層を介して平面的に重畳された突出部１５ａを有する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイヤーを要せず、各サブ画素が信号線に沿った縦方向に長いスリット
を有しながらも光漏れが生じ難く、しかも、高開口率で、表示画質が良好な可能なＦＦＳ
モードの液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】液晶層を挟持した一対の基板のうち、一方の基板上には平行に設けられた複
数の走査線１２及び共通配線１３と、前記走査線１２と交差する方向に設けられた複数の
信号線１７と、複数の前記走査線１２及び信号線１７で区画された領域に形成されている
と共に前記共通配線１３に接続された共通電極１４と、前記共通電極１４の表面に絶縁膜
を介して形成されているくし歯状の画素電極２０と、を備え、前記画素電極２０のくし歯
部分は前記信号線１７に沿って延在されており、前記信号線１７の表面には前記絶縁膜を
介して導電性材料層２１が形成され、前記導電性材料層２１は前記共通配線１３に電気的
に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 薬液によるダメージを軽減し、工程を簡略化できる透明導電膜パターンの形成方法および金属薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 カラーフィルタ層が設けられた基板６上に、反転印刷法によりパターン化された樹脂層である印刷樹脂層２ａを形成し、形成された印刷樹脂層２ａ上にＩＴＯ膜７を成膜する。印刷樹脂層２ａをリフトオフすることにより、ＩＴＯ膜７をパターン化する。印刷樹脂層２ａは、基板６表面に対して逆テーパ状に形成されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの構成部材の位置ずれを抑制し、さらに寄生容量の低減を図った薄膜トランジスタおよびそれを用いた装置の提供。
【解決手段】絶縁基板上に、ソース電極、ドレイン電極、前記ソース電極と前記ドレイン電極に電気的に接続される半導体層と、少なくとも前記半導体層上に形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に前記半導体層と重畳して配置されるゲート電極を備えるものであって、
前記ソース電極上に重ねられて第１バンク絶縁膜、前記ドレイン電極上に重ねられて第２バンク絶縁膜が形成され、
前記半導体層、ゲート絶縁膜、およびゲート電極は、前記第１バンク絶縁膜と前記第２バンク絶縁膜の間の領域に形成されている。 （もっと読む）

【課題】耐刷性に優れると共に、膜厚が小さく、平坦性が高い個別電極を形成することが可能なスクリーン版及び膜厚が小さい個別電極を形成することが可能な電極形成方法を提供する。
【解決手段】複数の個別電極を形成するために用いられるスクリーン版１０は、１００μｍ以上２００μｍ以下の周期でマトリックス状に配置されている吐出領域１１と、非吐出領域１２を有し、非吐出領域１２は、個別電極の形状に相当する領域を除く領域１２ａと、個別電極の形状に相当する領域１３内に配置されていると共に、個別電極の形状に相当する領域１３を除く領域に接続されている遮蔽領域１２ｂからなり、個別電極の形状に相当する領域１３の面積に対する遮蔽領域１２ｂの面積の比が０．１０以上０．２５以下である。 （もっと読む）

【課題】走査信号線と映像信号線との交差箇所に開口部を設け、半導体層及び導電体層をレジストリフロー方式により形成する場合に、例えば黒点化修正を行えるよう担保できる表示装置を提供する。
【解決手段】映像信号線ＤＬとの交差箇所に開口部ＡＰが設けられた走査信号線ＧＬ、絶縁膜、導電体層より広がった領域を覆う半導体層ＡＳ、及び導電体層が順次積層され、導電体層は映像信号線ＤＬ、薄膜トランジスタＴのドレイン電極ＤＥ及びソース電極ＳＥ、並びに映像信号線ＧＬとドレイン電極ＤＥとを接続する接続線ＬＬを含み、接続線ＬＬは開口部ＡＰ上で映像信号線ＤＬから分岐し、開口部ＡＰは接続線ＬＬと交差する方向の幅が半導体層ＡＳの幅より広くなるように、走査信号線ＧＬの両側端に向けて突出して形成されている表示装置である。 （もっと読む）

【課題】導電性ポリマーの凝集が起こらず、光耐久性、透明性及び導電性に優れた導電性膜を形成し得る導電性ポリマー組成物、導電性ポリマー材料、及び導電性ポリマー材料の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性ポリマー組成物は、導電性ポリマーと、３価のリン化合物とを含む。前記３価のリン化合物としては、下記一般式（I）〜（IV）で表される化合物が好適である。一般式（Ｉ）〜（IV）中、Ｒ^１〜Ｒ^１２は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。本発明の導電性ポリマー材料は、前記導電性ポリマー組成物を用いて形成された層を備える、又は導電性ポリマーを含む層と３価のリン化合物を含む層を別層として備える。
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【課題】コンタクトホールを埋める工程を利用して、隣接する画素電極の間に発生する凹部を平坦化した電気光学装置、その製造方法、およびかかる電気光学装置を用いた投射型表示装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置において、画素電極９ａは、下層側に島状に形成された第１電極９１ａと、第１電極９１ａ上に島状に形成された上層側の第２電極９２ａとによって構成されている。第１電極９１ａの上層には絶縁膜７３が積層され、かかる絶縁膜７３によって、コンタクトホール７２ｂ内の凹部は完全に埋められ、隣接する第１電極９１ａの間も埋められている。従って、絶縁膜７３の表面と、第１電極９１ａにおいて絶縁膜７３から露出している表面とは連続した平坦面を構成しており、かかる平坦面上に第２電極７２ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】塗布印刷法の適応のみによって形状精度良好に目的パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板１上に樹脂パターン９を印刷形成する。樹脂パターン９上からフッ素系材料を供給することにより、樹脂パターン９の開口９ａ底部をフッ素系材料で覆った撥水性パターン１１を形成する。樹脂パターン９を除去することにより、撥水性パターン１１に開口窓１１ａを形成する。撥水性パターン１１の開口窓１１ａ内に半導体材料（パターン形成材料）を供給することにより、目的パターンとして半導体層１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】ＦＦＳモードの液晶表示装置において、正常な画像表示ができないディスクリネ
ーション発生部位が小さくなり、表示画質に優れた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置１０Ａは、液晶層を挟持して対向配置された一対の基
板を有し、前記一対の基板の一方には層間膜上に複数のサブ画素領域が形成され、前記複
数のサブ画素領域のそれぞれには、複数のスリット状開口２０ａを有する上電極２１と、
前記上電極２０と絶縁層を介して前記層間膜側に形成された下電極と、前記液晶層側に形
成された配向膜と、を備えた液晶表示装置において、前記複数のスリット状開口２０ａの
長手方向の端部に対応する層間膜上には窪み２２ａが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ヒロック等の発生による障害が発生することがなく、十分な信頼性を確保することが可能なアレイ基板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】 第１配線層、第２配線層１７、第３配線層１９を有し、信号線が第２配線層１７及び第３配線層１９により構成されるとともに、最下層の第１配線層の一部が薄膜トランジスタのゲート電極１５を構成している。外部接続用のＯＬＢパッド４が最上層の第３配線層１９の一部により形成されており、ＯＬＢパッド４と接続される引き出し配線が第２配線層１７により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳタイプの液晶表示装置において、走査線引出し線に印加されるゲート電圧の影響によって対向基板の内側が帯電し、画面周辺に白抜けが生ずる現象を防止する。
【解決手段】表示領域を構成する画素部Ａにおいて、平面状に形成された対向電極１０８の上に絶縁膜１０９を介して画素電極１１０が配置されている。走査線引出し部Ｃにおいて、領域Ｃの幅を小さくするため、走査線引出し線は、別層に形成された、第１走査線引出し線３１１と第２走査線引出し線３１２で構成されている。走査線引出し線は、対向電極１０８と同層で形成されたシールド電極１０７によって覆われている。シールド電極１０７はシール材２０の下まで延在しているので、シールド効果は高い。また、シール材２０とシールド電極１０７の間に絶縁膜１０９が存在しているので、シール効果を損なうことは無い。 （もっと読む）

【課題】スイッチング素子として薄膜トランジスタを用いた表示装置において、光リーク電流を小さく抑えることにより、表示装置の画質劣化を防止する。特に、薄膜トランジスタの保護絶縁膜中に存在する光により正の固定電荷となる欠陥の密度を規定し、光リーク電流を抑制した表示装置を提供する。
【解決手段】スイッチング素子として薄膜トランジスタを用いた表示装置（例えば、液晶表示装置）において、薄膜トランジスタは、絶縁性基板表面の一部を被覆するゲート電極上に、絶縁膜、アモルファスシリコン膜、ドレイン電極およびソース電極、保護絶縁膜がこの順で積層されたものであり、保護絶縁膜中に光照射下で正の固定電荷となる欠陥を含む。図に光照射下で正の固定電荷となる欠陥の面密度と光リーク電流の関係を示す。保護絶縁膜中の光照射下で正の固定電荷となる欠陥面密度が２．５×１０^１０ｃｍ^−２以上４．０×１０^１０ｃｍ^−２以下が好ましい。 （もっと読む）