【課題】配線密度を高くしすぎることなく断線を修復することが可能であり、フレキシブル性を持たせる場合に短絡や断線などを抑えることが可能な薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】第１導電層と、前記第１導電層の少なくとも一部に対向して、前記第１導電層に合わせた平面形状の開口を有する絶縁膜と、前記開口を塞ぐと共に前記開口内で前記第１導電層に接するパッチ部を含む第２導電層とを備えた薄膜トランジスタアレイ。 （もっと読む）

【課題】フラットパネル修復に、検査切断修復結合ツール及び独立体積修復ツールの２種類が必要である
【解決手段】装置は、統合された検査機能と、材料除去機能と、材料堆積機能とを備え、検査動作、材料除去動作、及び材料堆積動作を同じ光軸に沿って実行する。装置は、部分的に、カメラと、一対のレンズと、１つ又は複数のレーザとを備える。第１のレンズは、検査を受けているターゲット基板上に形成される構造上に光軸に沿ってカメラを合焦させるために使用される。第１のレンズは、検査された構造が材料除去を必要としていると識別される場合、構造上にレーザビームを合焦させて、その構造上に存在する材料を除去するためにも使用される。第２のレンズは、検査された構造が材料堆積を必要としていると識別される場合、レーザビームをリボン上に合焦させて、リボンに形成された埋め込みウェルから流動的複合物を構造に転写するために使用される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその不良画素の修復方法を提供する。
【解決手段】第１の絶縁基板と、第１の絶縁基板上に実質的に第１の方向に互いに平行するように配値されたゲート配線およびストレージ配線と、ゲートおよびストレージ配線と絶縁されて交差し、実質的に第２の方向に配値されたデータ配線と、データ配線上に形成された保護膜と、保護膜上に形成された第１の画素電極と第２の画素電極と、第１の画素電極に隣接する第２の画素電極を含み、ストレージ配線は、実質的に第１の方向に配値された水平部および水平部から実質的に第２の方向に分枝し、データ配線とオーバーラップする垂直部を含み、垂直部は、第１の画素電極および第２の画素電極とオーバーラップし、第１の画素電極と垂直部がオーバーラップする幅は第２の画素電極および垂直部の間のオーバーラップする幅と実質的に同一であることを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】表示装置において、近隣の他の配線に悪影響を与えることなく、配線の欠陥を修復することができるようにする。
【解決手段】表示装置の欠陥修正方法は、互いに隣接する２つの絵素電極３１ａ，３１ｂに挟まれた１つの隙間領域１０において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線１１，１２と、これらを覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、前記複数の配線のうちの第１配線の欠陥を修正する方法であって、前記欠陥としての断線箇所４１を挟むように位置する第１，第２部位６１，６２において、前記上側絶縁層に第１，第２貫通孔６３，６４をそれぞれあける工程と、前記第１配線のうち第１貫通孔６３内に露出した部分と前記第１配線のうち第２貫通孔６４内に露出した部分とを電気的に接続するように、修復用導電膜５４を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその不良画素の修復方法を提供する。
【解決手段】第１絶縁基板と、第１絶縁基板上に実質的に第１方向に互いに平行に配置されたゲート配線及びストレージ配線と、ゲート及びストレージ配線と絶縁されて交差し、実質的に第２方向に配置されたデータ配線と、ゲートとデータ配線とによって定義された画素領域上に形成された第１画素電極と、第１画素電極に隣接する第２画素電極と、を含み、ストレージ配線は、実質的に第１方向に配置された水平部と、水平部から実質的に第２方向に分枝し、データ配線とオーバーラップする垂直部と、を含み、垂直部は、第１画素電極及び第２画素電極とオーバーラップし、第１画素電極と垂直部がオーバーラップする幅は、第２画素電極及び垂直部の間のオーバーラップする幅と実質的に同一であることを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】配線パターンの修正において、修正抵抗を低減することが可能となる、パターン修正方法を提供する。
【解決手段】パターン修正方法は、導電性パターン２０の欠陥部２１を修正するパターン修正方法であって、導電性インクを塗布することにより第１のインク層３１を形成する工程と、第１のインク層３１を焼成することにより第１の修正層３２を形成する工程と、少なくとも一部が第１の修正層３２に重なるように導電性インクを塗布することにより、第２のインク層３３を形成する工程と、第２のインク層３３を焼成することにより第２の修正層３４を形成する工程とを備え、第１の修正層３２および第２の修正層３４により欠陥部２１を挟んで配置される導電性パターン２０間の電気的接続が確保される。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、製造工程中に残留する導電膜によって画素電極及びデータ配線が互いに短絡されることを防止して画素欠陥を減少させる。
【解決手段】液晶表示装置は、絶縁基板と、絶縁基板の上に位置するゲート線と、ゲート線を覆っているゲート絶縁膜３０と、ゲート絶縁膜上に位置し、ドレーン電極とデータ線とを含むデータ配線と、データ配線を覆っている保護膜７０と、保護膜の上に位置してデータ配線と電気的に連結されている画素電極８０とを含み、ゲート絶縁膜は第１開口部を有し、保護膜は第２開口部と接触口７２とを含み、第２開口部は前記第１開口部を露出させ、第１開口部と前記第２開口部は画素の縁領域に位置し、接触口７２は前記ドレーン電極の一部分を露出させる。 （もっと読む）

ディスプレイにおいて、能動マトリクス配列の断線の集積修復構造が、有効表示領域ＺＡ周辺でハーフリングを有する導体修復要素Ｅ_ｋを使用する。各修復要素は、ハーフリングの２本のオープンレッグと交差する配列の導線の１個のグループだけの修復に割り当てられる。断線は次いで、修復要素のハーフリングの２本のオープンレッグを用いて当該導線の２個の交差箇所の各々で接続を行うことにより修復される。ループ閉鎖は少なくとも、２本のオープンレッグを接続するセグメントにより行われる。
修復構造は、導線上の浮遊結合および帯電を最小化し、多数の導線の修復が可能でありながら安価である点が好都合である。特に、大型ディスプレイまたは高解像度ディスプレイに適している。
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【課題】高密度で微細なパターンの断線を低温プロセスによって修正可能な回路基板の欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。次の第２工程では、濡れ性調整層５における断線個所Ｄに対応する部分、またはそれ以外の部分に光を照射する。これにより濡れ性調整層５における断線個所に対応する部分の電極形成液に対する濡れ性を、それ以外の部分よりも高くする。その後断線個所Ｄに対応する濡れ性調整層５部分上に電極形成液を供給して乾燥させる。これにより、断線個所Ｄに電極形成液を乾燥させた修正電極パターン７を形成する。 （もっと読む）

【課題】ゲートドライバ一体型の液晶表示装置においてゲートドライバを構成するレジスタの不良をリペアする場合に、ゲート信号が供給される配線の交差容量がリペア前後で変わらないようにする。
【解決手段】スペアレジスタを備え、該スペアレジスタに接続されたリペア配線とゲート配線ＬＧ４とが交差するとともに、ゲート配線ＬＧ４は他のゲート配線ＬＧ５と交差をして冗長交差容量を生じさせてなる冗長枝配線Ｌ９Ｅ，Ｌ８Ｅを備える。不良レジスタをリペアするときは不良レジスタ及び冗長交差容量を切り離すとともにゲート配線とリペア配線とを接続するリペアを行うことにより、不良レジスタに代わりスペアレジスタを用いたゲートドライバを構成するとともにゲート信号が供給される配線がもつ交差容量の値がリペアの前後で同じとなるようにするリペア工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＣＯＧ型の液晶表示装置であっても、ドライバーＬＳＩの電気的測定による検査を行うことができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、相対向する二枚の基板（１，２）によって液晶層を挟持し、複数の表示素子が形成された液晶表示部と、一方の基板１の周縁部に形成され、液晶表示部と接続された電極端子部１２０とを、備える。さらに、電極端子部１２０において、表示素子を駆動するドライバーＬＳＩ（６ｓ，６ｔ）を当該一方の基板１に実装する。また、電極端子部１２０には、ドライバーＬＳＩ（６ｓ，６ｔ）に電源電圧および信号を供給する配線（３ｆ，３ｇ）が配設されている。そして、当該配線（３ｆ，３ｇ）上方に、絶縁層８を介して導電性パターン部７が配設される。 （もっと読む）

【課題】製造歩留まりを向上させる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板は、絶縁基板と、絶縁基板上に配置された第１導電層と、絶縁層を介して第１導電層の上層に配置された第２導電層ＳＬ１と、表示部において、前記複数の表示画素が配列する行に沿って延びる走査線と、前記表示部において、前記複数の表示画素が配列する列に沿って延びる信号線と、を備え、前記第１導電層は、前記絶縁層を介して前記第２導電層と対向する対向部を備え、前記第２導電層は前記信号線であって、前記第１導電層は前記表示部を囲むように配置され、前記対向部は、前記第１導電層が延びる方向と、前記第１導電層が延びる方向と略直交する方向とにマトリクス状に並んで配置された欠落部を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】クロス容量が小さく、リークの発生が少ないアレイ基板を有する表示品位が高い表示装置を提供すること。
【解決手段】基板と、該基板上にマトリクス状に設けられた複数の走査線及び複数の信号線（１，２）と、前記複数の走査線及び前記複数の信号線（１，２）が交差して区画される複数の画素領域の各々に設けられた複数のスイッチング素子と、前記複数の走査線及び前記複数の信号線並びに前記複数のスイッチング素子の上に設けられている非導電性膜（１２）と、前記複数のスイッチング素子の各々により駆動される複数の表示素子と、前記複数の画素領域外に設けられた予備配線（５，６，７）と、を備え、前記非導電性膜（１２）は、前記複数の画素領域外（１３）において厚さＤ１の厚膜領域と、厚さＤ２の薄膜領域と、を有することを特徴とする。但し、Ｄ１＞Ｄ２である。 （もっと読む）

【課題】参照配線や参照幹線に不良があった場合であっても、表示欠陥を防止できる基板、この基板を備える表示パネル、表示パネルの修正方法を提供すること。
【解決手段】参照配線１１３ａに不良の有無を検出する工程と、不良が検出された場合には不良参照配線１１３ｓを特定して不良箇所Ｓを特定する工程とを有するとともに、不良が断線である場合には、不良参照配線１１３ｓと予備配線１２４とを短絡する工程と、不良参照配線１１３ｓが伝送する信号と同じ信号を伝送する所定の参照配線１１３ｍと予備配線１２４とを短絡する工程とを有し、不良が他の導体との短絡である場合には、不良参照配線１１３ｖの不良箇所Ｕの前後両側の箇所を切断する工程と、不良参照配線１１３ｖと予備配線１２４とを短絡する工程と、不良参照配線１１３ｖが伝送する信号と同じ信号を伝送する所定の参照配線１１３ｗと予備配線１２４とを短絡する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、配線の断線の修復が可能であり、かつ、配線の上の異物を除去した場合にも対応できるようにすることを目的とする。
【解決手段】表示装置は、隣同士の間隔をあけて並列する第１配線２４及び第２配線２６と、第１配線２４及び第２配線２６と重なる位置に配置された導電層３０と、第１配線２４及び第２配線２６と導電層３０との間に介在する絶縁層３２と、を有する。導電層３０は、第１配線２４と重なる第１重複部３６と、第２配線２６と重なる第２重複部３８と、第１重複部３６と第２重複部３８の間で第１重複部３６及び第２重複部３８を接続する接続部４０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。
【解決手段】繰り返しパターンが形成された多層基板を検査し、繰り返しパターン内の欠陥の位置情報および前記欠陥の特徴情報を抽出する。次に、検出された欠陥に対応する欠陥修正手法をデータベースから読み出す。次に、読み出した欠陥修正手法に含まれるオブジェクトのサイズと修正実行順を当該欠陥修正装置に対して最適化する。そして、サイズと適用順が最適化された欠陥修正手法を利用して欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御する。 （もっと読む）

【課題】 ガスウィンドウ方式のレーザＣＶＤ法による配線修復処理を含むＦＰＤ基板の製造方法において、レーザＣＶＤ処理工程におけるＣＶＤ被膜の厚さや密度等に関する厳密な管理を要することなく、修復されるＦＰＤ基板の歩留まりを向上させ、それにより製造コストを低減すること。
【解決手段】 配線欠陥修復ステップと配線面洗浄ステップとの間に、ＦＰＤ基板上の配線欠陥部分の上に形成された導電性被膜部分を含む微少領域を覆うようにして、所定の絶縁性樹脂を局部的に微量塗布する樹脂塗布ステップと、局部的に微量塗布された絶縁性樹脂を強制的に硬化させる樹脂硬化ステップとを設け、それにより、ＦＰＤ基板上の配線欠陥修復部分を含む微少領域に、配線面洗浄ステップに先立って、絶縁性樹脂による保護膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の照射部を局所的に真空排気する局所加工部を備え、差動排気により局所加工部を被加工物上に浮上するレーザ加工装置において、被加工物表面の異物をレーザ光照射部との間に挟みこむことを防ぐ。
【解決手段】差動排気によってレーザ照射による局所加工部４０を被加工物（基板１１）から浮上させるにあたって、その浮上量Ｄを、圧縮ガス供給部６３によるガス供給量と圧縮ガス排気部６５によるガス排気量とのバランスを制御することで変化させ、ガス排気量を小さくして浮上量Ｄを高くした状態で、加工位置間の移動を行う。 （もっと読む）

【課題】クロス容量が小さく、リークの発生が少ないアクティブマトリクス基板を有する表示装置を提供する。
【解決手段】基板３０上にマトリクス状に設けられている複数の走査線２及び複数の信号線１と、複数の走査線２及び複数の信号線１が交差して区画される複数の画素領域５２の各々に設けられている複数のスイッチング素子５１と、複数の走査線２及び複数の信号線１並びに複数のスイッチング素子５１の上に設けられている第１の絶縁膜１２と、複数のスイッチング素子５１の各々により駆動される複数の表示素子とを有する。第１の絶縁膜１２は、複数の画素領域５２が設けられている表示領域３の外側であって走査線２上又は信号線１上に、開口部１４ａ、１４ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】表示欠陥を完全にリペアすることができ、開口率の低下を伴わない液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線の照射によって高導電率化されたＩｎ、Ｇａ及びＺｎを含むアモルファス酸化物のソース領域及びドレイン領域を有する主ＴＦＴ及び冗長ＴＦＴを備え、冗長ＴＦＴの透明なドレイン領域を画素電極と重なり合うようにして信号線に設けられたリペア領域にまで延ばして形成する。リペア領域と冗長ＴＦＴのドレイン領域の端部とは絶縁層によって絶縁されている。表示欠陥の生じた画素部に対して、主ＴＦＴを画素電極から切り離すとともに、冗長ＴＦＴのドレイン領域の端部と信号線とをリペア領域において溶着させる。これにより、冗長ＴＦＴがスイッチング素子として機能し表示欠陥が完全にリペアされる。 （もっと読む）