【課題】 正確なパターン転写を行うことが可能なフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、複数のマスク基板それぞれの形状に関する第１のデータを取得する工程Ｓ１２と、複数のペリクルそれぞれの形状に関する第２のデータを取得する工程Ｓ１３と、第１のデータ及び第２のデータに基づいて、マスク基板とペリクルとの組み合わせを決定する工程Ｓ１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】十分な黒色化が図られて高エネルギー光の照射下においても耐光性に優れると共に、ヘイズの発生を抑えることができるペリクル用支持枠の製造方法を提供する。また、上記特性を備えたペリクル用支持枠及びペリクルを提供する。
【解決手段】光学的薄膜体を備えてペリクルとして使用されるペリクル用支持枠の製造方法であって、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ系アルミニウム合金のＴ６調質材を１００〜４００℃の温度で焼鈍した後、クエン酸を含んだアルカリ性水溶液を用いて陽極酸化処理し、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｍｎ及びＦｅからなる群から選ばれた１種又は２種以上を電解析出処理により析出させて黒色化することを特徴とするペリクル用支持枠の製造方法であり、また、Ｌ^*値が４０以下であり、かつ、酸成分の含有量が少ないペリクル用支持枠及びペリクルである。 （もっと読む）

【課題】基板等から安全かつ効率的に接着剤を除去することができる接着剤の除去方法及びそれら方法を採用するペリクルフレーム接着剤除去装置を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するため、１）接着剤又はその残渣が存在する基板の表面を流体で被覆しながら、２）前記接着剤又はその残渣が存在する箇所近辺に前記流体の流れを遮る隔離領域あるいは、流れが滞留した隔離領域を形成し、３）前記隔離領域内で前記基板を押圧する摺動体を揺動させ、４）前記隔離領域内に前記接着剤又はその残渣を剥離或いは溶融する薬剤を滴下し、若しくは前記揺動体に前記薬剤を滴下するとともに、５）当該摺動体を前記接着剤またはその残渣上を水平方向に移動させ、６）機械的かつ化学的に前記接着剤又はその残渣を前記基板から剥離することを特徴とする接着剤の除去方法の構成とした。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の自重垂れ下がり量を可及的に抑制できるペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクルは、長方形状のペリクルフレーム１０にペリクル膜４４が貼付されたペリクル４２であって、複数本の太さが最大でも１００μｍの線状補強体１２が、ペリクル膜４４内に包有されて、ペリクルフレーム１０の互いに対向する長辺間に張設されている。ペリクル膜の製造方法は、平坦面にペリクル膜形成溶液を塗布して、形成予定のペリクル膜よりも薄層の下地層を形成する工程と、前記下地層上に線状補強体を張設する工程と、前記線状補強体を覆うように、前記ペリクル膜形成溶液を前記下地層上に塗布し、前記線状補強体を包有する所定厚さのペリクル膜を形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの製造、搬送等において、ハンドリングジグを付け替える際に、パーティクルの発生を防止し、ペリクルの汚染を低下させることができるペリクルフレームを提供する。
【解決手段】本発明のペリクルフレームは、向かい合う１対の辺に、それぞれ４個以上ずつ、ペリクルハンドリング用のジグ穴を設け、又は、向かい合う２対の辺に、それぞれ２個以上ずつジグ穴を設ける。 （もっと読む）

【課題】ペリクルフレームの表面にキズを生じさせることがなく、かつ清浄度の高い、ペリクルフレームの洗浄方法を提供する。
【解決手段】ペリクルフレームを洗浄治具に保持し、該ペリクルフレームの下方から上方に向けて超純水を流しながら、該ペリクルフレームを該洗浄治具から浮いた状態にして、超音波洗浄を行うことを特徴とし、ペリクルフレームの下方から上方に向けて流す超純水の流速は、５mm／sec〜２５mm／secの範囲が好ましい。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を低減することができると共に、異物検査に優れたペリクル枠体及びペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠体２は、アルミニウム材で枠状に形成されており、アルミニウム材は、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、リン酸、及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１つの電解液で陽極酸化処理された陽極酸化皮膜Ｐが表面に形成されており、アルミニウム材の素材には、Ｃｕ：０．５〜３．０％、Ｍｇ：１．５〜４．５％、Ｚｎ：４．０〜７．０％を含む。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の張力による撓みやハンドリング時における撓みが小さい、剛性の高いペリクルフレームならびにペリクルを提供する。
【解決手段】材質が炭素繊維と樹脂からなる複合材料を成型加工した後、表面に樹脂皮膜を付与して炭素繊維が表面に露出していないことを特徴とするペリクルフレームであり、該樹脂皮膜の材質がフッ素樹脂、シリコーン樹脂またはアクリル樹脂であり、前記樹脂皮膜を黒色とするのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】露光機内のマスクステージにマスクを装着した状態で、ペリクル上の透明性異物の検査を行うことができるペリクル及び露光装置を提供する。
【解決手段】ペリクル５０のペリクルフレーム５２に、ペリクル膜５１の表面上を伝搬する弾性表面波を発生させる弾性表面波素子２０Ａと、弾性表面波を受信する弾性表面波素子２０Ｂとを設け、当該弾性表面波によってペリクル膜５１上の異物の有無を検出する。このとき、ペリクル５０を装着したフォトマスク１を、露光機１００のマスクステージ１０３に載置した状態で異物検査を行う。また、弾性表面波素子２０Ａ，２０Ｂをペリクルフレーム５２に複数組設ければ、ペリクル膜５１上の異物の位置を特定できる。 （もっと読む）

【課題】寸法精度を確保しつつ、分割部材にて構成される枠部材に塗装材により塗装を行う場合であっても、塗膜の破損を抑制できるペリクル枠体、ペリクル及びペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】ペリクル１のペリクル枠体２では、分割枠体のコーティングにおいて、塗装材のガラス転移点を５０℃以上１５０℃以下としている。これにより、ペリクル枠体２に撓みが生じた場合であっても、ペリクル枠体２と塗装材との密着性を確保できているため、塗膜Ｐの剥がれを防止できる。また、所定の強度を有するため、ハンドリング治具等による塗膜Ｐの削れも防止できる。したがって、塗膜Ｐの亀裂等の破損の発生を抑制できる。また、分割枠体とすることにより、寸法を容易に調整することができるため、寸法精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】枠体の製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制する。
【解決手段】略矩形状に形成されて大型ペリクル膜３を展張支持する大型ペリクル用枠体２を構成する長辺２ａ，２ｂの一部に、外側に向けて屈曲した屈曲部１０ａ，１０ｂを形成する。このように、長辺２ａ，２ｂの一部を屈曲させるという簡易な方法により屈曲部１０ａ，１０ｂを形成できるとともに、展張した大型ペリクル膜３の張力により大型ペリクル用枠体２の辺が内側に撓んだとしても、大型ペリクル用枠体２の内側に入り込む辺の最大変位量を小さくすることができるため、製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】枠体の製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制する。
【解決手段】略矩形状に形成されて大型ペリクル膜３を展張支持する大型ペリクル用枠体２に少なくとも一つの接合部を形成し、この大型ペリクル用枠体２を構成する長辺２ａ，２ｂの一部に、外側に向けて屈曲した屈曲部１０ａ，１０ｂを形成する。このように、長辺２ａ，２ｂの一部を屈曲させるという簡易な方法により屈曲部１０ａ，１０ｂを形成できるとともに、展張した大型ペリクル膜３の張力により大型ペリクル用枠体２の辺が内側に撓んだとしても、大型ペリクル用枠体２の内側に入り込む辺の最大変位量を小さくすることができるため、製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】分割枠とする場合であっても接合部に枠体よりも剛性の高い部材等を用いることなく実用上問題のない剛性及び寸法安定性を維持すると共に、歩留まりを向上させることができるペリクル枠体及びペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル１のペリクル枠体２では、接合部２２ａ〜２２ｈにおける接合強度を１０ｋｇｆ以上としているため、分割枠体であっても、撓みや歪みを抑制できると共に、剛性を確保することができる。また、分割枠体とすることで、寸法を容易に調整することができ、寸法精度を確保することができると共に製造工程を簡易化できる。そのため、接合部を有さない枠体と同様の寸法精度を容易にでることができる。したがって、分割枠体を用いる際に、接合部２２ａ〜２２ｈに剛性の高い部材等を用いることなく剛性及び寸法安定性を維持できると共に、歩留まりを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることにより、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のリソグラフィ用のペリクルの製造方法は、第一のスプレーノズル１１と第二のスプレーノズル１２とが所定の間隔で設けられたスプレーノズルセット１０を用いて、まず、ペリクルフレーム２０の内壁面１に、第一のスプレーノズル１１から粘着剤溶液を噴射し、次いで、溶媒の揮発によって、粘着剤溶液中の粘着剤濃度が所定濃度以下にならないうちに、第二のスプレーノズル１２から粘着剤溶液の溶媒を噴射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ペリクルからの発ガスを抑制し、フォトマスクからペリクルを簡単に剥がせるペリクルのフォトマスクへの取り付け構造を提供すること。
【解決手段】ペリクルフレーム４は矩形の筒状を呈し、４つの平坦な側面を有しており、係止用突起５は、各側面のペリクル膜１寄りの箇所に設けられている。掛け止め部材６の装着は、第２腕部６Ｃを係止用突起５に係止させ、第１腕部６Ｂを、ペリクルフレーム４の延長上に位置するフォトマスク２０（石英基板２１）の背面箇所に係止させることで行なわれる。これにより、第１腕部６Ｂと脚部６Ａとが交わる部分や第２腕部６Ｃと脚部６Ａとが交わる部分が撓み、ペリクルフレーム４の軸方向の他端をフォトマスク２０の表面に押圧する。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルにおける異物検査に際して 粘着剤内や粘着剤表面で反射、屈折しながら迷光となって誤検出を起こすことのない粘着剤を選定する。
【解決手段】 少なくともペリクル膜と、前記ペリクル膜が一方の端面に貼り付けられ、他方の端面にペリクルをガラス基盤に貼り付けるための粘着剤を介して離型シート（セパレータ）が設けられたペリクルフレームとから構成されるペリクルにおける粘着剤において、前記粘着剤の全光線透過率が７０％以下であることを特徴とする。
前記粘着剤が黒色であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】治具に装着させる際のこすれが少なく、且つ、ハンドリング時の落下の可能性が少ない大型ペリクルを提供する。
【解決手段】大型ペリクル１は、開口部４を有するペリクル枠体２と、ペリクル枠体２の開口部４を覆うように展張されたペリクル膜３とを備え、ペリクル枠体２の少なくとも一辺が、１４００ｍｍ以上の長さで且つ当該一辺の内側への撓み量と長さとの比が０％よりも大きく０．３％未満である。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光のような短波長のレーザー光を用いて長期間使用しても、フォトマスク上へのヘイズの析出を防止しうるリソグラフィ用ペリクルを提供する。また、そのリソグラフィ用ペリクルに張設するペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ用ペリクル１は、枠状のペリクルフレーム４の一方の開口枠にリソグラフィ用のレーザー光を透過するペリクル膜２が張設されており、ペリクルフレーム４の他方の開口枠がフォトマスク１０に貼着可能なリソグラフィ用ペリクル１であって、ペリクル膜２が、異物粒子１６を通過不能でガス分子１５を通気可能な孔サイズで貫通する通気孔７を有しているものである。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルフレームに接着剤、粘着剤を自動塗布装置を用いて塗布する工程において、塗布前に塗布位置を確認する手段を備えたペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームの端面に接着剤又は粘着剤を自動塗布装置を用いて塗布する工程を含むペリクルの製造方法であって、
前記接着剤又は粘着剤を塗布する工程において、
塗布操作を受けるペリクルフレームの端面の位置情報を取得し、
取得した位置情報によって塗布開始位置と塗布方向とを塗布プログラムに取り込み、
ペリクルフレームの端面に接着剤又は粘着剤を塗布することを特徴とする。
取得する位置情報が３次元の位置情報であること、また、位置情報を画像から取得すること、さらに、３次元の位置情報のうち平面方向の位置情報を画像から取得し、上下方向の位置情報を電磁波又は音波によって取得すること、さらにまた、画像をカメラによって取得すること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 マスクに貼り付けてもマスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、もう一方のペリクルフレーム端面に粘着層が設けられ、前記粘着剤層が平坦部を有する時に、その平坦部と側面とがなす角度が２７０°以上であることを特徴とする。 （もっと読む）