親水性支持体並びに赤外吸収剤および重合体を含んでなる親油性コーティングを含んでなる感熱性平版印刷版前駆体であって、この重合体がフェノール系単量体単位のフェニル基が構造−Ｎ＝Ｎ−Ｑ［式中、−Ｎ＝Ｎ−基はフェニル基の炭素原子に共有結合されておりそしてＱは芳香族基である］を有する基により置換されているフェノール系単量体単位を重合体が含んでなりそして置換がコーティングの化学的耐性を高めるような感熱性平版印刷版前駆体が開示される。 （もっと読む）

感熱性平版印刷版前駆体のためのポリマーが開示され、ここでポリマーはフェノール性モノマー単位のフェニル基のヒドロキシ基のＨ原子がＮ−イミド基を含んでなる基により置き換えられているフェノール性モノマー単位を含んでなり、且つここでポリマーの置換は印刷版前駆体のコーティングの化学的抵抗性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】着色の発生がなく且つ優れた印刷性質を有するラテックス合体をベースとしたネガ作用性感熱性平版印刷版を提供する。
【解決手段】（ｉ）親水性表面を有するかまたは親水性層が設けられた支持体およびその上に設けられたコーティングを含んでなるネガ作用性感熱性印刷版前駆体であって、コーティングが疎水性熱可塑性重合体粒子および親水性結合剤を含んでなる像記録層を含んでなり、疎水性熱可塑性重合体粒子が４５ｎｍ〜６３ｎｍの範囲内の平均粒径を有し、像記録層中の疎水性熱可塑性重合体粒子の量が像記録層に関して少なくとも７０重量％である印刷版前駆体、（ｉｉ）熱または赤外光に露出し、露出された領域における熱可塑性重合体粒子の合体を誘発し、（ｉｉｉ）ｐＨ＞１１の燐酸塩緩衝液または珪酸塩緩衝液を含んでなるアルカリ性水溶液にて現像し、コーティングの露出されなかった領域を支持体から除去する平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム板と感光層の接着性が強固で耐刷性が高く、かつ非画像部の地汚れが生じないネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】陽極酸化されたアルミニウム板上に、側鎖にエチレン性二重結合を有する重合体、分子内に２以上のエチレン性二重結合を有するモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、及び可視光から近赤外光の波長領域に吸収を有する増感剤とを含有する感光層を有するネガ型感光性平版印刷版において、前記アルミニウム板が陽極酸化後に、ケイ酸カリウムを含有しかつＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ金属を表す）のモル比が０．５〜３．５の処理液で処理されたものである感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）酸発生剤、（ｃ）その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
（Ａ）ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
（Ｂ）前記工程（Ａ）を２回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
（Ｃ）多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 （もっと読む）

（ｉ）親水性表面を有するリトグラフ支持体のウェブを提供すること、（ｉｉ）ウェブの親水性表面上にフェノール樹脂を含んで成る層を被覆すること、（ｉｉｉ）層を乾燥すること、（ｉｖ）ウェブ温度を０．１〜６０秒の期間中１５０℃より上に維持する加熱段階、（ｖ）被覆されたウェブをコア上に巻くか、もしくは被覆されたウェブをシートに切断すること、の段階を含んで成る感熱性リトグラフ印刷版の前駆物質の製法が開示されている。短期間のオンライン加熱段階が前駆物質の熟成動態の有意な改善をもたらす。被覆後短時間で安定な感度が得られる。 （もっと読む）

【課題】 着色がなく透過率に優れ、且つ、高さや、基板と接触する角度等の形状が安定した液晶分割配向突起を形成することができる液晶分割配向突起用感光性組成物を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂を主成分とする液晶分割配向突起用感光性組成物において、該感光性組成物を膜厚１．７μｍで塗布した感光層に、線幅１５μmの細線パターンを有するマスクを介して波長３６５ｎｍの紫
外光を５０ｍＪ／ｃｍ²で照射し、継いで、２３℃、水圧０．２５ＭＰａのシャワー現像
処理により得られた細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W1）、該細線画像をさらに２３０℃、３０分の加熱処理を施した液晶分割配向突起状の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W2）とした場合、以下の式を満たすことを特徴とする液晶分割配向突起用感光性組成物。
W1／W2≧１．２ （もっと読む）

【課題】高アスペクトなパターンの形成が可能となる近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法を提供する。
【解決手段】近接場露光用マスクを基板上に形成したレジスト層に近接させ、該マスクの面側に光を照射した際に該マスクの微小開口から滲み出る近接場光を用いて露光し、前記レジスト層にマスクパターンを転写する近接場露光によるレジストパターンの形成方法において、前記基板上に、近接場光のしみ出し深さ以上の厚さのネガ型レジスト層を形成する工程と、前記ネガ型レジスト層を、前記近接場光を用いて露光する露光工程と、前記露光されたネガ型レジスト層を現像液で現像し、該ネガ型レジスト層の厚さよりも浅い領域にパターンを形成する現像工程と、を少なくとも有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、解像度に優れ高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を現像する場合において、第一の形態では現像後の現像液中に存在する粒状物の９５％以上が、粒径０．０１〜１．０μｍの粒状物であり、第二の形態では該現像後の現像液の静的表面張力が、３０〜４５ｍＮ／ｍであり、第三の形態では該現像後の現像液の１００秒後の動的表面張力が、４０〜５６ｍＮ／ｍであることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。
【解決手段】 本発明では、ネガ型レジスト上に導電膜を塗布し、電子線露光後、１回目の露光後ベーク（２回目の露光後ベークより低い温度で処理し、難溶化層を薄く形成する）を行ってから、水洗で導電膜を除去し、２回目の露光後ベーク（通常のＰＥＢと同じ温度で処理）を行い、現像するというシーケンスを採用する。あるいは、ネガ型レジスト上に第１の導電膜を形成した後、その表面に第２の導電膜を形成する。この際に、第１の導電膜の酸性度を第２の導電膜の酸性度より弱いものを用いる。
これにより、レジストパターン（ライン）が矩形でありドライエッチング耐性が良好、かつ、ラインエッジラフネスの小さいレジストパターンの形成が可能となる。 （もっと読む）

本発明は層間絶縁膜や表面保護膜等に用いられる感光性樹脂組成物において、解像性に優れた、アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物を提供するものであり、下記一般式IIで表される繰返し構造単位を少なくとも有する重合体を用いて感光性樹脂組成物を調製する。


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^９はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘは−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＯＮＨ−、−(ＣＨ_２)_ｎ−ＣＨ＝Ｎ−、又は−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＮＨ−であり、Ｘ中のＮ原子はｏ−位がＡＯ−基のベンゼン環の炭素原子に結合しており、Ａは水素原子又は酸により分解する基を表し、ｎは１〜３の正の整数を表す。） （もっと読む）

永久フォトレジスト組成物であって、（Ａ）式Ｉによる１種又は複数のビスフェノールＡ−ノボラックエポキシ樹脂（ただし、式Ｉ中の各基Ｒはグリシジル又は水素から個別に選択され、式Ｉ中のｋは０〜約３０の範囲にある実数である）と、（Ｂ）式ＢＩＩａ及びＢＩＩｂにより表される群から選択される１種又は複数のエポキシ樹脂（式中、式ＢＩＩａにおける各Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、水素、又は炭素原子１〜４個を有するアルキル基からなる群より独立に選択され、式ＢＩＩａ中のｐの値は１〜３０の範囲にある実数であり；式ＢＩＩｂ中のｎ及びｍの値は独立に１〜３０の範囲にある実数であり、式ＢＩＩｂ中の各Ｒ４、及びＲ５は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、又はトリフルオロメチルからなる群より独立に選択される）と、（Ｃ）１種又は複数のカチオン性光開始剤（光酸発生剤又はＰＡＧとしても知られる）と、（Ｄ）１種又は複数の溶媒とを含む組成物。 （もっと読む）

近赤外領域の光に感光し、版に直接レーザー光で描画でき、且つ現像や拭き取り操作が不要で、印刷時に非画線部にインクが付着した際にも、インク汚れが速やかに解消される、主として樹脂からなる親水層を有する印刷版およびその印刷版に用いられる感光性樹脂組成物を提供することである。 支持体の上に設けた感光層において、感光層表面が相分離構造を形成し、かつ相分離構造を形成しているどちらか一方の成分に由来する部分が、水に溶出することで凹部を形成し、かつ、光の照射によって感光層表面が親インク性に変化する性質を有する平版印刷用原版。 （もっと読む）

パターニングされたセラミック薄膜（１０）は、イオン伝導性セラミック、電極、ハードセラミックコーティング、透明導電性酸化物、透明半導電性酸化物、強誘電性酸化物、及び誘電性酸化物として有用である。そのセラミック薄膜（１０）は液体前駆体溶液から形成することができる。 （もっと読む）

平滑な表面を有し、耐フロー性に優れ、かつ粘着による不具合が発生し難いシートを形成でき、細線の再現性にも優れる感光性フレキソ版用組成物、該組成物に好適な感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物および該組成物を感光して得られるフレキソ版を提供する。また、特定のカップリング剤を使用して得られる３分岐型の芳香族ビニル−共役ジエンブロック共重合体を含むブロック共重合体組成物、エチレン不飽和化合物および光重合開始剤からなる感光性フレキソ版用組成物を提供する。 （もっと読む）

半導体材料をリワークする方法であって、（ｉ）シリコーン組成物を基板表面に塗布して膜を形成する段階と、（ｉｉ）前記膜の一部を放射線で照射し、前記表面の一部である非照射部と前記表面の残りの部分である照射部とを有する、部分的に照射された膜を作成する段階と、（ｉｉｉ）前記照射部が実質的に現像液に対して非可溶であり、前記非照射部が前記現像液に対して可溶であるような時間、前記部分的に照射された膜を加熱する段階と、（ｉＶ）前記加熱後の膜の非照射部を前記現像液で除去し、パターン形成された膜を作成する段階と（Ｖ）硬化シリコーン層を形成するのに十分な時間前記パターン形成された膜を加熱する段階と、（Ｖｉ）有機溶媒及び塩基を含む無水エッチング液に浸漬して硬化シリコーン層の全部または一部を除去する段階と、を含む方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サブトラクティブ法に於いて、ドライフィルムレジストを用いることで微細な金属パターンを形成できる金属パターンの形成方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 （もっと読む）