【課題】 多段厚みの膜パターンを効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 多階調パターンを感光膜に対して露光する露光工程と、多階調パターンが露光された感光膜を現像して多段膜３０ｂを形成する現像工程と、多段膜３０ｂを洗浄する洗浄工程と、備えるカラーフィルタの製造方法である。露光工程では、感光膜に対して所定の大きさの光ドットを投影すると共に、光ドットを光ドットの径よりも小さい距離ずつずらしながら感光膜に対して重ねて投影することにより多階調パターンを露光し、洗浄工程では、多段膜３０ｂに対して斜めに液滴を噴射する。 （もっと読む）

【課題】 大きな基板への適用が容易でかつムラの生じにくいカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 全体パターンを感光膜に対して露光する露光工程と、全体パターンが露光された感光膜を現像してパターニングされた膜３０ｂを形成する現像工程と、パターニングされた膜３０ｂを洗浄する洗浄工程と、を備えるカラーフィルタの製造方法である。露光工程では、感光膜に対して所定の大きさの光ドットを投影すると共に、光ドットを光ドットの径よりも小さい距離ずつずらしながら感光膜に対して重ねて投影することにより全体パターンを露光する。洗浄工程では、パターニングされた膜３０ｂに対して斜めに液滴２０４を噴射する。 （もっと読む）

【課題】水分除去のためのスピン乾燥におけるパタン倒れを防止した、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被加工膜またはレジストによるパタンを基板上に形成する工程と、少なくとも水を含む液体である洗浄液でパタンを洗浄する工程と、パタンを洗浄した後、基板上に残留する洗浄液の表面に親水性基および疎水性基を有する両親媒性物質を展開させる工程と、両親媒性物質を展開させた後、基板上の洗浄液を除去するための乾燥工程とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】停機、再印刷を繰り返した時に発生するインキ汚れを改良したアルミニウム板を支持体とする銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の製版方法を提供することである。
【解決手段】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版に、露光後少なくとも現像液、水洗液、及び仕上げ液の順で処理を施す製版方法において、前記仕上げ液にアルカリ土類金属とシュウ酸もしくはマロン酸を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 現像液の現像安定性を保ち、且つ、補充液の使用量増大によるコストの上昇や廃液の増大等の問題を同時に解決し、また、刷り出しの損紙枚数を減少し、非画像部のインキ汚れが改良された感光性平版印刷版の処理方法を提供する。
【解決手段】 アルミ支持体上に感光性樹脂組成物からなる感光層が形成された感光性平版印刷版を、露光後、該感光性平版印刷版を浸漬する現像液槽を備えた現像部と水洗部を備えた自動現像機により現像処理する際、該自動現像機を通過中の該感光性平版印刷版に炭酸ガス濃度が０〜０．０１５ｖｏｌ％である気体を吹きかけることを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【課題】 最上層に水溶性の酸素遮断層を有する光重合層を備えた感光性平版印刷版の現像処理前に行う水溶性の酸素遮断層の除去処理において安定した現像処理が可能で、且つ、操作ミス等の恐れがない現像処理装置、製版方法及び感光性平版印刷版を提供。
【解決手段】 支持体上に画像形成層、酸素遮断層を有する感光性平版印刷版を処理する現像処理装置において、取り除き、且つ、水洗水に溶解した該酸素遮断層を以下のＡ）、Ｂ）の手段で処理することを特徴とする現像処理装置。Ａ）水洗水の水質を監視する手段、Ｂ）水質劣化を表示する手段。 （もっと読む）

【課題】 感光性平版印刷版を処理しても、処理ムラを発生することなく、画像再現性に優れた印刷版の処理装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に有し、平版印刷原版を処理する処理装置において、現像処理液に浸漬させながら平版印刷原板を現像処理槽に導入する一対のローラを設けた平版印刷版処理装置において、前記一対のローラに対する現像液面がローラニップ点より上方にあり、かつ平版印刷原版処理時に前記一対のローラと前記平版印刷原版とで形成されたスペースにある現像液の循環を行なう循環手段Ｐ１を設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】製版用フィルムを用いることなく、耐刷力および解像力に優れた平版印刷版のダイレクト製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層の１級アミンポリマーを含有する層を有する平版印刷原版上にインクジェット方式を用いて１級アミンポリマーに対する架橋剤を含む組成物を印字して像を形成させることを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 現像安定性及び刷りだしの損紙枚数の低減共良好な感光性平版印刷版の処理方法の提供。
【解決手段】 感光性樹脂組成物の感光層が形成された平版印刷版を、アルカリ水溶液の現像液にて現像した後、シャワーによる水洗、続いて版面保護剤処理を自動現像機にて行う際、該水洗の水洗水を循環再使用し、且つ、該水洗水を現像機槽上の空間に存在する空気に接触させることを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【課題】 感光性平版印刷版を処理しても、処理ムラを発生することなく、画像再現性に優れた印刷版の処理装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に有し、平版印刷原版を処理する処理装置において、現像処理液に浸漬させながら平版印刷原板を現像処理槽に導入する一対のローラを設けた平版印刷版処理装置において、前記一対のローラに対する現像液面をニップ点上方１ｃｍ以下の範囲に維持するようにした。 （もっと読む）

【課題】 画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる、平版印刷版の処理方法及び自動現像装置を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる平版印刷版の処理方法及び自動現像装置は、支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版をレーザー露光した後、ＡＭスクリーンとしては２５０線以上であり、ＦＭスクリーンとしては網点を構成する最小画素のサイズが５０μｍ以下である高精細スクリーンを用い、平版印刷版に、液体を9.8×10⁵〜19.6×10⁶Paの圧力で噴射して未露光部の光重合性感光層を除去する。 （もっと読む）

【課題】 画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる、平版印刷版の処理方法及び自動現像装置を提供する。
【解決手段】 支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版をレーザー露光した後、現像処理する平版印刷版の処理方法であって、ＡＭスクリーンとしては２５０線以上であり、ＦＭスクリーンとしては網点を構成する最小画素のサイズが５０μｍ以下である高精細スクリーンを画像露光に用い、露光後の平版印刷版の露光面を回転部材のうち少なくとも１つが他の回転部材に対して反対方向に回転し、揺動手段を設けることで、未露光部の光重合性感光層を除去する。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版を処理する過程で発生した泡を、安価で極めて簡単な機構で効率的に除去、消泡し、泡やスラッジによる製版上やメンテナンス上の悪影響を解消した平版印刷版処理装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも現像工程部と水洗工程部を有する平版印刷版処理装置であって、少なくとも平版印刷版搬送機構、水洗液吐出手段、水洗液回収手段、版面洗浄促進手段からなる水洗処理部と、処理液が貯留される貯留槽、及び前記水洗処理部から前記貯留槽への送液管を少なくとも有する水洗工程部を含む平版印刷版処理装置において、該貯留槽の液面より上部となる空間と液回収手段とを結ぶ泡誘導管を設けることを特徴とする平版印刷版処理装置によって達成された。 （もっと読む）

【課題】製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を含む処理溶液を使用して、半導体デバイス製造時の欠陥数を低減する。この処理溶液は、特定の好ましい態様において、パターニングしたホトレジスト層の現像の際又はその後でリンス液として使用すると、パターンのつぶれのような現像後の欠陥を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 ホトレジストパターンについて、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンス時におけるパターン倒れの発生を防止し、またレジストの電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を抑制するために用いられ、しかも保存中にバクテリアによる汚染を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】 一般式
【化１】


（式中のＲ¹は酸素原子で中断されていてもよい炭素数８〜２０のアルキル基又はヒドロキシアルキル基、Ｒ²及びＲ³は炭素数１〜５のアルキル基又はヒドロキシアルキル基である）
で表わされるアミンオキシド化合物を含む水性溶液からなるリソグラフィー用洗浄液とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンが傾いたり又は倒れたりせず、良好な形状を有するレジストパターンが得られるようにする。
【解決手段】半導体基板１０の上に化学増幅型レジストを塗布してレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に対して、マスク１２を介してＡｒＦエキシマレーザ１３を照射して、パターン露光を行ない、その後、パターン露光されたレジスト膜１１に対して加熱（ＰＥＢ）を行なう。次に、レジスト膜１１に対してアルカリ性現像液１４を用いて現像を行なった後、レジスト膜１１に対して、アルカリ性リンス液１７をレジスト膜１１上に供給して、レジスト膜１１の未露光部１１ｂからなるレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 アスペクト比の上昇によるパターン倒れや変形等の不具合が防止されるレジスト用現像液を得る。
【解決手段】 下記化学式（１）、（２）および（３）で示されるヒドロキシル塩化合物の少なくとも一種を含有する水溶液からなる。
【化１】


【化２】


【化３】
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【課題】 露光された半導体ウエハの表面に現像液を供給して現像を行った後に、基板の表面の溶解物を洗浄するにあたって、高い洗浄効果を得ること。
【解決手段】 現像を終えたウエハを回転させながら、ノズルからウエハ中心部に洗浄液を吐出してその洗浄液を周囲に広げて液膜を形成し、次いで前記ノズルを移動させて、基板の中心部に乾燥領域を発生させ、基板を１５００ｒｐｍの回転数で回転させその遠心力により前記乾燥領域を周囲に広げる。前記ノズルは乾燥領域に追いつかれない速度でウエハの中心から例えば８０ｍｍ〜９５ｍｍ離れた位置まで移動し、そこで洗浄液の吐出を停止する。また予めこの位置に別のノズルを配置して、ここから洗浄液を吐出しておき、乾燥領域がそこへ到達する直前にその吐出を停止してもよい。ウエハの中心に乾燥領域のコアを形成する場合、ガスを基板の中心部に吹き付け、直ぐにその吹き付けを停止することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
基板の変形を抑えながら現像液の洗浄を十分に行うことができる現像方法及び現像装置を提供すること。
【解決手段】
矩形基板を回転可能に保持しつつ上下動可能に構成された保持手段と、前記保持手段により保持された矩形基板が下降されたときに当該矩形基板の裏面に当接して支持する位置に配置された複数の支持ピンと、前記保持手段により保持された矩形基板が上昇され回転されたときに当該矩形基板の表面に第１の圧力で現像液を吐出する現像液ノズルと、前記保持手段により保持された矩形基板が下降されて当該矩形基板の裏面が支持ピンにより支持され、且つ、当該矩形基板が回転されないで静止状態にあるときに当該矩形基板の表面に第１の圧力よりも大きい第２の圧力で洗浄液を吐出する洗浄液ノズルとを具備する。 （もっと読む）

ポリマーフィルムを有する対象物を乾燥するための方法（１０）であって、そこでは対象物がリンス液に浸されている。その対象物がリンス浴から取り出され（２０）、そして充分な量のリンス液が対象物から蒸発し得る前に、その対象物が溶剤浴に据えられる（２０）。溶剤浴中の溶剤の密度が、力に関してポリマーフィルムの向く方向に依存する。対象物が溶剤浴から取り出される（３０）。乾燥プロセスが実施される（４０）。
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