【課題】第１に、基板の接触角が大きいことに起因する現像欠陥の発生を防止することができる現像装置および現像方法を提供することを目的とする。また、第２に、基板に現像処理を行う時間を短縮することができる現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】 現像液とリンス液と窒素ガスとを吐出する一体ノズル１１を、平面視で基板Ｗの回転中心Ｃ付近に配置する。制御部５１は、電磁開閉弁２５、３３ａ、３３ｂ、３９を操作することで、現像過程では基板を回転させつつ現像液の供給を継続し、リンス過程では現像液の供給を終了した直後にリンス液の供給を開始して、現像過程の期間を短縮する。また、リンス過程が終了した直後に窒素ガスの供給を開始して乾燥過程に移行する。これにより、基板Ｗの基板の接触角が大きくても、リンス液の粒が発生することを抑制して現像欠陥を防止する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の現像処理時に、カラーフィルタレジスト材料の顔料成分等の非溶解性成分が、半導体基板に残留することを防止できる現像装置及び現像方法を提供する。
【解決手段】本発明は、露光処理が施された半導体基板Ｗに現像処理及び水洗処理を行う構成であって、保持機構２０によって半導体基板Ｗを保持するとともに、該半導体基板Ｗを処理容器１２に貯留された現像液Ｌ１及び水洗液Ｌ２に浸漬した状態で、その被露光面を下方に向けた状態とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により版材から凸部を形成する印刷用凸版の製造において、凸部に微細なゴミが無いことはもちろん、凹部においても微細なゴミが除去された、極めて高精度な印刷用凸版を提供する。
【解決手段】露光された版材に対し超音波を用いた現像により凸部を形成する現像工程、若しくは、該凸部が形成された印刷用凸版に対して超音波を用い洗浄をおこなう洗浄工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】後露光処理を兼ねた水洗処理において、酸素によるラジカル光重合の阻害を防止して少ない光量で平版刷版の全面露光を行って後露光処理を可能とする。
【解決手段】現像処理されて平版刷版１０の表面に画像を形成するように残っている画像記録層に洗浄用の液体を供給して現像液を洗い流すと共に、現像処理されて平版刷版の表面に画像を形成するように残っている画像記録層の上を洗浄用の液体の層で覆って酸素を遮断する状態で光照射手段からラジカル光重合を起こさせる波長の光で全面露光を行うことにより、酸素による重合阻害の影響を受けることなくラジカル重合反応を残らず進めるようにして、画像を形成している画像記録層全体をポリマー化して硬化し、平版刷版１０の耐刷性を向上する。 （もっと読む）

【課題】対象基板によらず現像欠陥の少なくなる条件を迅速に把握して現像処理後のリンス処理を行うことができるリンス処理方法を提供すること。
【解決手段】露光パターンを現像処理した後の基板をリンス処理するリンス処理方法は、予め基板の表面状態に応じてリンス処理の条件を設定する工程（ステップ１）と、基板の表面状態を測定する工程（ステップ２）と、測定された基板の表面状態から対応するリンス処理の条件を選択する工程（ステップ３）と、選択された条件でリンス処理を行う工程（ステップ４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】レジストの表面状態に関わらず現像残渣による現像欠陥を少なくすることができるリンス処理方法を提供すること。
【解決手段】露光パターンを現像処理した後の基板をリンス処理するリンス処理方法は、現像終了後、現像液パドルが存在している基板を停止した状態または回転させた状態とし、基板の中心部にリンス液を供給する工程（ステップ５）と、基板上の少なくとも外側部分に現像液パドルが残存している状態でリンス液の供給を停止する工程（ステップ６）と、基板を高速回転させて基板上の現像液をリンス液とともに振り切る工程（ステップ７）とを有する。 （もっと読む）

【課題】面取り処理を必要とする平版印刷版においても現像時に圧力カブリによる感光材料端面部の溶出不良部に起因する自動製版機への悪影響が無く、また搬送ロールの表面に汚れが固着することなく長期に渡って安定な現像処理を行うことが可能な平版印刷版の処理装置を提供する事。
【解決手段】端面が面取り処理された平版印刷版を、ロール挟持により搬送しつつ、少なくとも現像液中に浸漬し非画像部を溶出除去した後に水洗処理する処理装置において、水洗処理部の搬送ロールの内、少なくとも入口上側のロール表面が撥水撥油性を有する平版印刷版の処理装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】現像液とそれに溶解するフォトレジストの混合溶液を除去して基板を純水洗浄する際に、純水吐出ノズルに付着した飛散液の滴（混合溶液そのものの滴、及び／または、純水に希釈された滴）が基板上に滴下することを防止する。
【解決手段】純水吐出ノズル６に垂直方向の慣性力が加わらないように、純水吐出ノズル６を斜め移動や水平移動により移動させる。さらに、純水吐出ノズル６の吐出口１４付近に飛散液の滴を捕集する受け椀１３を設ける。加えて、受け椀１３中に液量監視センサ１６と受け椀１３に捕集された混合溶液１５を吸引排出する手段１７を設置する。これにより、飛散液１２が基板１０１上に滴下することを防止できる。この結果、基板１０１上に正常に形成されたレジストパターンに欠陥が生成されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】非露光部の画像記録層が確実に除去された高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原板を画像露光した後、前記平版印刷版原板の搬送方向の最上流にある第１処理浴から最下流にある最終処理浴まで複数の処理浴を通過させて前記平版印刷版原板を処理する平版印刷版処理方法において、前記第１処理浴では、液留りに少なくとも界面活性剤もしくは溶剤を含有してｐＨ２〜１０の範囲にある水溶液を蓄えておき、前記水溶液に前記平版印刷版原板を浸漬した状態で、１つ以上の擦り部材により非画像部を除去する現像処理を行い、最終処理浴では、水溶性高分子を含有した、前記第1処理浴で用いた水溶液とは異なる水溶液により不感脂化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微小欠陥の発生を低減できる微細パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板上に感光性レジストを塗布しレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層を露光する露光工程と、上記露光工程後のレジスト層を現像液で現像する現像工程と、上記現像工程後のレジスト層をリンス液でリンスするリンス工程と、を有する微細パターン形成体の製造方法であって、上記リンス工程の際に、上記基板を鉛直軸周りに水平に回転させ、上記現像工程後のレジスト層に対して、上記リンス液をスリットノズルにより帯状に吐出し、かつ、上記スリットノズルの吐出口から吐出される上記リンス液の流速が、０．６５×１０^４〜３×１０^４ｃｍ／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする微細パターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】自現機内の汚染の問題やカスの問題が生じることなく、一定品質の平版印刷版を生産することができ、現像液補充量、廃液量低減によるランニングコストダウン、処理機のコストダウン並びに省スペース化、更に環境面にも有利な平版印刷板の作製方法および作製装置を提供する。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原板を画像露光した後、１浴の平版印刷版処理浴内において、現像処理とその後の不感脂化処理とを行なってしまう平版印刷版の作製方法において、前記１浴の処理浴内に設けたｐＨ２〜１０の範囲にある水溶液の液溜まりの方向に平版印刷版を、水平よりも下側に搬送させ、前記平版印刷版を浸漬させた状態で、処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】処理機内が汚染されにくい、したがってメンテに時間や労力を要しない、そして飛散した液が乾燥してカス化する問題の生じない平版印刷版用原板の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原板を画像露光した後、少なくとも１つの擦り部材を備えかつｐＨ２〜１０の範囲にある水溶液の液溜まりを設けた現像処理部において、液溜まりに浸漬された状態で擦り部材による非画像部の除去が行われる平版印刷版用原板の作製方法で、擦り部材による非画像部の除去が、水溶液に浸漬後、２sec以上経過後になされるようにし、そのためには、擦り部材による非画像部の除去が、少なくとも平版印刷版が水溶液に浸漬している時間の中間もしくは後半で、行われるようにした。 （もっと読む）

【課題】 極めて低濃度の洗浄液を調整する目的で、高濃度の洗浄原液と純水を、調合後の希釈液に気泡を巻き込むことなく自動希釈する。
【解決手段】 高濃度の洗浄原液と純水を混合タンク２に注入する際に、ふたつの液を直接混合タンクに注入するのではなく、それぞれ逆止弁を介して循環ライン１７に注入し、混合タンク内の該循環ラインの戻り配管を混合タンクの液面より下まで伸ばすことにより気泡を生じることなく洗浄原液と純水を混合液の中に混入させる。洗浄原液と純水の計量に際しては、メイン計量監視手段として、定量ポンプ２７で洗浄原液を、ロードセル１５で純水を計量し、サブ計量監視手段として、ロードセルで洗浄原液を、液面計で純水を計量することにより計量のダブルチェックが出来るので信頼性の高い希釈が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 必要な部分のみに金属層を析出させることができる金属層の製造方法に好適に用いられるフォトマスクを提供する。
【解決手段】 フォトマスク１００は、所定波長の紫外光に対して透過性を有する基板１０２と、前記基板の上方に所定のパターンで形成され、かつ、前記所定波長の紫外光を透過しない、有機系物質からなる遮光層１０４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 多量あるいは少量の希釈混合液を生成する目的で、高濃度の洗浄液原液と純水を、混合液に気泡を巻き込むことなく自動希釈する。
【解決手段】 高濃度の洗浄液原液と純水を混合タンク２に注入する際に、ふたつの液を直接混合タンクに注入するのではなく、それぞれ逆止弁を介して循環ライン１７に注入し、混合タンク内の該循環ライン１７の戻り配管を混合タンク２の液面より下まで伸ばすことにより気泡を生じることなく洗浄液原液と純水を混合液の中に混入させる。洗浄液原液と純水の計量に際しては、定量ポンプ２７で洗浄液原液を、ロードセル１５で純水を計量する。 （もっと読む）

【課題】 各種分析装置による濃度管理が困難な極めて低濃度（１０００ｐｐｍ以下）の洗浄液の希釈混合液を生成する目的で、高濃度の洗浄液原液と純水を、混合液に気泡を巻き込むことなく自動希釈する。
【解決手段】 高濃度の洗浄液原液と純水を混合タンク２に注入する際に、ふたつの液を直接混合タンクに注入するのではなく、それぞれ逆止弁を介して循環ライン１７に注入し、混合タンク内の該循環ライン１７の戻り配管を混合タンク２の液面より下まで伸ばすことにより気泡を生じることなく処理液原液と純水を混合液の中に混入させる。処理液原液と純水の計量に際しては、純水についてはメインの計量器としてロードセルを、サブの計量器として液面計を用い、リンス原液についてはメインの計量器として定量ポンプを、サブの計量器としてロードセルを用いる。 （もっと読む）

【課題】アルミ支持体に感光層を塗布した平版印刷版に於いて、珪酸でアルミ支持体の親水化処理を行わなくても露光、現像処理後の画像部のアルミ支持体との接着が良好で、しかも、非画像部の親水性が良好な平版印刷版の処理方法を得る事である。
【解決手段】アルミ支持体の表面処理及び現像処理時に、実質的に珪酸またはその塩を含まない表面処理剤もしくは現像処理剤で処理を行い、かつ、現像処理後の工程で、分子内にリン酸又はホスホン酸基を有し、かつそれ自身が皮膜性を有さない化合物を含む版面処理剤で処理を行う事を特徴とする平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、現像後水洗部の水洗水を循環させ長期にわたって使用しても、感光性平版印刷版材料や現像処理液組成物や各種添加剤等からの蓄積物が該現像後水洗部の水洗水へ混入蓄積するのを防止して、洗浄不十分、スラッジの付着等がなく、安定した現像処理ができる感光性平版印刷版材料の自動現像処理装置、および該自動現像処理装置を用いた平版印刷版を提供をすることにある。
【解決手段】 感光性平版印刷版材料を現像処理後に版面に付着した現像液を水洗水で洗い流す後水洗部を有する自動現像処理装置において、該後水洗部の水洗水を以下の手段で処理することを特徴とする自動現像処理装置。
Ａ）水洗水の水質を監視する手段
Ｂ）水質劣化を表示する手段 （もっと読む）

【課題】 露光された無機レジストを長時間現像する際に、現像工程を自動化し、現像液を再使用し、精密な制御を可能にする。
【解決手段】 被処理原盤２１がスピンテーブル２２に取り付けられてからプリリンス工程Ｓ１がなされる。次に、現像工程Ｓ２において第１段階の現像がなされる。現像が終了すると、リンス工程Ｓ３がなされる。そして、スピン乾燥工程Ｓ４がなされる。スピン乾燥工程Ｓ４が終了した段階で、モニタリング工程Ｓ５において、現像の進行度合いが測定される。モニタリング工程Ｓ５の測定結果から追加現像が必要か否かが判定工程Ｓ６で判定される。この判定結果に基づいて、工程Ｓ１（プリリンス）から再び追加現像処理がなされる。追加現像後に、現像が設定した段階となると、現像終了と判定される。その場合には、ポストリンス工程Ｓ７がなされる。 （もっと読む）

【課題】平流し方式において乾燥処理後の基板表面にシミや残渣が生じるのを防止して、処理品質を向上させること。
【解決手段】ベーパナイフＶＮ_Uは、搬送方向と直交する水平方向（横方向）において少なくとも基板Ｇの一端から他端までカバーできる長さに亘って延在する長尺状に横長のノズル本体を有している。このノズル本体の先端部（下端部）には、水蒸気を噴出する噴出口１７４が形成されている。ベーパ供給機構（図示せず）より加圧された水蒸気がベーパ供給管１７６を介してベーパナイフＶＮ_Uのノズル本体に導入され、先端の噴出口１７４より水蒸気が基板Ｇの上面（被処理面）に吹き付けられる。 （もっと読む）