【課題】平流しの搬送ライン上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムースに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】水平な搬送路を有する第１の搬送区間Ｍ１と、上り傾斜の搬送路を水平な搬送路から形成可能な第２の搬送区間Ｍ２と、第２の搬送区間Ｍ２が上り傾斜の状態で、第２の搬送区間Ｍ２に続く下り傾斜の搬送路を形成する第３の搬送区間Ｍ３とを含む平流しの搬送ライン２と、搬送体６を駆動する搬送駆動部と、第１の搬送区間Ｍ１内で基板Ｇ上に第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給部９と、第３の搬送区間Ｍ３内で基板Ｇ上に第２の処理液Ｗを供給する第２の処理液供給部１３と、第２の搬送区間Ｍ２に被処理基板Ｇが載置された状態で、該第２の搬送区間Ｍ２に敷設された搬送体６を上昇移動させ、第１の搬送区間Ｍ１に続く上り傾斜の搬送路を形成する昇降手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】比較的中性の現像液にて、現像除去成分の版面再付着を抑制でき、かつ良好な着肉性および耐刷性を得るのに適した平版印刷版原版の製版方法を提供する。
【解決手段】下記工程を含むことを特徴とする製版方法。
（ａ）該画像形成層中に赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、疎水性バインダーポリマー、及び特定のカルボン酸化合物を含む平版印刷版原版を準備する工程。
（ｂ）該平版印刷版原版を画像様に露光する工程。
（ｃ）前記露光済みの平版印刷版原版を、擦り部材を具備する自動処理機を用いて、アラビアガム及び澱粉からなる群から選ばれる少なくとも１種の水溶性ポリマーを含有する水溶液で現像する工程。 （もっと読む）

【課題】現像後のリンス処理における現像液濃度の偏りに起因するムラを防止する現像装置及び現像方法の提供。
【解決手段】基板上に現像液を供給する現像液供給機構と、基板上にリンス液を吐出するリンスノズル２とリンスノズルにリンス液を供給するバッファタンク３とバッファタンクに純水を供給する純水配管７及びエアオペレートバルブ６とバッファタンクに現像液を供給する現像液配管４及びエアオペレートバルブ５とバッファタンク内のリンス液の現像液濃度を測定し、現像液濃度が所望の値になるようにエアオペレートバルブ５、６の開閉を制御する現像液濃度測定部８とを少なくとも備えるリンス液供給機構とを少なくとも備え、現像液濃度測定部８は、基板上に現像液が供給された後、リンス液を吐出する際に、リンス液の現像液濃度をリンス処理の時間経過に伴って徐々に低下させる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層を露光後に現像して画像形成する場合において、現像残渣の発生を抑えながら、現像後の洗浄過程におけるムラの発生を抑制し、高品質の画像（カラーフィルタを含む）を形成することができる画像形成方法である。
【解決手段】基板に形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像して画像を形成する画像形成工程と、画像が形成された前記基板の画像形成面に残存するアルカリ溶液を純水で置換することにより洗浄する第１の洗浄工程と、前記洗浄後の前記基板の画像形成面に、さらに前記洗浄時の水圧より高い圧力で純水を噴射して残渣を除去することにより洗浄する第２の洗浄工程と、を有している。 （もっと読む）

【課題】自動現像機により平版印刷版材料を比較的多量に処理しても、処理能力に優れ、現像タンク内ローラに汚れを生じ難い平版印刷版材料用現像液を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に感光性樹脂組成物から成る感光層を有する感光性平版印刷版材料を画像露光後、現像液で現像処理し、更に水洗処理して平版印刷版を作製する平版印刷版の作製方法に用いる現像液であって、該現像液が下記一般式Ｉで示される構造の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性平版印刷版材料用現像液。
【化１】


〔式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々、炭素原子数８〜２０のアルキル基を表し、Ｘは単結合又は炭素原子数１〜２０の有機連結基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】液処理装置の液処理ステージからの処理液の持ち出しを最小限のものとし、かつ基板への処理むらの発生を防止する。
【解決手段】現像ステージＳｔ１の内部に長さ寸法が基板１の幅方向の全長より長い寸法を有する排液ノズル１１が設置されており、その噴射通路１３は搬送される基板１に対して４５度以下となり、噴射口１３ａは基板１に対して平行な整流化面１５に開口しており、整流化面１５と基板１の表面１ａとの間には、均一な隙間Ｇを有するスリット状の通路が形成され、噴射口１３ａより前方側の部位には噴射通路１３の傾斜角より小さい角度の空気呼び込み壁１６が形成されており、噴射通路１３から噴射された加圧空気が噴射口１３ａから噴射する際に、コアンダ効果により整流化面１５への密着性が高くなり、スリット状の通路内でほぼ確実に基板１の表面と平行な流れにとなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、現像工程において塗布膜の白濁がなく高解像度なパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜の形成方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の目的は、アルカリ現像液の供給部を前記塗布膜の中心部に配置し、塗布膜を回転させると共に供給部を中心部から塗布膜の外周部側へと移動させながらアルカリ現像液の供給を行い、アルカリ現像液が塗布膜に拡がった段階で塗布膜の回転を停止し、静置する工程を実施する現像工程、および前記現像工程では、塗布膜を静置する時間の合計をＴｓ１〔秒間〕とし、洗浄工程の直前の塗布膜の静置時間をＴｓ２〔秒間〕としたとき、Ｔｓ２／Ｔｓ１が０．５以上とすることにより達成することができる。 （もっと読む）

【課題】現像処理後の基板を確実に乾燥させることが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】リンス液によって基板Ｗの上の現像液が洗い流された後、基板Ｗの回転速度が低下し、基板Ｗの表面全体にリンス液の液層Ｌが形成される。その後、基板Ｗの回転速度が上昇する。基板Ｗの回転速度の上昇により、遠心力が張力よりもやや大きくなることにより、液層Ｌは、周縁部の厚みが厚くなるとともに中心部の厚みが薄くなった状態で基板Ｗ上に保持される。続いて、ガス供給ノズル７５から液層Ｌの中心部に向けてガスが吐出され、液層Ｌの中心部にホールＨが形成される。それにより、液層Ｌの周縁部に働く遠心力に釣り合う張力が消滅する。また、ガスの吐出とともに基板Ｗの回転速度がさらに上昇する。それにより、液層Ｌが基板Ｗの外方に向かって移動する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂膜が開口部に残留しないようにポジ型感光性樹脂膜をパターニングさせるための形成方法を提供することである。
【解決手段】上記目的は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）とを含有するポジ型感光性樹脂組成物を基材に塗布して樹脂層を形成する塗布工程と、前記樹脂層の所望の部分に活性エネルギー線を照射する露光工程と、活性エネルギー線照射後の前記樹脂層にアルカリ現像液を接触させる現像工程と、前記現像工程の後にリンス液でアルカリ現像液を洗浄する洗浄工程と、を有する電子部品の製造方法において、前記リンス液で洗浄する洗浄工程は、前記樹脂層に現像液を所定の時間接触させた後、直ちにリンス液で現像液を洗浄することにより実現することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の脂環炭化水素構造から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも２種類有し、酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】傾斜処理の現像にて、ガラス基板のサイズが大型化しも、面内現像均一性の良好な現像方法、現像装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板１の傾斜上部（山側）ａ側に吐出する現像液の吐出量を、傾斜下部（谷側）ｂ側に吐出する現像液の吐出量１００％に対して１０〜５０％とする。山側の上端から谷側の下端に向かって、吐出量が漸増する。水洗水の吐出角度θを、ガラス基板の搬送方向に対向する方向へ２０〜５０度の角度とする。山側の上端から谷側の下端に向かって、吐出角度が漸増する。 （もっと読む）

【課題】搬送方向に直交する方向に沿ってむらなく均一な圧力でシート状物に液体を噴射することができる噴射装置を提供する。
【解決手段】噴射装置２０は、搬送方向に沿って搬送されてくるシート状物Ｗに液体を噴射する装置である。噴射装置は、搬送方向に直交する方向に沿い等間隔Ｐを空けて一直線上に並べられた複数のノズル本体２１ａ〜２１ｆ，２２ａ〜２２ｆを有するノズル列２１，２２を備えている。隣り合うノズル本体の配置間隔は、他のノズル本体から噴射される液体との干渉が無い場合における、一つのノズル本体から噴射される液体のシート状物上での噴射領域の前記搬送方向に直交する方向に沿った長さの半分以下である。 （もっと読む）

【課題】優れた弾性を有し、レーザー彫刻後に水洗により残渣を容易に除去することが可能なフレキソ印刷原版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体層、（Ｂ）エラストマー性バインダー、及びこのエラストマー性バインダーを架橋可能な架橋剤を含有するエラストマー性組成物から形成される樹脂層、並びに（Ｃ）親水性樹脂層、を積層してなることを特徴とするフレキソ印刷原版。このフレキソ印刷原版によれば、樹脂層を露光、又は加熱処理して硬化させ、レーザー彫刻を行っても、硬化後の樹脂層の残渣を容易に除去することができる。また、レーザー彫刻後のフレキソ印刷版の上部において、エッジ部が丸みを帯びることなく、印刷によるドットゲインが大きくならない。 （もっと読む）

【課題】基板に供給された現像液のうちレジスト膜の内部にしみ込んだ現像液を基板から除去することができる基板現像方法と現像装置と基板処理装置を提供する。
【解決手段】現像液に引き続いて洗浄液を基板に供給し（ステップＳ１、Ｓ２）、続いて、基板を回転させて洗浄液を基板から振り切りつつ乾燥させる（ステップＳ３）。基板上の洗浄液が蒸発するのに伴い、レジスト膜の内部にしみ込んだ現像液を表面上に移動させることができる。続いて、移動後洗浄処理を行うことで、回転処理で移動した現像液を洗い流すことができる（ステップＳ４）。このようにレジスト膜にしみ込んだ現像液を基板から除去することができるので、現像後の基板上に現像液が残る現像液残りを抑制することができる。したがって、現像欠陥の発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】現像液が基板上に残ることを抑制することができる基板現像方法および現像装置を提供する。
【解決手段】基板に現像液を供給し（ステップＳ１）、現像液が供給された基板にリンス液を供給して現像液を洗い流し（ステップＳ２）、第１の回転乾燥を行う（ステップＳ３）。このように基板上の現像液は微量してから、ＣＯ_２溶解液を基板に供給する（ステップＳ４）。基板上の微量の現像液はＣＯ_２溶解液と中和する。この中和反応によって生成された生成物（塩）はＣＯ_２溶解液に容易に溶解するので、ＣＯ_２溶解液とともに効率よく洗い流される。したがって、基板上に現像液が残ることを抑制することができる。この結果、現像液残りによる現像欠陥の発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】高感度なＣＴＰ印刷版においても、現像安定性、即ち画像部の印刷性能を阻害せず非画像部の溶出性を改良し、高い網点部画像再現性を保持しつつ、同時に画像部の視認性を向上させる平版印刷版の製版方法を提供する事である。
【解決手段】平版印刷版の感光層をレーザー露光により画像部を架橋させ、アルカリ性現像液を用いて未露光部を溶解除去し非画像部とする平版印刷版の製版方法であって、溶出促進剤を含むアルカリ性現像液による現像処理の後に、塩基性染料を含有する水洗液により水洗し、引き続いてガム液を付与する平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】良好な微細パターンを形成することのできるレジストパターン形成方法と、これを用いた半導体装置の製造方法とを提供する。
【解決手段】半導体基板１０３の上に、酸を供給し得る第１のレジストパターン１０１ａを形成した後、第１のレジストパターンの上に第２のレジスト１０２を形成する。次に、第１のレジストパターンに接する第２のレジストの界面部分に架橋層１０４を形成する。その後、第２のレジストの非架橋部分を除去して、第２のレジストパターンを形成する。第２のレジストパターン１０２ａを形成する工程は、水で現像する第１の現像工程と、第１の現像工程の後に、第２のレジストに対する溶解性が水より高い溶液で現像する第２の現像工程と、第２の現像工程の後に水でリンスする工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】無機現像液を吐出する現像ノズルにおいて、現像液の乾燥による目詰まり等の不具合を抑える。
【解決手段】現像ノズル６に、キャニスタータンク１３と現像液供給用バルブ１９とからなる現像液ライン２４と、純水源８Ｂと純水洗浄用バルブ１８Ｂとを含む純水ライン２５Ａとが接続されている。現像ノズル６の待機位置である現像ノズルバス７内にはノズル外部洗浄用ノズル２３が配置され、純水洗浄用バルブ１８Ａとマニホールド２２を介して純水源８Ｂに接続されている。現像終了後に現像ノズルバス７に戻った現像ノズル６に、純水ライン２５Ａからの純水を供給してノズル孔２０から吐出させることにより、現像ノズル６の内面を純水で洗浄するとともに、ノズル外部洗浄用ノズル２３から純水を噴射することにより、現像ノズル６の外面と現像ノズルバス７の内面を純水で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物。
【解決手段】（ａ）シロキサンポリマー、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸アルキルエステルおよびその他の構造単位を有する共重合体からなる感光性シロキサン組成物であって、該共重合体は（メタ）アクリル酸の構造単位を１０〜５０モル％、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの構造単位を２５〜５０モル％、その他の構造単位を２５〜５０モル％含有することを特徴とする感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）

塗布半導体基板を準備する工程と、第１の感光性組成物を塗布する工程と、第１の感光性組成物を露光する工程と、露光された第１の感光性組成物を現像する工程と、像形成された二層積層体をリンスする工程と、定着液を添加する工程と、固定化された像を含む像形成された二層積層体をリンスする工程と、第２の感光性組成物を塗布する工程と、第２の感光性組成物を露光する工程と、第２の感光性組成物を現像する工程と、像形成された二層積層体をリンスする工程と、を含む多重露光パターン形成プロセスを用いた半導体装置を製造するプロセスであって、第１及び第２の感光性組成物それぞれが、光酸発生剤と、酸で処理することによりその水性塩基溶解度が増加し、アンカー基を備える、実質的に水性塩基不溶性の重合体と、から構成されることを特徴とする。定着液はアンカー基と反応性を有するが、シリコンは含有しない、多官能性定着化合物から構成され、半導体基板は少なくとも第１の塗布工程から少なくとも最後の露光までリソグラフィセル内に止まることを特徴とする。 （もっと読む）