【課題】マスク製造の負荷を増加させること無く、より滑らかなレジストパターンを得る。
【解決手段】先ず、被加工基板の主表面上に、膜厚が不均一なレジストパターンを形成するフォトマスクを用意する。このフォトマスクは、透明なマスク基板の表面に行列状に配列された複数の正方形のマスクセルを有し、マスクセルの一辺の長さは、当該フォトマスクが用いられる露光装置の光学系の解像限界となる長さよりも小さく設定される。各マスクセルは光透過領域と遮光領域のいずれか一方又は双方を備え、各マスクセルの面積に対する光透過領域の面積の比によって、各マスクセルを透過する光の強度を決定する。次に、主表面上にレジスト材を塗布した被加工基板の、主表面に直角方向の位置である垂直焦点位置を、最適焦点位置とは異なる位置に合わせる。次に、フォトマスクを透過する光でレジスト膜を露光した後現像して、レジストパターンを得る。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤ素子を使った描画速度を上げて生産性を高める場合に、ＤＭＤ素子のマイクロミラーの切り変わる時間を短くし生産性を向上させる。
【解決手段】描画装置（１００）は、マトリクス状に配置された多数のマイクロミラーＭを有するＤＭＤ素子（４１）と、マイクロミラーＭに対して露光光を供給する光源（１０）と、露光光を被露光面（ＣＢ）へ導くようにマイクロミラーＭを第１状態に設定する第１電圧をかけるとともに、露光光が被露光面へ到達しないように反射素子を第２状態に設定する無電圧をかけるバイアス電圧制御部（８３）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光対象箇所の積算照度を正確に、かつ簡単に計測することができる「露光用照度計測装置」を提供すること。
【解決手段】露光用照度計測装置１０は、光源１１と、該光源から照射された光を変調する空間光変調素子（ＤＭＤ）１２と、このＤＭＤから出射された光をすべて入射する集光レンズ１３と、該集光レンズを通して収束された光が入射される単一の光電変換素子（ＰＤ）１４と、コントローラ１７とを備える。このコントローラ１７により、ＰＤ１４の光検出信号から、ＤＭＤ１２を使用して光照射されるべき露光面の当該箇所の積算照度（露光装置において露光を行うのに必要とされる光量のデータ）を算出する。 （もっと読む）

【課題】所望のパターンが形成される半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、パターン（６３）を構成する複数の図形から所定の大きさより小さい微小図形を抽出するステップ（Ｓ２４）と、複数の図形の各々に対応するように成形した電子線（５０）を基板（５１）上の複数の図形の各々に対応する図形領域（５２）に照射するステップ（Ｓ２３）とを具備する。抽出するステップ（Ｓ２４）において、微小図形の大きさを所定の大きさと比較する。照射するステップ（Ｓ２３）において、微小図形に対応するように成形した電子線（５０）を基板（５１）上の微小図形に対応する微小図形領域（５２）に照射する単位面積あたりの照射量は、複数の図形のうち抽出するステップ（Ｓ２４）において抽出されなかった非微小図形に対応するように成形した電子線（５０）を基板（５１）上の非微小図形に対応する非微小図形領域（５２）に照射する単位面積あたりの照射量より多い。 （もっと読む）

【課題】複数の照射部における各光源の照度を同一に制御することができ、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその照度制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、パターンを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部１４と、複数の照射部１４内にそれぞれ配置され、照射部１４内での露光用光ＥＬの照度を検出する複数の第１照度センサ４１と、複数の照射部１４からの各露光用光ＥＬが照射される各位置に移動可能で、各露光用光ＥＬの照度を検出する第２照度センサ４２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】かぶりによって露光領域に生じるパターン線幅（ＣＤ）の不均一性を改善できる荷電粒子ビーム露光方法及び荷電粒子ビーム露光装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを照射して試料基板に所望のパターンを露光する荷電粒子ビーム露光方法であって、予め荷電粒子ビームによる露光によって生じるかぶりの影響が及ぶ領域を求め（ステップ１）、試料基板のパターンの露光領域を、かぶりの影響が及ぶ領域より小さい小領域に分割して、この小領域においてかぶりにより試料基板に与えられるかぶり照射量を演算する（ステップ４，５）。さらに、試料基板の最外周からかぶりの影響が及ぶ領域に含まれているパターンに対して、演算にて求めたかぶり照射量に応じて、小領域毎に荷電粒子ビームの照射量を補正する（ステップ９）。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において、光照射部からの光を受光するセンサ部と光照射部の制御を調整する調整部とを接続する接続部の設計の自由度を向上する。
【解決手段】パターン描画装置１では、センサ部５１および調整部６１にそれぞれ常時接続されたセンサコネクタ７３と調整部コネクタ７１とを有する着脱式の接続部７が設けられ、センサ部５１から調整部６１へのデータ出力時にのみ、センサコネクタ７３が調整部コネクタ７１に装着されてセンサ部５１と調整部６１とが接続され、基板９に対するパターンの描画時には接続されない。このため、接続部７のセンサケーブルや調整部ケーブル７７が、パターンの描画時における基板保持部３の繰り返し移動により屈曲されることが防止される。その結果、センサケーブルや調整部ケーブル７７に対して高い屈曲耐性が要求されることはなく、接続部７の設計の自由度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できるとともに、光学部品毎の調整負担やコストも低減でき、かつ、照射光の数を容易に増減させることができる描画装置を提供する。
【解決手段】基板９の上面にパルス光を照射するための複数の光学部品を、パルス光ごとに照射ユニット４０として一体化する。そして、照射ユニット４０ごとに予め複数の光学部品の位置や光軸を調整しておき、調整済みの照射ユニット４０を装置上に取り付ける。このため、装置上において複数の光学部品の調整を行う必要はなく、パターン描画装置１の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できる。また、照射ユニット４０全体として高精度に調整されていればよいため、光学部品毎の調整負担やコストも低減できる。更に、照射ユニット４０の数を増減させることにより容易に照射光の数を増減させることもできる。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイに含まれる複数のマイクロレンズの焦点距離のバラツキに起因する露光画像の画質の低下を防止する。
【解決手段】マイクロレンズユニット４３は、複数のマイクロレンズ６０ａが二次元的に配列されてなるＭＬＡ６０と、このＭＬＡ６０を支持する支持台８０とからなる。支持台８０には、一対のマイクロメータヘッド８６が設けられている。各マイクロメータヘッド８６は、シンブル８７の回転に応じてスピンドル８８を突出させ、その突出量に応じてＭＬＡ６０に荷重を加えることにより、ＭＬＡ６０を下方に撓ませる。マイクロレンズユニット４３は、各マイクロレンズ６０ａの焦点距離のバラツキに応じてＭＬＡ６０を撓ませることにより、焦点距離のバラツキを補正する。 （もっと読む）

【課題】露光光を発生する光源に複数のランプを用い、露光光の照度分布を均一にする。
【解決手段】露光光を発生する光源に複数のランプ３１を用い、各ランプ３１から発生した光を集光し、複数のランプ３１の光を合わせた露光光により基板１を露光する。光源制御装置５０は、露光光の照度の目標値から、ランプの照度の目標値を決定する。各照度センサー４２は、各ランプ３１の照度を検出する。電源制御装置４０は、各照度センサー４２の検出結果が決定したランプの照度の目標値となる様に各電源４１をフィードバック制御する。照度センサー５２は、露光光の照度を検出する。光源制御装置５０は、照度センサー５２の検出結果に基づいてランプの照度の目標値を補正する。電源制御装置４０は、各照度センサー４２の検出結果が補正したランプの照度の目標値となる様に各電源４１をフィードバック制御する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの紫外線照射装置において、半導体ウエハ表面の状態による紫外線の反射率または吸収率の変化によらずに、本来紫外線照射プロセスに必要とされる紫外線光量を照射する。
【解決手段】半導体ウエハ５の表面近傍を、照射ヘッド部１が一方から他方へ随時移動する際、表面の状態を照射ヘッド部１の反射率または吸収率測定機能により随時フィードバックを掛け、紫外線の照射光量を変更することにより、半導体ウエハ５の表面状態に応じた紫外線光量を照射する。 （もっと読む）

【課題】高い稼働率を確保するとともに、簡易な照明光学系で多数の光束に分岐する露光描画装置を提供する。
【解決手段】露光描画装置１００は、紫外線を照射する光源と、光源からの光束を平行光に形成する照明光学系と、照明光学系からの平行光中に配置され、第１光束と第２光束とに分岐する第１窓と第２窓とを有するアパーチャー部材と、アパーチャー部材で分岐された平行光の第１光束及び第２光束を導く第１導光手段３７−１〜３７−８及び第２導光手段と、第１導光手段及び第２導光手段で導かれた第１光束及び第２光束を空間変調する第１及び第２空間光変調手段と、この第１及び第２空間光変調手段で空間変調された第１光束と第２光束とを被露光体に導く第１及び第２投影光学系と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マルチヘッドを有する直描露光機は、ヘッド間の描画境界において重複露光を行うことが一般的である。この際、ヘッドの位置調整にずれ等が発生すると重複して露光する領域のパターン形状に不具合が生じる。
【解決手段】マルチヘッドを有する直描露光機が基板を露光する際の露光ヘッド間の重複露光領域や折り返し露光領域に線幅や抵抗を評価するＴＥＧを配置し、それらの測定値の変動を捕らえることで、複露光ヘッドの位置調整ずれを検出する。 （もっと読む）

メディアにパターンを画像形成する方法が提供される。本方法のステップは、スキャンパスに沿ってメディアにわたりスキャニングする間、個々にアドレス指定可能なチャネルをもつ第一の画像形成ヘッドを動作して、画像形成ビームを方向付けしてメディアに第一の画像を形成するステップを含む。個々にアドレス指定可能なチャネルをもつ第二の画像形成ヘッドは、第二のスキャンパスに沿ってメディアにわたりスキャニングする間、同時又は異なる時間の何れかで動作され、画像形成ビームを方向付けして、メディアに第二の画像を形成する。第一のスキャンパスは、第二のスキャンパスに平行である場合又は平行でない場合があり、第一の画像は、第二の画像と位置合わせされるか又は位置合わせされない場合がある。第一の画像は、第二の画像に関して斜めにされる場合があるか又は斜めにされない場合がある。
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媒体上にパターンを撮像するための方法を提供する。反復するサブ領域パターンの間隔が求められ、個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを有する撮像ヘッドは、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導するよう動作させる。個々にアドレス指定可能なチャネルは反復する特徴パターンを撮像するよう制御され、反復する特徴パターンの間隔は反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう調節される。
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【課題】少数の光源で多数の空間光変調素子であるＤＭＤ素子を搭載して、高い稼働率を確保するとともに、その光源の光量を確認できる露光描画装置を提供する。
【解決手段】露光描画装置（１００）は、紫外線を含む光を照射する光源（１０）と、光源を第１光束と第２光束とに分岐するための第１開口窓（２１）及び第２開口窓（２１）、並びに光量検出用の検出窓（２９）が設けられているアパーチャー部材（２０）と、第１開口窓と第２開口窓とを通過した第１光束と第２光束とをそれぞれ反射する第１及び第２光学素子（２２）と、第１及び第２光学素子との近傍に配置され、検出窓を通過した光源からの光量を検出する第１光量センサ（ＳＳ１１）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】多数のレーザユニット間のレーザパワーのバラツキを抑える目的からＡＰＣ処理等のレーザパワー調整を行う場合で、レーザユニットに対峙する位置にドラムなどレーザ光を反射する部材が配置されている場合でも、ドラム表面でのレーザの反射光による干渉がなく、確実にＡＰＣ処理を実行でき、正確にレーザパワーを調整することができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】ドラム５のブランキング部分５Ａを光拡散部材４０で覆うことで光拡散部５Ｂを形成し、この光拡散部５Ｂでレーザ光を拡散するようにして、ドラム５の表面で反射されたレーザ光がレーザユニットに再入射することを防止し、フォトディレクタ１４がモニタ光１２ｂを検知できるようにし、制御手段３０は、必要とするレーザ光のモニタ光を受光することによりＡＰＣ処理を確実に実行し、正確にレーザパワーを調整できるようにした。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンを分割露光する際に、露光ムラを抑えることができる露光方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】本実施の形態のマスクを用いて露光を行うと、マスクの端部側に向かうにつれて露光量が減少する（図４（ｂ）の点線参照）から、隣接するマスクを透過する露光光を重畳することで、露光領域の端部であっても適切な露光量を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザユニットのうちの一つでも交換時期がくると、ユーザに交換時期を促すことが可能になる光記録ヘッドを提供する。
【解決手段】検出部３１が検出した印加電流値に基づくＰＤ値を基準ＰＤ値と比較した結果、ＬＤ値判定部３９が印加電流値が第１の値を超えると判定した場合には、交換時期信号が出力され、検査結果通知部３７が交換時期信号に基づく予防交換通知信号を出力して、この予防交換通知信号によりレーザユニット交換の必要、レーザ劣化中であることが解り、また、ＬＤ値判定部３９が、印加電流値が第２の値を超えると判定した場合には、使用中止信号が出力され、検査結果通知部３７が使用中止信号に基づく使用中止通知信号を出力して、この使用中止通知信号によりサービスマンが出張して通常運転を中止するか、リカバリ運転処理を行う。 （もっと読む）

【課題】レーザユニットの出力特性やプレートへの記録（書き込み）特性が変化しても、特性の変化に対する補正を確実に行い最適な光量調整ができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】検出部３１が、レーザ光をモニタ光として捉えて、このモニタ光の光量を、レーザドライブ電流値（ＬＤ＿ｓｅｔ）に基づく検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）に変換して検出し、制御部３２が、予め設定した目標ＰＤ値（ＰＤ＿ｔａｒｇｅｔ）に徐々に大きくなるように変化する傾き補正を行い、検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）に基づく新ＬＤ値（ＬＤ＿ｂ）を設定して、この新ＬＤ値（ＬＤ＿ｂ）に基づきレーザドライブ電流値（ＬＤ＿ｓｅｔ）の補正を行い、検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）を、温度の傾き補正を加えた目標ＰＤ値（ＰＤ＿ｔａｒｇｅｔ）に近似させて記録濃度を一定に保持するようにした。 （もっと読む）