【課題】ウェハ面内のパタン寸法の均一性を向上させ、半導体装置の特性のばらつきを抑えることが可能な半導体製造方法と半導体製造装置を提供する。
【解決手段】ウェハ上にマスクパタンを複数の露光ショットにより露光する際に、予め測定されたエッチング後の各露光ショット内のパタン寸法分布に基づき、各露光ショット内の補正露光量を求め、各露光ショットにおいて、それぞれの補正露光量で露光し、露光されたウェハをエッチングすることにより、ウェハにパタンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ライン状に並んだ光供給素子群から対象物に向けて光を発するように構成された露光装置において、コヒーレンシーが高いレーザー等の光を用いる場合でも、各光供給素子から供給される光量を高精度に補正可能とすること。
【解決手段】複数の光供給素子群のうち、特定の光供給素子の周辺に位置する周辺光供給素子から光を供給し、周辺光供給素子の光量を固定した状態で、当該特定の光供給素子の光量を第１の光量レベルから第２の光量レベルへと変化させる。このようにして特定の光供給素子の光量を変化させたときの光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を計測することによって、特定の光供給素子の光量のみを変化させたときの光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を表すプロファイル関数を生成し、当該プロファイル関数に基づいて、各光供給素子を駆動するための制御値を較正する。 （もっと読む）

【解決課題】傾斜マイクロミラーからの電磁放射に位相差を導入することが、例えば、完全又は実質的に完全な正の振幅に加えて、完全又は実質的に完全な負の振幅を含むことができるようにアドレス指定可能振幅領域を拡張する。
【解決手段】放射を生成する第１及び第２の部分を使用して、加工物上にパターン形成するための方法、及び前記加工物上にパターンを形成するように、且つ放射に位相差を誘発するように適合された少なくとも１つの反射デバイスを備え、前記位相差が、位相シフト・プレートとステップ高さの差との少なくとも一方によって誘発される、放射源と加工物にパターン形成するための装置。 （もっと読む）

【課題】所望の電流密度を得るために最適なフィラメント電力を求めることが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム発生装置は、フィラメント電力によりカソード11を加熱することにより放出される電子を、バイアス電圧により集束し、加速電圧により加速することにより所定のエミッション電流の荷電粒子ビーム２０を照射する荷電粒子銃１０と、電流密度を測定するための検出器２２と、フィラメント電力およびエミッション電流を制御するための制御部１８と、バイアス飽和点における電流密度とエミッション電流との関係とフィラメント電力とエミッション電流との関係を記憶し、設定電流密度よりエミッション電流値とフィラメント電力値を算出するための記憶演算部１９を備える。 （もっと読む）

【課題】劣化による発光素子の光量変動を抑制して、良好な露光動作を実行可能とする。
【解決手段】発光素子２９５１と、発光素子２９５１からの光を結像する結像光学系と、発光素子２９５１に対して配設されたリファレンス素子Ｅrfと、発光素子２９５１の発光を制御するとともに潜像形成動作ではリファレンス素子を消灯しておく制御手段とを備え、制御手段は、潜像形成動作を行なっていないタイミングで発光させた発光素子２９５１およびリファレンス素子Ｅrfの光量に基づいて発光素子２９５１の劣化度合を求めるとともに、劣化度合に基づいて潜像形成動作での発光素子の光量を制御する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ方法及びシステムにより、放射の特徴を制御することができる。
【解決手段】照明システムを使用して、放射源から受けた放射からの放射ビームを提供する。放射源は個々に制御可能な要素のアレイを含み、個々に制御可能な要素はそれぞれ放射を放出することができる。支持構造がパターニングデバイスを支持する。パターニングデバイスは、放射ビームにパターンを与える。基板テーブルが基板を保持する。投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。放射ピーク強度検出装置が、放射源の個々に制御可能な要素のうち１つ又は複数の発光スペクトルの強度におけるピークを検出する。 （もっと読む）

【課題】独立してアドレス可能な複数のセグメントからなるビームを用いて、例えば印刷回路板等の光レジストで覆われた表面を走査する方法を提供する。
【解決手段】第１ビームと、その光入力端で光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端で変調光ビームを生成する変調器２８と第２ビームと、前記第１及び第２ビームを受光して、印刷回路板７８表面に対して第１ビームを走査させ、第１ビームの光路と平行な光路に沿って第２ビームの走査器と、第２ビームの位置に応じて前記変調信号を供給する制御器と、前記第２ビームが入射すると共に、変調反射ビームを形成するように反射されるマーク付スケールからなり、第２ビームはスケール表面に対し、角度を入射する結果、変調反射ビームは、第２ビームの軸とは異なる軸に沿って反射される走査装置１０。 （もっと読む）

【課題】要求露光量精度を満たしながらスループットの向上に寄与する露光装置を提供する。
【解決手段】第１強度の光を使った第１所要露光時間が基準時間よりも長い場合には、前記第１強度の光を使って前記第１モードで基板を露光し、前記第１所要露光時間が前記基準時間よりも短く、かつ、要求露光量精度が基準レベルよりも高い場合には、前記第１強度より弱い第２強度の光を使って前記第１モードで基板を露光し、前記第１所要露光時間が前記基準時間よりも短く、かつ、前記要求露光量精度が前記基準レベルよりも低く、かつ、前記第１強度の光を使って前記第２モードで基板を露光するときの所要露光時間である第２所要露光時間が前記基準時間よりも長い場合には、前記第２強度の光を使って前記第１モードで基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】複雑な構成を用いることない、描画開始から終了に至るまでの全体にわたって欠陥のない滑らかなパターン形成方法を実現することを目的とする。
【解決手段】保護剤で被覆して安定化した超微粒子を基板に接触させ、基板上にエネルギービームを照射しながら基板上を走査することで超微粒子を基板上に固定するパターン形成法において、エネルギービームの照射開始時にエネルギービームのエネルギーをエネルギービームの照射開始点のパターン中央部に欠陥が生じないよう所定時間かけて増加させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの感度が多様に変更されても、高精度の露光描画を大きなスループットで行うことができる走査型パターン描画装置の提供。
【解決手段】ステージと、光源の光を変調する光変調部と、変調された光を感光性材料層に照射する照射部と、光変調部へ入射する光の光量を調節する光量調節部と、照射部をステージに対し相対的に走査方向に沿って走査させる走査機構と、光量調節部および走査機構を制御する制御部と、感光性材料層の光感度に応じて選択される複数の露光量と、各露光量にそれぞれ適した走査速度とを対応付けて記憶する第１記憶部と、各走査速度にそれぞれ適した、制御部の制御パラメータの値を記憶する第２記憶部とを備え、制御部は、第１記憶部に記憶された走査速度の中から、入力された露光量に対応する走査速度を選択し、選択された走査速度に適した制御パラメータの値を第２記憶部に記憶された制御パラメータの値の中から選択する。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子ビーム描画装置に関し、クロスオーバ像の裾を制限することを目的としている。
【解決手段】荷電粒子ビームを出射する光源４と、該光源４からの荷電粒子ビーム１を受ける制限開口板２１とブランカー１４，１５と第１レンズ２より構成される第１の荷電粒子ビーム制御手段と、該荷電粒子ビーム制御手段を通過した荷電粒子ビーム１を受ける第１成形開口板３と、該第１成形開口板３を通過した荷電粒子ビーム１を偏向する第２レンズ６と、該第２レンズ６を通過した荷電粒子ビームを受ける第２成形開口板７と、該第２成形開口板７を通過した荷電粒子ビームを受けるブランキング開口板１７と、該ブランキング開口板を通過した荷電粒子ビームを集束する縮小レンズ８と対物レンズ９と対物偏向器１３から構成される第２の荷電粒子ビーム制御手段とを具備し、該第２の荷電粒子ビーム制御手段の出力で材料１０上に投影図形を照射するように構成する。 （もっと読む）

【課題】パターン端部の断面形状が良好なカラーフィルタを作製でき、パターン端部におけるパターン欠けを抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】着色剤及び／又は遮光剤と、光重合開始剤と、重合性化合物と、を含む感光性樹脂層を、周辺部における透過領域密度が中央部における透過領域密度よりも低い開口パターンを有する露光マスクを介してパターン露光する露光工程と、パターン露光された感光性樹脂層を現像してパターンを得る現像工程と、現像して得られたパターンを加熱処理するポストベーク工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 走査速度、パルス光の光強度分布にずれがあっても露光斑の少ない走査露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、レチクル１３と基板１８とを走査しながら、基板１８の走査方向に沿った光強度分布の形状が等脚台形であるパルス光で照明されたレチクル１３のパターンを基板１８に転写する走査露光装置であって、基板１８が走査方向に単位量移動する間に基板１８が受光するパルス数及び光強度分布の形状に応じて変化する基板上における露光斑と受光パルス数との関係を演算し、演算した前記関係における露光斑の大きさと傾きとがそれぞれの閾値以下となるように受光パルス数を制御する制御器を備える。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題を解決するパターン作成装置の提供。
【解決手段】本発明に係る装置は、つぎ合わされた少なくとも２つの隣接する部分的画像が共通の境界でオーバラップし、オーバラップしている部分的画像の各々が、オーバラップ領域において本質的に同じパターン、及び減少された露光線量を有し、オーバラップ領域の減少された露光線量が、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態に設定する位相変調素子の能力を使って、位相変調アナログ空間光変調装置のアナログ機能により作られ、中間変調状態に設定された位相変調素子の微小領域素子から反射された光の複素振幅を一体化した光の複素振幅が、オーバラップ領域の減少された露光線量をつくることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を用いず構成が複雑にならずに大面積露光が高速でかつ高精度に実施可能なマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】このマスクレス露光装置は、被露光物Ｓに露光する光を出力するための光源２１と、光路中に設けられた光スイッチング手段２３と、光源からの光を被露光物へ導く光学系１２と、により被露光物上に多数の集光スポットＳ２を投影可能な露光ヘッド２０と、露光ヘッドと被露光物とを相対移動させる移動手段と、を備え、各集光スポットのオンオフを光スイッチング手段により制御するとともに移動手段による相対移動を制御することで被露光物上に任意のパターンを露光する。 （もっと読む）

【課題】アドレス・レゾリューションが改善されたパターン作成装置の提供。
【解決手段】本発明に係る装置は、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップをフィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされる。境界線上の中間画素マップが、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態を有する位相変調素子の画素を含み、加工品に投影される位相変調空間光変調装置の画素に比べて微細なアドレス・グリッドで境界線上の配置によって作成される。境界線の露光レベルが、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態に設定する位相変調素子の能力を使って作られ、中間画素マップに一致する中間変調状態に設定された位相変調素子の微小領域素子から反射された光の複素振幅を一体化した光の複素振幅により、微細なアドレス・グリッド及び前記境界線の露光レベルが作成される。 （もっと読む）

【課題】露光対象の基板上の種々の配列の複数のパターン転写領域に効率的にパターンを露光する。
【解決手段】マスクＭＡ，ＭＢのパターンを介してプレートＰＴを露光する露光装置において、マスクＭＡ，ＭＢのパターンの像をプレートＰＴ上の複数のパターン転写領域に投影する複数の投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＢと、マスクＭＡ，ＭＢ及びプレートＰＴを走査方向に同期して移動するステージ系と、複数のパターン転写領域の配置に応じて、投影光学系ＰＬＡ，ＰＬＢの非走査方向の間隔を制御する光学系ステージ３６Ａ，３６Ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】光照射装置で入射光が小光量の場合でも均一化して出射できる入射光を供給する。
【解決手段】光照射装置の絞り板の開口部の形状が、スリット形状で溝幅が連続的に暫減又は暫増するように形成される第１パターン１０１と、第１パターンにおける少なくとも溝幅が所定値以下に狭くなったところの近傍領域に、第１パターンにおける溝幅が暫減又は暫増することと協働して、出射光の通過可能となる面積を暫減又は暫増させるように形成される第２パターン１０２とが組み合わされて構成される。 （もっと読む）

【課題】可視光波長よりも短いオーダでの微細加工を低コストに実現することを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】被加工体(１００)の上側に感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、可視光波長よりも小さい波長の２本のレーザービーム(B１,B２)を交叉させて干渉光を発生させ、当該干渉光を照射することによって上記感光性膜を露光する露光工程と、露光後の上記感光性膜を現像して、上記干渉光のパターンに対応する形状を上記感光性膜に発現させる現像工程と、現像後の上記感光性膜をエッチングマスクとしてエッチングを行い、上記被加工体を加工するエッチング工程と、を含む、微細構造体の製造方法。 （もっと読む）