【課題】導体幅が太くなるのを抑制できるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）金属張積層板１に接着されたドライフィルム２に対向させて、前端部３、後端部４、接続部５を有するマスクパターン６を設けて形成されたマスクフィルム７を配置した後、露光してレジストパターン８を形成する工程と、（ｂ）レジストパターン８の後端部４とマスクパターン６の前端部３とが重なるようにマスクフィルム７を配置した後、露光して直前に形成されたレジストパターン８と連続するレジストパターン８を形成する工程と、（ｃ）（ｂ）の工程を所定回数繰り返した後、現像、エッチング、レジスト除去して導体パターン１１を形成する工程とをこの順に経る。レジストパターン８の後端部４とマスクパターン６の前端部３との重なり部分１２に照射される露光量が、接続部５において重なり部分１２に相当する面積に照射される露光量の２倍よりも少ない。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板１０を一方向に回転させつつ、電子ビームＥＢを描画オン・オフ制御により基板の回転に依存して描画するについて、半径方向にｎ分割したエレメントの第１区画を描画した後、電子ビームを基板回転方向および半径方向に偏向させて第２区画の描画開始位置へ移動させて描画するのを当該エレメントに対し１回転にｍ回（ｍ≧２）行った後、次のエレメントの描画に移行し順次描画する。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】高品位の表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】対向する各エッジ部が第１方向に所定距離だけ離れた第１パターンと第２パターンの対が少なくとも１つ形成されたマスクを用意する。照明系瞳面での光量分布が、第１直線上の光軸から反対かつ等距離の第１領域及び第２領域における光量が他の領域における光量よりも大きくなる露光装置を用意する。上記のマスクパターンを上記の露光装置で露光転写し、前記第１パターンと前記第２パターンの転写像を、トランジスタのソース電極及びドレイン電極とする。 （もっと読む）

【課題】マスク工数を減少させて工程を単純化するとともに、安全性が確保されるようにしたタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板の一面に透明電極膜、及び絶縁膜を順次成膜する段階と、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第１方向に沿って連結される複数の第１センシングパターン、及び前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第２センシングパターンとともに、前記第１及び第２センシングパターン上に位置されるが、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、前記第１及び第２センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、前記導電膜をパターニングすることによって、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンを形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】量産ウェーハの露光に必要なアライメントストラテジーの数にかかわらず、スキャナ当たり単一のスキャナ安定性モジュールを運用できるシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のスキャン機能を制御する方法が開示される。第１のアライメントストラテジーが使用される。モニタウェーハが露光され、スキャン機能に関するベースライン制御パラメータが決定される。ベースライン制御パラメータは、モニタウェーハから周期的に取り出される。ベースライン制御パラメータからパラメータドリフトが決定される。この決定に基づいて修正措置が講じられる。第１のアライメントストラテジーとは異なる第２のアライメントストラテジーが用いられていたならば使用されていたはずの修正に実質的に近くなるように、修正措置が変更される。 （もっと読む）

【課題】 クーロン効果の影響の低減に有利な荷電粒子線装置を実現すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を生成し、該複数の荷電粒子線の各々に微小フィールドを走査させる荷電粒子線装置であって、上記走査の方向において、上記微小フィールド内のピクセルサイズの偶数倍にならないように、上記微小フィールドのサイズを設定する設定手段を有する、ことを特徴とする荷電粒子線装置とする。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンの描画を高速に行う。
【解決手段】光ビーム照射装置２０に、複数のミラーを直交する二方向に配列した複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）と、描画データに基づいて各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）を駆動する駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）と、各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調された光ビームを合成して照射する光学系とを設ける。複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから発生した光ビームを光ビーム照射装置２０へ供給し、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給し、描画データに基づき、複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから供給した光ビームを、複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調して、チャック１０に支持された基板１へ照射する。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】電極を有する基板と、基板に対して一端を固定されて弾性変形する基板側捩じり軸部と、捩じり軸部の他端に支持されつつ、静電力により電極に引き付けられて基板に対して揺動する枠体と、枠体に対して一端を固定されて弾性変形する枠側捩じり軸部と枠側捩じり軸部の他端に支持されつつ、静電力により電極に引き付けられて枠体に対して揺動する可動部と可動部に支持されて、可動部と共に基板に対して揺動する反射鏡とを備える。 （もっと読む）

【課題】光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。
【解決手段】光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）をチャック１０に取り付け、光ビームの強度を検査するための検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給し、チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動して、チャック１０に取り付けた検出装置（レーザーパワーメータ５１）により光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、検出装置（レーザーパワーメータ５１）により検出した光ビームの強度に応じて、光源の出力を調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高価なフォトマスクを要することなくエッチングにより超電導層に溝部形成が可能であって細線化を確実に行うことができる方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基材上に中間層を介し超電導層が形成され、少なくとも超電導層を複数に分断離間する分離溝を備えてなる超電導細線の製造方法であって、基材上に中間層と超電導層と保護層を備えた超電導導体に対し、保護層から少なくとも超電導層表面に達する溝部を超電導導体の長さ方向に沿って形成する工程と、ネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、保護層上の感光性樹脂層が残り、溝部に対応する位置の感光性樹脂層を除去して溝部に連続する接続溝を感光性樹脂層に形成するように露光、現像を行う工程と、溝部と接続溝を介してそれらの下に位置する酸化物超電導層をエッチングにより除去して分離溝を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の上に発光素子の光軸と光学部品の光軸を正確に位置合わせした光源装置を低コストで実現する。
【解決手段】本発明の光源装置は次のような構成である。基板４は第１の電極パッド４１１と第２の電極パッド４１２を有し、発光素子２は、出光面２１と第３の電極パッド２６を有するパッケージと、前記パッケージの内部に収容された発光素子チップを有し、光学部品は、レンズ部３１と台座部３２と、台座部３２に形成された接合面３３を有し、レンズ部３１は発光素子２の出光面２１を覆っており、基板４に形成された第１の電極パッド４１１と発光素子２に形成された第３の電極パッド２６ははんだ１０で接合され、基板４に形成された第２の電極パッド４１２と光学部品の台座部３２に形成された接合面３３は、はんだ１０によって接合されている。 （もっと読む）

【課題】照度維持率の低下を抑制した露光装置及び露光装置の点灯方法を提供すること。
【解決手段】封入水銀量０．０８〜０．２５ｍｇ／ｍｍ^３の高圧放電ランプを備え、ワークを露光処理する露光装置であって、該高圧放電ランプは、前記ワークを露光しない非露光時に、露光時の定格電力に比べて低電力で交流駆動するように制御し、且つ、前記低電力時におけるランプ電流値及び点灯周波数を、前記定格電力時におけるランプ電流値及び点灯周波数に比べて小さくするように制御する制御部を備えることを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】露光パターン解析装置８０の光量データメモリ８２は、予め、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。描画制御部７１は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する。露光カウンタ８５は、チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な位置、及び光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給される描画データから、光ビームの照射回数を所定の面積の露光領域毎に数える。演算回路８７は、予め記憶した光ビームの光量と、光ビームの照射回数とから、所定の面積の露光領域毎に露光量を算出する。露光パターン解析装置８０は、算出した露光量に基づいて、露光量を補正する。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の移動速度を変化させなくても非露光エリアを小さく抑える。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１パターン領域を有する第１マスク（Ｍ１）を保持して移動する第１ステージ（ＭＳ１）と、第２パターン領域を有する第２マスク（Ｍ２）を保持して移動する第２ステージ（ＭＳ２）と、第１パターン領域のパターン像を基板上に形成する第１投影光学系（ＰＬ１）と、第２パターン領域のパターン像を基板上に形成する第２投影光学系（ＰＬ２）と、第１パターン領域のパターンを基板上の第１露光領域へ走査露光する第１走査露光期間と、第２パターン領域のパターンを基板上の第２露光領域へ走査露光する第２走査露光期間とが部分的に重複するように制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】露光量のばらつきがなく、かつタクト短縮が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板１０１を載せるチャック１１０と、基板１０１に所望のパターンを転写するためのマスク１０２を保持するマスクホルダ１２０と、露光光用の光源１３１，１３２と、光源１３１，１３２からの露光光を開閉するシャッタ１５０とを有する露光装置において、シャッタ１５０は、露光光を通過させる開シャッタ板と、露光光を遮光する閉シャッタ板とを有し、開シャッタ板および閉シャッタ板は同一方向に移動し、移動する方向において閉シャッタ板は、開シャッタ板よりも寸法が大きい。 （もっと読む）

【課題】均一な紫外線照射することにより、高性能で液晶パネル製造の歩留まり向上を実現する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間１１を備えた発光管１２内の軸方向に一対の放電用の電極１３ａ，１３ｂを対向して配置する。放電空間１１内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ１００を冷却ユニット２００で冷却させるとともに、被照射物とは反対側に反射板１９を配置し、被照射物に照射させる。反射板１９の複数の向きの異なる反射面６１で入射された紫外線を拡散したことで、被照射物に照射させる紫外線の照度の均一化を実現する。 （もっと読む）

【課題】露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。
【解決手段】光源制御部１５aは、遮光板８を閉じた状態で照射部１４の光源６に所定の電圧を印加した際に照度計５０によって検出される照度が目標照度になるように補正する補正機能１５ｂを有することで露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。
【解決手段】 描画データを用いた数値制御により露光パターンを生成する空間光変調素子を備える露光装置で前記感光性レジストを露光する工程を有する液晶表示パネルの製造方法であって、当該工程は、一度に露光可能な領域を露光対象領域の第１の方向に移動させながら露光する第１の動作と、前記一度に露光可能な領域を前記第１の方向と直交する方向に移動させる第２の動作とを繰り返して前記露光対象領域全体を露光し、前記描画データは、前記露光対象領域のうちの光を照射する領域の位置と露光量とが指定された数値データであり、前記描画データのうちの前記露光量は、前記感光性レジストを感光させるのに必要十分な標準露光量、または当該標準露光量よりも多い露光量のいずれかが指定される。 （もっと読む）