【課題】濃度分布マスクが感光性レジスト材料層に投影するパターンのつなぎ目での露光光量誤差を軽減して微小立体形状配列を製造する。
【解決手段】濃度分布マスクのパターンの光透過率をＢと定義すると、前記網点間隙領域の開口率ＷをＷ＝（√Ｂ）に設定し、第１段階の露光工程として、前記濃度分布マスクのパターンの投影する位置を該パターンの寸法だけずらしつつ前記感光性レジスト材料層に複数回投影露光することで、該パターンをつないで前記感光性レジスト材料層の全面を露光する工程と、次の段階の露光工程として、前記濃度分布マスクのパターンの投影する位置を該パターンの整数Ｎ分の１だけずらして前記第１段階の露光工程で露光された感光性レジスト材料層の全面に重ねて露光することで、前記感光性レジスト材料層の全面を前記整数Ｎ回重ねて露光することを特徴とする微小立体形状配列の製造方法。 （もっと読む）

【課題】照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部７１は、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて、光ビームが照射される領域が収縮又は拡張する様に描画データを補正して、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する。第１のメモリ７６ａは光ビームが照射される領域を収縮する位置を指定するデータを記憶し、第２のメモリ７６ｂは光ビームが照射される領域を拡張する位置を指定するデータを記憶する。変換回路７７ａは第１のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換し、変換回路７７ｂは第２のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換する。選択回路７８は、変換回路７７ａにより変換された描画データ、変換回路７７ｂにより変換された描画データ、または変換前の描画データのいずれかを選択する。 （もっと読む）

【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】 感光性絶縁膜を露光、現像して形成された絶縁層を有する液晶表示パネルにおける周期的な外観むらを低減する。
【解決手段】 感光性絶縁膜を露光、現像してなる絶縁層を形成する工程を有し、あらかじめ用意された数値データに基づく数値制御により生成される複数の露光パターンを前記感光性絶縁膜の異なる位置に同時に照射し、当該複数の露光パターンを排他的に走査することで当該感光性絶縁膜の全体を露光する表示装置の製造方法であって、前記数値データに基づき感光させないと判定される領域には、光を照射しない条件のときに前記感光性絶縁膜の各位置に照射される漏れ光の光量の総量のうちの最大値と同じ光量、または当該最大値より大きい光量の光を均一に照射する。 （もっと読む）

【課題】緩く傾斜する傾斜形状を有する微細構造体を良好に製造する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂へレーザ光を照射して微細構造体を得る微細構造体の製造方法であって、基板に感光性樹脂を塗布する塗布工程と、感光性樹脂に照射するレーザ光の光量を設定する光量設定工程と、感光性樹脂に、前記設定した光量に応じて、レーザ光の光量を変調させつつスキャニングする露光工程と、露光された前記基板を現像する現像工程と、を備える。製造する微細構造体は、角度が１０度以下の傾斜形状を含む。感光性樹脂は、感光性樹脂を感光、現像した後のレジスト残膜量と露光量とを対応づけたレジスト感度曲線のうち、レジスト残膜量の上限値の３０％から７０％までの範囲において、レジスト感度曲線の傾きが０．２８（μｍ／ｍＷ）より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ処理に有用な光ビーム出力強度の平準化を提供する。
【解決手段】光ビームのエネルギをパルス間で平準化するシステムは、３次の非線形特性を有する光学デバイスを含む一群の光学デバイスを備える。一群の光学デバイスを通過する未平準化光ビームの透過特性は、光学デバイスからの出力光ビームの出力強度が平準化されるように変化する。一実施例の構成は、ビームスプリッタ、非線形干渉フィルタ、ミラー、及びビームコンバイナを含む。非線形干渉フィルタで反射された光ビームの第１の部分が光ビームに結合され、結合光ビームは平準化された出力強度を有する。他の実施例は、ビームステアリングシステムを構成する第１のプリズム及び第２のプリズムを少なくとも備える。リソグラフィシステム、及び、光ビームのエネルギをパルス間で平準化する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】分割露光のオーバラップ部分において、分割露光した場合の相反則不軌を補償できるダイレクト露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、光を照射する光源部と、前記デジタルマイクロミラーデバイスを主走査方向及び前記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる走査部と、前記各マイクロミラーを操作して、前記被露光面にパターンを露光する画像制御部と、前記光源部、前記走査部、前記画像制御部を制御するシステム制御部と、を備え、前記システム制御部は、前記デジタルマイクロミラーデバイスの前記主走査方向に沿った走査で被露光面の同一箇所を複数回にわたって走査して分割露光する場合に、前記分割露光の各走査ごとに、あらかじめ記憶させた分割露光に起因する相反則不軌を補償する露光条件で露光を行うように、前記光源部、前記走査部、前記画像制御部を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置に関し、ビーム漏れとビームプロファイルのすそ野（レジスト中に蓄積するエネルギーのすそ野を含む）によるパターン寸法への影響を照射時間で補正することにより、より高精度の描画方法を提供することを目的としている。
【解決手段】ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野を含んだ近接効果補正では、入射エネルギーと解像しきい値の関係を表わす係数に基づいた入射エネルギーと、後方散乱による蓄積エネルギーと、ビームオフ時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームオン時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームプロファイルのすそ野による蓄積エネルギーの和が一定となるように、ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野補正を含んだ近接効果補正による補正量Ｓｍｏｄを求める、ように構成する。 （もっと読む）

【課題】それまで使用されていた光学素子と構成が異なる光学素子を使用する場合に、光量分布に関して必要に応じて互換性を維持する。
【解決手段】照明方法において、第１の照明瞳面における光量分布を設定する回折光学素子を経由した光で第１被照射面を照明することと、その第１の照明瞳面の光量分布を計測し、この計測結果を第１光量分布として記憶することと、第２の照明瞳面２２Ｐにおける光量分布をその第１光量分布とほぼ同じ分布に設定可能な空間光変調器１３を経由した光で第２被照射面を照明することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】エッチング処理により基板上に設計データ通りの配線パターンを形成できるようにする、レジストパターンのデータを生成するデータ生成方法を実現する。
【解決手段】レジストパターンのデータ生成方法は、基板面に相当する仮想平面上において、設計データに規定された配線の外郭上の或るポイントを基準点として所定形状を有し、当該ポイント上に位置するエッチング液によって銅箔がエッチングされ得るエッチング影響エリアを含む第１の基準エリアを設定する設定ステップS101と、レジストパターンの外郭の位置を、第１の基準エリアに占めるエッチング影響エリアの面積を表わすエリア面積パラメータに応じて決定する決定ステップS102と、設計データに規定された配線の外郭上の任意の位置に順次設定されるポイントに対して設定ステップS101および決定ステップS102を繰り返し実行することで、レジストパターンの外郭を画定する画定ステップS103と、を備える。 （もっと読む）

【課題】周期的パターンを露光又は形成する際にスペース部の幅の均一性を高める。
【解決手段】ウエハＷにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハＷの表面に複数のラインパターン４０Ａを含むＬ＆Ｓパターン５４Ａを形成することと、ウエハＷの表面の複数のラインパターン４０Ａの間に配置される複数のライン状のレジストパターン４２ＮＡを含むＬ＆Ｓパターン５６Ａを、ラインパターン４０Ａの線幅とレジストパターン４２ＮＡの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】ランプの電極が磨耗してランプの発光点が移動しても、ランプの発光点を集光鏡の焦点に合わせて、露光光の強度の低下を抑制する。
【解決手段】ランプ３１を固定するクランプ７０と、クランプ７０を移動してランプ３１の位置を調整する調整機構、及び調整機構を駆動するモータを有する位置調整装置とを設け、光の強度を検出する検出装置４０を集光鏡３２の焦点の高さに設置する。検出装置４０により、ランプ３１から発生した光を集光鏡３２の焦点の高さで受光して、受光した光の強度を検出し、検出装置により検出した光の強度が最大となる様に、位置調整装置のモータを制御してクランプ７０を移動し、ランプ３１の発光点を集光鏡３２の焦点の位置に合わせる。 （もっと読む）

【課題】基板への直接書込みシステムでは解像度は高いもののスループットが低く、改善が求められている。
【解決手段】走査方法において複数の独立してアドレスし得るサブビームからなる走査ビームを生成し、この走査ビームで複数回にわたり表面を走査し、その際、前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に前記表面を走査すると共に、各サブビームを書き込むべき情報を反映するように変調しており、少なくとも二回の走査で表面の書込みエリアに書込みがなされるようにビームを重ねることよりなる表面にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。
【解決手段】基板の露光が行われないとき、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給しないで、各半導体発光素子８２を消灯させる。基板の露光が行われる間、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給して、各半導体発光素子８２を点灯させる。そして、光源８０の複数の半導体発光素子８２の温度変化に伴う光量の変化を検出し、光源制御装置５０は、検出された光量の変化を補う様に、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ供給する駆動電流を増減させる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの強度分布を均一にして、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビームを受光して、受光した光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）を、チャック１０に取り付け、検出装置により、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの照射領域２６ａの一部の同じ面積の複数の検査領域２６ｂへ照射された光ビームを、検査領域２６ｂ毎に受光して、各検査領域２６ｂの光ビームの強度を検出する。そして、検出装置が検出した各検査領域２６ｂの光ビームの強度の違いに応じて、各検査領域２６ｂの光ビームの強度が同じになる様に、描画データを補正する。 （もっと読む）

【課題】平網画像領域や小点画像領域を含む各種画像に対して安定した印刷濃度を得ることができる印刷用凸版を作成するための印刷用凸版作成装置、システム、方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】ラスタ画像データＩｒに基づいて２値画像データＩｂを生成し、各網点突起部２０４の高さを決定するための高さ変換マトリクスＭｈをラスタ画像データＩｒに基づいて生成し、生成された２値画像データＩｂに基づき形成される平網部Ａで網点突起部２０４の高さが複数の高さレベルからなる印刷用凸版Ｃを作成するため、生成された高さ変換マトリクスＭｈと２値画像データＩｂとに基づいて露光量データＤｅを生成し、生成された露光量データＤｅに基づいて版材Ｆを露光する。 （もっと読む）

【課題】ワークに塗布したレジストの経時的な感度変化に合わせて露光量を変更し、一巻きの帯状ワークの全ての露光領域を所望の露光精度で露光できるようにすること。
【解決手段】巻き出しロール１から巻き出された帯状ワークＷは、露光部３に搬送され、光照射部４からマスクＭを介して照射される露光光により露光される。制御部２０には、ワークに塗布されたレジストの経時的な感度特性の変化に応じた露光時間の減少量、最後の露光領域の露光時間等のパラメータが記憶されており、制御部２０は帯状ワークの露光回数をカウントし、露光を開始してからのカウント値と、上記パラメータに基づき、露光しようしている露光領域の露光時間を求める。そして、この露光時間に応じて、シャッタ機構６のシャッタ板６ａの開時間を制御して、帯状ワークの各露光領域を上記求められた露光時間になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】破壊強度を良好に保ちながら、高さの異なる樹脂パターンを同時に製造する樹脂パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂パターンの製造方法は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び特定の波長領域の光を吸収する光吸収剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、上記感光性樹脂層を所望のパターンに応じて異なる露光量で露光する露光工程と、露光した上記感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成でピント調節が迅速に行われる露光装置および画像形成装置を提供する。
【解決手段】 走査光学系と、走査光学系によって感光面に導かれる各光を感光面上に集光させる、光の集光位置を光の進行方向に調整する機能も有した集光部と、走査光学系による走査に伴って移動する光の移動範囲の一部から光源が互いに異なる複数の光が導かれて照射されて複数の光を個別に受光する、各光の受光量を検知する複数の受光部分を有する、該複数の受光部分上を該複数の光が該走査に伴って通過する、該複数の光のうちの一部の光については、該受光部分までの光路長が前記感光面までの光路長よりも長く、他の一部の光については、受光部分までの光路長が感光面までの光路長よりも短い受光器と、受光器で検知された受光量に基づいて集光部による光の集光位置を、集光部の機能を使用して調整する集光位置調整部とを備えた。 （もっと読む）