【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】複数の小型ランプを管理できる光源装置及び描画装置に関する技術を提供する。
【解決手段】 第１の観点の光源装置（２０）は、ランプ（２２）及び反射鏡（３）で構成され第１識別情報を有する光源と、第１識別情報を検出する第１検出器（５１）と、光源を１個以上保持し第２識別情報を有するハウジング（２１）と、第２識別情報を検出する第２検出器（５６）と、第１識別情報に関連する光源の情報と第２識別情報に関連するハウジング（２１）の情報とを記憶する記憶部（９２）と、第１検出器で得られた第１識別情報及び第２検出器で得られた第２識別情報と記憶部に記憶された光源の情報及びハウジングの情報とを比較し判定する判定部と、判定部の結果に基づいて、ランプを駆動する条件を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は形状補正荷電粒子ビームパターン描画装置に関し、台形、三角形の斜辺部分の走査丸めの影響を除去できるようにすること。
【解決手段】分割された図形面積から実際の描画面積を求め、この描画面積と指定した走査ステップサイズから分割図形内の計算上の荷電粒子ビーム照射数を計算する手段と、分割された図形から実際の描画形状を求め、この形状と指定した走査ステップサイズから分割図形の走査丸めを含んだ実際の荷電粒子ビーム照射数を計算する手段と、分割図形内の実際の荷電粒子照射数に対する、計算上の照射数の比を計算する手段と、分割された図形に対し、通常指定のドーズ補正量と合わせて最終ドーズ補正量を決定する手段と、荷電粒子ビームの当該図形内の走査速度を、最終ドーズ補正量に従って変調し、走査丸め誤差による図形形状の変化をドーズ量で補正する手段と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】露光中にワーク表面位置の変動を検出し、膜厚にむらのあるレジストでも適正な状態でワークを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１００は、ワーク（回転体）４を軸支する支持部（支持手段）７、８と、ワーク４を回転させるモータ（回転手段）３と、ワーク４表面を露光する露光光学系１と、ワーク４表面あるいは回転体表面に塗布されたレジスト膜（機能膜）表面の位置を検出する位置検出手段５と、位置検出手段５により検出された各表面位置と露光光学系１のフォーカス位置とのずれ量を計算する制御部（ずれ量計算手段）２と、を備え、支持部７、８及びモータ３はベース６上に固定されている。また、露光光学系１と直交する位置に位置検出手段５を配置している。 （もっと読む）

【課題】容易に実現可能であり、かつ、露光スピードを低下させることなく、より精密なパターンを露光することを目的とする。
【解決手段】露光装置に、光量制御部２００とデータ変換部２０１とを設ける。データ変換部２０１は、制御ピクセルによってパターンを表現した２値のパターンデータ２１０に基づいて、露光ピクセルによってパターンを表現した多値の光量データ２１１を作成する。光量制御部２００は、光量データ２１１に基づいて、空間光変調デバイス１５の複数のマイクロミラーを制御しつつ、当該複数のマイクロミラーによって形成される複数のビームの光量を個々に制御する。これにより、ビームのビーム径をビームピッチより小さい制御ピッチで制御する。 （もっと読む）

【課題】離散配置されてなるレーザーダイオードのいくつかが破損等の理由によって発光しない状態が生じても、継続的に使用可能なＣＴＰ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一部のチャンネルが非発光状態である場合には、正常時に露光ヘッドを移動させる基準区間の前後に設けられた補完区間においても露光ヘッドを移動させるようにしながら、非発光状態のチャンネルの存在位置に基づいて定められた、発光状態にある特定のチャンネルを用いて露光を行うように、チャンネル別露光データを生成し、移動手段によって、基準区間および補完区間において露光ヘッドを移動させつつ、露光制御手段がチャンネル別露光データに従って前記特定のチャンネルから露光用光を出射させることによって被露光領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】離散配置されてなるレーザーダイオードのいくつかが破損等の理由によって発光しない状態が生じても、継続的に使用可能なＣＴＰ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一部のチャンネルが非発光状態である場合には、正常時に露光ヘッドを移動させる基準区間の前後に設けられた補完区間においても露光ヘッドを移動させるようにしながら、非発光状態のチャンネルの存在位置に基づいて定められた、発光状態にある特定のチャンネルを用いて露光を行うように、チャンネル別露光データを生成し、移動手段によって、基準区間および補完区間において露光ヘッドを移動させつつ、露光制御手段がチャンネル別露光データに従って前記特定のチャンネルから露光用光を出射させることによって被露光領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】原版と基板との位置合わせの正確度または精度への迷光の影響を軽減する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版１１の位置を表す原版基準マークと基板３１の位置を表す基板基準マークのそれぞれに含まれ、ＸＹ方向に延びる二種類のマーク部を、投影光学系２０を介して同時に、ＸＹ方向の各々に対応する二種類の検出部を使用して検出する検出器４０と、迷光成分を検出器４０の検出結果から除去した後のピーク位置に基板ステージ３２を移動することによって原版１１と基板３１とをＸＹ平面内で位置合わせする制御部５０と、を有する露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の透過率の計測に有利な露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版ステージ２０に設けられた原版ステージ基準マーク２１で反射した反射光の第１光量を反射光モニター１６で計測し、原版ステージ基準マーク２１を光路から退避させて投影光学系２３を介して基板ステージ２４に設けられた基板ステージ基準マーク２７で反射した反射光の第２光量を反射光モニター１６で計測し、第１光量と第２光量の比に基づいて投影光学系２３の透過率を求める露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 水銀ランプ交換などの照明系メンテナンス等で発熱体の発熱量変化に対して周辺部への影響を抑制し、メンテナンス復帰時間を短縮し、露光装置の性能変動への影響を最小限に抑える。
【解決手段】 照明光発生手段の照明光に寄与しない発熱手段、及び照明系の熱量を制御する熱量制御手段により、照明光発生手段における熱量を所定値とする、もしくは温度分布を一定とするように熱量制御手段から熱量を制御する。 （もっと読む）

【課題】光源の光出力の校正を自動的に行うことができる光源制御回路およびこの光源制御回路を有する直接露光装置を実現する。
【解決手段】レーザダイオード２を有する光源のための光源制御回路１は、レーザダイオード２の光のパワーに比例した光電流を出力するフォトダイオード３と、取得指示を受信したときに、フォトダイオード３が出力した光電流の電流値を取得する取得手段１１と、電流値を第１の電圧値に変換する変換手段１２と、第１の電圧値を、書換え指示を受信するまで第２の電圧値として保持するラッチ手段１３と、第２の電圧値に応じた駆動電流をレーザダイオード２へ供給する駆動手段１４と、第１の電圧値と第２の電圧値とを比較する比較手段１５と、第１の電圧値と第２の電圧値とが一致しない場合、取得手段１１へ電流値の取得指示を送信し、ラッチ手段１３へ保持内容の書換え指示を送信する制御手段１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の透過パターン介しての露光処理を効率的に行う技術を提供する。
【解決手段】透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２のそれぞれは、副走査方向に等間隔で規則的に配置された同数のスロットＳＬａまたはスロットＳＬｂを有する。副走査方向において、スロットＳＬａは、スロットＳＬｂに比べて、比較的幅の狭い矩形形状を有する。パターン描画装置１００は、マスク３６１を備えた露後部３０を、基板９に対して主走査方向の（＋Ｙ）側へ走査させる場合、透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２とを同時に介して基板９のレジスト層を露光する。この露光走査によれば、透過パターンＳＬＧ１を透過したパルス光が照射された領域には、所定時間経過後に、透過パターンＳＬＧ２を透過したパルス光が照射される。つまり、一方向への露光走査において、２つの透過パターンを同時に介して同一領域が露光される、重畳的露光が行われる。 （もっと読む）

【課題】 線状部分及びそれから分岐した枝部を含むパターンを描画し、所望の形状の転写パターンを残すことが可能なパターン描画方法を提供する。
【解決手段】 加工対象物の表面において、第１のレーザビームと第２のレーザビームとのビームスポットが第１の方向に相互に接して並ぶように光軸調整を行う。前記第１のレーザビームと第２のレーザビームとの入射位置が、前記第１の方向と交差する第２の方向に、始点から終点まで移動するように、前記加工対象物を移動させながら、前記第１のレーザビームは始点から終点まで連続的に入射させ、前記第２のレーザビームは断続的に入射させて、線状の軌跡から枝部が突出したパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】撮像センサを含む計測器をそれが露光装置に搭載された状態で校正する技術を提供する。
【解決手段】原版を照明して該原版のパターンを基板に投影することにより該基板を露光するための光学系を有する露光装置は、撮像センサ２５０を含み前記光学系を通して前記撮像センサの撮像面に形成される光強度分布に基づいて前記光学系の特性を計測する計測器２００と、前記撮像面に既知の形状を有する光強度分布を形成する校正パターンと、前記校正パターンによって前記撮像面に実際に形成された光強度分布と前記校正パターンによって前記撮像面に形成されうる計算上の光強度分布とに基づいて前記計測器を校正する制御部１９０とを備える。 （もっと読む）

【課題】最小露光量を極めて小さくできるシャッターユニットを備え、タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置を提供することにある。
【解決手段】シャッターユニット４４は、独立に回転可能な第１及び第２のシャッター羽根７０，７１と、第１及び第２のシャッター羽根７０，７１をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構７２，７３を備える。第１及び第２のシャッター羽根７０，７１は、互いに同じ方向に回転する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、連続的な階調表現を有する階調模様を得る樹脂版面に関する。
【解決手段】 原画像取得部にて、樹脂版材へ付与する階調模様の原画像を取得し、デジタルデータへ変換又はあらかじめデジタルデータ化されている原画像を取得する原画像取得工程と、デジタルデータにおける階調表現に連続的に緩やかな高低差を付与するために、原画像における画像濃度と前記原画像をもとに作製した印刷物における画像濃度の対比を示す階調再現カーブに基づき、デジタルデータの階調範囲を補正し、レーザ加工部にて出力可能なデータ形式の加工用データを作製する加工用データ作製工程と、加工用データに基づいて、加工条件を設定し、加工条件をレーザ加工部へ送信するレーザ加工条件設定工程と、加工用データ及びレーザ加工条件に従って樹脂版材におけるレーザ加工領域に、レーザ加工部からレーザ光線を照射し、階調模様を形成するレーザ加工工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】物体に照射される照明光を所期の照度分布に調整できるフィルタ装置を提供する。
【解決手段】フィルタ装置は、入射した光の強度をその入射した光の入射角及び入射位置に応じて変化させるフィルタ素子と、フィルタ素子に入射する入射光に対してそのフィルタ素子を動かして、入射光の入射角及び入射位置の少なくとも一方を変化させるフィルタ駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ダイレクト露光描画装置に用いる放電ランプのｈ線の発光効率を高めて、レジストパターンの断面が台形になるようにする。
【解決手段】容積65mm³以下の石英ガラス製のバルブ２に、270mg/ccの割合で水銀を封入し、170Torrの圧力でガスを封入する。電極の背面５とバルブ２の内面６との間に、0.4mmないし0.42mmの空隙７を設ける。一対の電極４を結ぶ軸が水平となる状態で放電ランプ１を保持する。このようにすると、放電ランプ１のｈ線の発光効率が高まり、台形断面のレジストパターンに形成できる。 （もっと読む）

【課題】光学系の特性を適正に維持する。
【解決手段】射出口に１つの光学素子を有するハウジングと、光源の近傍に配置され光源の光量を測定する第１光量センサ４１と、基板の周辺で光学素子を経由した光量を測定する第２光量センサ４５と、ハウジング外の温度及び湿度を測定する周囲温湿度センサ（ＭＴ１）と、ハウジング内の温度及び湿度を測定する内部温湿度センサ（ＭＴ２，ＭＴ３）と、ハウジング内の空調を行う空調部５０と、第１光量センサに基づいて光源の寿命期間を判定する第１判定部９７と、光源が寿命期間内であった場合に第１判定部が第２光量センサに基づいて光学素子の特性の良否を判定する第２判定部９８と、周囲温湿度センサ及び内部温湿度センサに基づいて空調部の設定変更が必要か否かを判定する第３判定部９９と、を備える。 （もっと読む）