【課題】ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各フォトマスク面の照度を容易に測定し校正する、照度の測定及び校正方法、並びに露光装置を提供する。
【解決手段】マスクホルダ３０にフォトマスクＰＭ３を装着するマスク搬送トレイ４１に、照度測定ユニット７０を保持させ、照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせ、測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うこと。露光ヘッドＨは光源８０、マスクホルダを備え、マスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構４０を備え、フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ照度を測定し校正する露光装置。 （もっと読む）

【課題】
微少ミラーを２次元配列したミラーデバイスを用いたパターン描画装置において、感光剤の塗布された基体上への投影像をイメージセンサで観察・測定する際に、正確かつ精細に画像データを取得する。
【解決手段】
ミラーデバイス１０３で生成された画像パターンを感光剤の塗布された基体１０７上に投影し、この投影像を撮像光学系１０９とハーフミラー１０５と投影光学系１０６によってイメージセンサ１１０に結像させる。このとき、イメージセンサ１１０の撮像面に結像した微少ミラー像のピッチとイメージセンサ１１０の撮像画素ピッチとが整数比となるような撮像光学系１０９とする。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板を１回の走査で露光するリソグラフィ装置と方法を提供する。
【解決手段】照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影し、アレイの各レンズはビームの各部分を基板へ配向し、変位システムは、基板とビームを相対的に変位させ、ビームは所定の走査方向に基板全体で走査される。投影システムを各トラックに沿って各ビームを走査するように位置決めする。各トラックはビーム１本で走査する第一部分と、隣接トラックと重なりビーム２本で走査する第二部分を有する。第一部分への各ビーム部分の最大強度は第二部分へのビーム部分の最大強度より大きいので、第一と第二部分はほぼ同じ最大強度の放射線に露光する。隣接ビームをこのように重ねビーム強度を変調すると異なる光列の光学的フットプリントが継合わされ１回の走査で大面積の基板を露光できる。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の温度を、効率的に保持板に伝熱して変形や破損を防止する。
【解決手段】液晶露光用の波長を選択的に反射する第１平面鏡１１７は、保持板２０１に面接触で保持されている。その保持板２０１側の接触面には、全面に亘って負圧発生用の穴が形成され、真空ポンプ４０７からリザーブタンク４０３を介して真空吸引することで、第１平面鏡１１７の背面を保持板２０１に密着させ、その伝熱効果を高めている。水ポンプ４０１は、パイプ２０３に冷却媒体を流すことで、第１平面鏡１１７等の温度も制御可能としている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で、印面となる光硬化樹脂を適正に硬化させるための露光状態が判別できるスタンプ基体を提供する。
【解決手段】本発明のスタンプ基体１は、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂１１から成る印面形成部２と、印面形成部２を保持する印面保持部３と、を備え、印面保持部３に、光の強度を測定する光強度測定部５と、光強度測定部５の測定結果および光硬化樹脂の硬化状況を整合させる露光指標部６と、を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されるパターンの不均一性を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、第１基板に設けられた複数の領域のうち、第１群の領域のそれぞれを互いに異なる露光条件で露光し、第２群の領域のそれぞれをほぼ同一の露光条件で露光する第１露光を行うことと、第１露光によって露光された複数の領域のうち、第１群の領域をほぼ同一の現像条件で現像し、第２群の領域の第１部分と第２部分とを互いに異なる現像条件で現像する第１現像を行うことと、第１現像による現像結果に基づいて、所定パターンに対応する第１露光条件及び第１現像条件を決定することと、第２基板を、第１露光条件で露光し、且つ第１現像条件で現像して、第２基板に所定パターンを形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の波長の強度を個別に実用レベルで調整できる光源装置を提供する。
【解決手段】輝線スペクトルの一つの輝線波長の光を遮断する反射被膜が、前記光束を反射させるか又は透過させて通過させる複数の開口を有するように設けられ、該複数の開口の最大寸法は、所定波長の光束の照射面内に複数の開口が配置可能である微小な寸法であり、選択された所定波長の光束における少なくとも一つの特性を、微小な開口の形状、間隔及び数により決定する光源装置。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比較して簡易な構成で結像スポット径が異なる光ビームを得ることができ、通常露光及び高精細露光の両方の用途に対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光を照射する光源６６と、二次元状に配列された複数のマイクロミラーを駆動して複数の光ビームを生成するミラーデバイス５０と、ミラーデバイス５０で生成された複数の光ビームの各々を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された複数の光ビームの各々を感光材料上に結像させる結像光学系８０、８２と、を備えた複数の露光ヘッドを相対移動させて露光する。露光時には、結像スポット径に関し、通常露光の場合には第１の値を設定し、高精細露光の場合には第１の値より小さい第２の値を設定する。集光光学系及び結像光学系の少なくとも一方により結像スポット径が設定値に調整されるように、各部の一部又は全部を駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】露光量調整領域が切り替わることによる各種ハードウェアの物理的な駆動が発生せず、スループットを高く維持することができる露光技術の実現。
【解決手段】原版と基板とを同期走査して前記基板を露光する露光装置であって、前記基板を露光するショットごとの目標積算露光量に基づいて照明装置で生成される露光光の光量を調整する調整手段とを有し、互いに隣接する露光量調整領域が部分的に重なり合う領域を持つように設定されており、前記調整手段は、前記目標積算露光量に応じた露光量調整領域を選択することにより前記基板を露光するショットごとの露光量を調整し、前記制御手段は、前記調整手段により選択された露光量調整領域に応じて前記照明装置の駆動を切り替えると共に、前記目標積算露光量が前記重なり合う領域にある場合、前記露光量調整領域に応じた前記照明装置の駆動の切り替えを行わない。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置における周期的な画質のむらを低減する。
【解決手段】 絶縁基板の上に形成された感光性材料膜を露光、現像して、あらかじめ定められた基本パターンを前記絶縁基板上の複数箇所に形成する工程を有し、前記感光性材料膜の露光は、露光対象領域を複数の小領域に分割し、小領域毎に露光することで前記露光対象領域全体を露光し、かつ、空間光変調素子を数値制御することで各小領域に照射する光のパターンを生成する直描露光装置を用いて行う表示装置の製造方法であって、前記感光性材料膜の露光は、前記複数箇所に形成される前記基本パターンの寸法の変動量が０．２μｍ以下になるように、前記空間光変調素子で生成される前記光のパターンの光量分布を補正した前記直描露光装置を用いて行う表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】描画時間を短縮することが可能な描画方法を提供する。
【解決手段】第１照射条件を用いて、第１エネルギから計算される第１照射量で基板上のレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを描画するステップと、第１照射条件より高速に同一面積を描画できる第２照射条件を用いて、レジスト膜の現像による残膜率が変化を開始するエネルギより小さな第２エネルギから計算される第２照射量でレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを含む第２描画データのパターンを描画し、レジスト膜の第１描画データのパターン部を選択的に溶解可能とするステップとを含む。第１エネルギと第２エネルギの和は、残膜率の変化が完了するエネルギよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 パターン形成装置（１０）は、基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成する。そして、パターン形成装置（１０）は所定のエネルギーに応じて硬化する硬化性材料（ＬＲ）を基板（ＦＢ）の表面に接触させる接触装置（１２）と、パターンに対応するパターン情報に基づいて基板（ＦＢ）の表面と接触した硬化性材料（ＬＲ）に所定のエネルギーを付与し該硬化性材料（ＬＲ）を硬化させる硬化装置（１１）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤとマイクロレンズなどとの調整を容易にした描画装置を提供する。
【解決手段】 描画装置は、二次元的に配置された複数のミラーでパターンを形成するための光束に紫外光線の光束を空間変調する空間光変調素子（３４）と、空間光変調素子によって空間変調されたパターンを形成する光束を拡大する拡大光学系（３５）と、拡大光学系の第１結像位置にて拡大光学系の光軸方向と交差する面で空間変調素子の二次元的な配置と一致するように配置された複数のレンズからなる第１インテグレータ（４０）と、第１インテグレータで生じる迷光を減少させるように、空間光変調素子の複数のミラーを制御するミラー制御部（９０）と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、幾何学的歪に係る調整が施されるよう記録装置（１０）を再校正する方法に関する。本方法は、媒体支持器（１２）上に記録媒体（１７）を配置するステップと、個別作動可能な記録チャネル（２３）を複数個有する記録ヘッド（１６）を作動させることで、媒体支持器上に存する記録媒体上に画像特徴を１個又は複数個発生させるステップと、媒体支持器上での記録媒体の姿勢を画像特徴記録時の第１姿勢（５０Ａ）とは別の第２姿勢（５０Ｂ）に変化させるステップと、第２姿勢で媒体支持器上に存する記録媒体から画像特徴の歪を検出するステップと、歪の検出結果に従い一部の記録チャネルの作動タイミングを調整するステップと、を有する。
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【課題】スループットの向上を図ることが可能な露光方法、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】第１面に配置されたパターンに露光光を照射する工程と、第２面に配置された基板に前記パターンを介した前記露光光を照射する工程と、前記第２面よりも前記露光光の光路の上流側で該露光光の第１照度を検出する工程と、前記第２面における前記露光光の第２照度を検出する工程と、前記第１照度と前記第２照度とを対応付ける工程と、前記第１照度に基づいて前記第２照度を調整する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 多階調のハーフ露光をした後、現像して得られる感光性材料膜の形状不良の発生を未然に防ぐ。
【解決手段】 基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像して、前記基板の上に、厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程を有する表示装置の製造方法であって、当該工程は、前記感光性材料膜を露光するときに、ＣＡＤで作成されたレイアウトデータに基づいて、当該感光性材料膜を、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域と、前記完全に感光させる領域に対する露光条件とは異なる条件で露光するハーフ露光領域とに分け、前記ハーフ露光領域は、感光させる厚さと感光させない厚さの比が異なる複数の露光条件のうちのいずれかを選択して露光し、前記レイアウトデータは、前記ハーフ露光領域を示す図形が当該領域に対する露光条件と対応した文字情報を有するパターンで塗りつぶされている表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光品質を低下させることなく、基板のステップ移動を早期に開始して、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】シャッター駆動装置８０へシャッター７５を閉じる様に指令してから所定時間が経過した後、シャッター７５が閉じ終わる前に、Ｚ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップを広げる動作を開始する。そして、マスク２と基板１とのギャップを広げる動作が終了して、照度センサー７９により測定した露光光の照度がしきい値以下になったら、基板１のＸＹ方向へのステップ移動を行う。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において、図形要素のエッジの位置を照射位置のピッチよりも高分解能にて容易に制御する。
【解決手段】第１照射位置３３５ｃに向けて出射される光の強度である第１強度は、第１照射位置３３５ｃと図形要素８１の部分エッジ８１２との間の距離に基づいて決定され、第２照射位置３３５ｄに向けて出射される光の強度である第２強度は、第１強度に対して所定の強度比となるように決定され、第１強度の光と第２強度の光とにより形成される感光スポット３３６により部分エッジ８１２が形成される。そして、部分エッジ８１２の形成が繰り返されることにより、図形要素８１のエッジ８１１が描画される。このように、第１照射位置３３５ｃおよび第２照射位置３３５ｄに向けて出射される光の強度を容易に決定することにより、図形要素８１のエッジ８１１の位置を照射位置３３５のピッチよりも高分解能にて容易に制御することができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に、互いに高さが異なる２種以上の層状パターンが組み合わされてなる凹凸パターン層を高い生産性かつ低コストで、高い精度で製造する。
【解決手段】（ａ）最表面にネガ型のフォトレジストが塗布された基板を準備し、（ｂ）該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光し、（ｃ）フォトマスクを、（ｂ）工程で露光した領域と、露光されるべき次の開口部とが部分的に重なるように、所定のスライド方向に平行移動し、（ｄ）前記（ｂ）および（ｃ）工程をこの順序でさらに複数回繰り返し、（ｅ）前記露光済の基板表面を現像液で現像処理して、露光回数に応じた膜厚を生じさせて、凹凸パターン層を得る。 （もっと読む）

【課題】露光精度の低下を抑制することができる露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】投影システム（ＰＳ）を介して基板（Ｐ）に露光光（ＥＬ）を照射し、該基板の露光を行う露光方法において、マスク（Ｍ）に設けられたパターンを介して基板に露光光を照射する実露光ステップと、基板に露光光を照射させずに投影システムに露光光を照射する待機中照射ステップとを含み、実露光ステップにより投影システムに照射された露光光の所定時間あたりの第１光量と、待機中照射ステップにより投影システムに照射される露光光の所定時間あたりの第２光量とを等しくする。 （もっと読む）