【課題】 光ビームの投射位置の回転調整を精度良くかつ簡単に行えるレーザ直接描画装置を提供する。
【解決手段】ＤＭＤ７と基板Ｗとの間に設けられたガラス板１は、長方形の板状をなし、固定枠２０に支持されたピエゾ素子２１上に保持されている。ピエゾ素子２１はガラス板１の相対する２つの端部１０、１０の両端部、即ち長方形のガラス板１の４つの角部１１に設けられ、ねじり制御装置２の制御によりピエゾ素子２１ａｂｃｄのそれぞれを適宜伸長、短縮することにより端部１０、１０を反対方向にねじる。これにより、ガラス板１の表面角度が変動し、ガラス板１を透過して基板Ｗ上に照射するレーザビームの基板Ｗ上の照射位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】微細構造体配列形成用の濃度分布マスクの製造コストを低減する。
【解決手段】基板上に感光性レジスト材料層を塗布する第１の工程と、前記感光性レジスト材料層に、個々の微細構造体毎に濃度分布パターンを有する第１の濃度分布マスクを介してのパターンの露光と、前記微細構造体を配列した領域に渡る濃度分布パターンを有する第２のマスクを介してのパターンの露光とを重ねて行う第２の工程と、前記感光性レジスト材料層を現像することで微細構造体配列を形成する第３の工程により微細構造体配列を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、かぶり効果によるＣＤ変動を補正するための照射量のより精密な調整が可能な電子ビーム描画装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明の電子ビーム描画装置の調整方法は、電子ビームを測定用マスクの所定位置に照射し、電子ビームの照射された照射位置の周辺に所定間隔で設けられた複数の測定位置において、かぶり量を測定し、複数の測定位置においてそれぞれ測定されたかぶり量より、かぶり効果補正パラメータを求め、かぶり効果補正パラメータにより、電子ビームの照射量を調整する。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射による加工において、分解能が高く、任意の出力分布を持ち、かつ安定したレーザ照射を可能とする。
【解決手段】レーザアレイ光源１から発振されたレーザ光１２はコリメートレンズ１３によって平行光（レーザ光１２−１）となり、透過液晶装置１４を介して被加工物５に照射される。透過液晶装置１４の液晶分子の偏光方向を制御部１５により制御して、透過するレーザ光１２−２の出力を調節することにより、出力の階調が高く、分解能の高いレーザ光１２−２を作り出す。また、透過液晶装置１４を透過したレーザ光１２−２の一部をビームスプリッター１６で分離し、分離したレーザ光１２−３を受光素子１７に導き、出力分布をモニターする。これにより光源の半導体レーザ１１の出力やスポット内のエネルギー分布の変化を受光素子１７にて随時検出し、透過液晶装置１４にフィードバックして、一定の出力分布を維持する。 （もっと読む）

【課題】紫外線の被露光体に対する露光を全体的に均一にする。
【解決手段】軸断面三角形状のリフレクタ２の中央に、該リフレクタ２の長さ方向に沿って紫外線蛍光灯３を配置してなる露光器１である。紫外線蛍光灯３の直下の部分の光量を減少させる手段として、紫外線蛍光灯３の直下位置に該紫外線蛍光灯３と平行して、全体が透明なアクリル又はガラスからなり、上面をサンドブラストにより粗面４ａとなした所要幅の紫外線透過制限板４を配置する。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作で高精度なマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、光源１２と、ミラーＭを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物Ａ上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に照射する際に、その走査光による被露光物の表面におけるドーズ量が一定となるように走査光の走査速度に基づいて走査光の光強度を変化させて被露光物に対し露光を行う。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能で露光時間を短縮できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、被露光物Ａを載置して移動可能なステージと、光源と、ミラーを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に照射する際に、ステージをＭＥＭＳ光スキャナによる光走査方向Ｘと略直交する方向Ｙに一定速度で移動させるとともに、光源からの光のオンオフを制御することで被露光物上にパターンＰＡ〜ＰＡ６を露光する。 （もっと読む）

【課題】広い描画範囲にわたって精細なパターンを精度よく高速に描画することを可能とする。
【解決手段】
移動する基板に入射する電子線の入射位置を、電子線を偏向させることによって基板に対して相対的に停止させて、基板上のセル内の領域を露光してドットを形成する。また、セル内にドットを形成しない場合には、電子線を高速に偏向して、電子線の入射位置を基板に対して高速に移動させる。これにより、電子線をブランキングすることなく、セルに対する電子線のオン及びオフが可能となるため、基板に対して高速にパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でマスクレス露光が可能でありかつスポット照射が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、光源と、ミラーを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナにより第１周波数（１／ｔ１）で振動するミラーにより走査して被露光物を照射する際に、光源からの光を第２周波数（１／ｔ２）で点滅させ、第２周波数と第１周波数との周波数差に基づいて走査光により露光を行う。 （もっと読む）

【課題】 面を照明する装置、特にたとえばリソグラフィの用途のためにマスクを照明する装置を提供する。
【解決手段】 本発明は面を証明する装置に関する。該装置は、照明のために利用することができる光３を生成するための少なくとも１つの光源１と、前記少なくとも１つの光源１で生成される光３を形成するための光学手段２と、照明に利用されるべき光３を互いに分離された複数の部分ビーム５に分割することができる分離手段４，４’，４”とを有し、それによりこれらの部分ビームは照明されるべき面を互いに間隔をおいて照明できるようになっている。さらに本発明は、作業領域に光を作用させる装置に関する。 （もっと読む）

基板上にパターンを書き込むためのシステムおよび方法が提供される。極端紫外線（ＥＵＶ）放射の第１および第２ビームが生成される。露光ユニットは、基板上に第１および第２ＥＵＶ放射ビームを投影するために使用される。第１および第２放射ビームは互いに干渉して、基板の露光フィールドで第１組の平行線を露光する。
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【課題】各個別に制御可能なエレメントが、アレイに使用される場合、さらに良好なポジティブおよびネガティブ強度特性を有し、テレセントリックエラーを効率的かつ有効に補正することができるようにする。
【解決手段】放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。個別に制御可能なエレメントのアレイは、対向するエッジに第1のステップと第2のステップを有するミラーを備える。投影システムは、パターン化されたビームをオブジェクト上のターゲット部分に投影する。様々な実施例において、オブジェクトは、ディスプレイ、半導体基板またはウェハ、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板等であってよい。 （もっと読む）

【課題】 所定の偏光状態を有する入射光束を第１の光束と第２の光束に分岐する光束分岐装置であって、第１の光束の光量を損失させずに、第１の光束が第２の光束と同一の偏光状態を有するようにすることができる光束分岐装置を提供する。
【解決手段】 所定の偏光状態を有する入射光束を第１の光束と第２の光束に分岐させるプリズム４と、前記第２の光束を反射させる反射部材６とを備える光束分岐装置であって、前記プリズムは、前記入射光束を透過及び反射させることによって、前記第１の光束としての透過光束と前記第２の光束としての反射光束とに分岐させる入射面４０と、前記入射面から入射した前記第１の光束が射出する射出面５４と、前記入射面から入射した前記第１の光束を全反射させながら前記射出面へ導く少なくとも１つの反射面４２とを備え、前記射出面から射出した前記第１の光束は、前記反射部材で反射した前記第２の光束と同一の偏光状態を有する。 （もっと読む）

【課題】 １つの領域を複数の露光領域に分割して露光するステップを複数回行って製造したＴＦＴ基板を有する液晶表示装置における画質むらの発生を抑制する。
【解決手段】 絶縁基板の表面のうちのあらかじめ定められた１つの領域に対して、成膜された感光性材料の膜を露光するステップおよび露光した前記感光性材料の膜を現像するステップを有する露光／現像工程を複数回行う表示装置の製造方法であって、それぞれの前記露光するステップは、前記１つの領域を、互いに重畳する部分がなく、かつ、他の前記露光するステップのうちの少なくとも１回の前記露光するステップにおける前記露光領域の境界線と一致しない境界線により複数の露光領域に分割し、それぞれの露光領域を個別に露光することで前記１つの領域全体を露光する表示装置の製造方法。 （もっと読む）

多光子硬化性光反応性組成物に対して放射光線を走査することを含む方法である。放射光線は、所定体積の多光子硬化性光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるために充分な出力を有する。本方法は更に、放射光線が走査される際に放射光線の特性を改変することを含む。
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【課題】サブミクロンサイズのドットパターンを有する従来型フィルタを用いる場合よりもリソグラフィ装置を簡素で安価にする。
【解決手段】基板と、基板上に形成される吸収フィルムと、を備えるリソグラフィ装置で使用されるシステム及び方法である。吸収フィルムの厚さは、基板を透過する放射ビームの強度不均一性を軽減するよう基板の少なくとも一部において空間的に調整されている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系に対して相対的に連続移動する基板に対してパターンを描画するパターン描画装置において、基板の移動速度を増大させて基板に対するパターンの描画速度を向上し、パターン描画装置におけるパターンの描画効率を向上する。
【解決手段】パターン描画装置１では、基板駆動機構２、第１光源５１および第２光源５２を同期制御することにより、両光源から等間隔にて交互に出射されるパルス光が合成され、連続移動する基板９に対して繰り返し照射されて描画パターンが描画される。これにより、１つの光源のみを有するパターン描画装置に比べて、基板９上の１つの描画パターン要素が描画される領域に照射される光の周波数を２倍とすることができ、パターンの描画時における基板９の主走査方向の移動速度を増大させて基板９に対するパターンの描画速度を向上することができる。その結果、パターン描画装置１におけるパターンの描画効率が向上される。 （もっと読む）

【課題】光走査軸が可変であり露光のスループットを向上でき小型化が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、光源１２と、ミラーＭを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に照射する際に、ミラーＭを露光光学系の光学軸ｂを中心にして回転させることで被露光物上に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の投影系の均一性を表す情報を取得するために用いられる装置および方法を提供する。
【解決手段】電磁放射ビームは、該放射ビームが投影系の第１端部から投影系の第２端部へ通過するように、投影系に導かれる。電磁放射ビームは、続いて、該電磁放射ビームが投影系の第２端部から投影系の第１端部へ通過するように、投影系へ戻るよう導かれる。前記投影系の均一性を表す情報を取得するために、電磁放射ビームが投影系に戻って通過した後に、電磁放射ビームの少なくとも一部が検出される。 （もっと読む）

【課題】基板を露光するリソグラフィ装置と方法を提供する。
【解決手段】照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを
供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影する。アレイの各レンズは
ビームの各部分を基板へ配向する。変位システムは、基板とビームを相対的に変位させビ
ームは所定の走査方向に基板全体で走査される。投影システムを各トラックに沿って各ビ
ームを走査するように位置決めする。トラックが重なるので、各トラックはビーム１本で
走査する第一部分と、隣接トラックと重なりビーム２本で走査する第二部分を有する。第
一部分への各ビーム部分の最大強度は第二部分へのビーム部分の最大強度より大きいので
、第一と第二部分はほぼ同じ最大強度の放射線に露光する。隣接ビームをこのように重ね
ビーム強度を変調すると異なる光列の光学的フットプリントが継合わされ１回の走査で大
面積の基板を露光できる。 （もっと読む）