【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、１度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との間の押圧力の発生を防止または低減して、基板の割れを防止あるいは抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１００は、マスクホルダ１１と基板ステージ１２の一方には、マスクＭ又は基板Ｗの周囲に配置され、自身の長さを調整可能な複数のギャップ規制機構が設けられ、ギャップ規制機構は、マスクと基板との間のギャップが所望のギャップとなったときに、マスクホルダ１１と基板ステージ１２の他方と当接する。 （もっと読む）

【課題】ロール状基材に連続した画像を形成する筒状体マスク及びこれを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する筒状体と、該筒状体の周方向に連続して刻設された凹部からなるパターンと、該凹部に充填された遮光部材とから構成される筒状体マスクと、該筒状体マスクの中央に設置された光源とから構成され、少なくとも片面に感光性樹脂を塗布したロール状基材の該樹脂塗布面と、前記筒状体の表面とを接触回転させ、前記光源によって露光する。 （もっと読む）

【課題】コンタクト露光のマスクとワークの位置合せにおいて、位置合わせを何度繰り返しても位置ずれが解消せず、アライメントが収束しないというエラーの発生を防ぐこと。
【解決手段】マスクＭとワークＷを接触させて、マスク・アライメントマークＭＡＭとワーク・アライメントマークＷＡＭの位置を検出し第１のアライメント量を求める。ついで、マスクＭとワークＷを離間し、第１のアライメント量に基づいてマスクＭとワークＷの位置合わせを行い、マスクＭとワークＷを接触させて、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置を検出し第２のアライメント量を求める。第１、第２のアライメント量が、あらかじめ設定した範囲内で一致する場合は、第２のアライメント量をイメージシフト量として記憶し、再度マスクＭとワークＷを離間し、第２のアライメント量にイメージシフト量を加えて、アライメント量を求めマスクとワークの位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体に被照射物等が浸されることなく、液体を介して被照射物に露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸された被照射物保持構造体１０の光入射部３２から入射し被照射物Ｗに照射される。被照射物保持構造体１０は、防液部材３０、ステージ２１、回転モータ２２等から構成される。マスクＭ上にレジストＲを塗布した被照射物Ｗはステージ２１に載置され、被照射物ＷのマスクＭ側が防液部材３０の光入射部３２に密接するように配置される。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。被照射物Ｗが光入射部３２に密着しているので、液体中に被照射物Ｗを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストＲへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】液体容器３０に光入射窓３１と光出射窓３２を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜させる。この光出射窓３２に、マスクＭをレジストＲに密着させた被照射物Ｗを間に空気が介在しないように取り付ける。光出射窓３２は液体容器３０に回転ベアリング３２ａを介して回転可能に取り付けられており、液体容器３０の光入射窓３１に光照射部１０からの光を入射させ、光出射窓３２から光を出射させて被照射物Ｗに照射するとともに、被照射物Ｗを光出射窓３２とともに回転させる。被照射物Ｗが光出射窓３２に密着しているので、液体中に被照射物を浸すことなく、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの送りと押圧板の移動との切り替えを、簡単な構成で、且つ簡単な操作で行うことのできるスタンプ作成装置を提供する。
【解決手段】光硬化性樹脂で構成された印面Ａｄに露光を行うことでスタンプ素材に印章画像を形成するスタンプ作成装置であって、マスクを、印面Ａｄが位置する露光部に送り込むリボン送り機構４２（マスク送り機構）と、露光部に設けられ、マスクを印面Ａｄに押圧する押圧位置Ｐ１と印面Ａｄから退避する退避位置Ｐ２との間で押圧板５０を移動させる押圧板移動機構５１と、リボン送り機構４２および押圧板移動機構５１を駆動する単一の動力源と、動力源の回転動力を、リボン送り機構４２に伝達するリボン送りギヤ列４３（マスク送りギヤ列）と、押圧板移動機構５１に伝達する押圧板移動ギヤ列５２と、リボン送りギヤ列４３および押圧板移動ギヤ列５２に選択的に伝達する動力切替機構６２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】開閉蓋の開閉に連動し、押圧板を退避位置と押圧位置との間で移動させることのできるスタンプ作成装置を提供する。
【解決手段】印面Ａｄに露光を行うことで、スタンプ素材に印章画像を形成するスタンプ作成装置１であって、スタンプ素材が着脱自在に装着されるスタンプ装着部１１を開閉する開閉蓋１２と、マスクを印面Ａｄに、押圧する押圧位置Ｐ１と退避する退避位置Ｐ２との間で移動自在に構成された押圧板５０を退避位置Ｐ２に向かって付勢すると共に、退避位置Ｐ２から押圧位置Ｐ１に移動させる押圧板移動機構５１と、動力装置６の回転動力を、押圧板移動機構５１に伝達する押圧板移動ギヤ列５２と、押圧板移動ギヤ列５２に組み込まれ、開閉蓋１２の開閉に連動して、相互に噛み合う任意の移動出力ギヤ５２ｂと移動減速ギヤ５２ｃとの噛み合いを断続させるクラッチ機構９１と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】離型フィルムの剥離によるストップマークの発生を抑制し、プリント配線板等の製造に用いられるフォトマスクに貼り付ける際には気泡の巻き込みが少なく、フォトマスクから剥離する際には糊残りが少ない粘着剤層を形成することができる粘着剤組成物を提供する。また、該粘着剤組成物を用いて製造される表面保護用粘着シートを提供する。
【解決手段】アクリル酸−２−エチルヘキシル又はアクリル酸オクチル５０〜９５重量％と、炭素数２〜５のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル０．１〜４０重量％と、（メタ）アクリル酸０．１〜５重量％とを含有するモノマー混合物を共重合して得られるアクリル酸エステル系樹脂を含有する粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複雑な立体形状を有する金型であっても、密着性のよいフォトマスクが容易に作成でき、しかも繰り返し露光を可能とする再現性の高い位置決め精度を有する露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱間プレス成形用金型の表面に成膜したレジスト膜に、露光により所定のパターンを転写する真空圧空成形露光装置であって、レジスト膜が表面に成膜された成形用金型を気密に収容する気密容器と、前記成形用金型を載置する台座と、所定のパターンが形成されたシートを加熱して軟化する加熱機構と、軟化したシートを金型に被せた際にシート下面を台座に吸着させる吸引部と、前記吸引部に接続された吸引機構と、軟化したシートを前記成形用金型に吸着させた状態で当該シートにおける前記パターンをレジスト膜に露光する露光機構と、前記気密容器内を加圧する気体を供給する気体供給部と、を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板２１の端に、ガラス基板２１の表面２１ａ，２１ｂに対して垂直な切り欠き２２を設ける。次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。そして、ガラス基板２１を裏返し、ウラ面２１ｂを上方に露呈させ、アライメントマーク４３，４４が切り欠き２２に合致するように第２マスク３２をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のウラ面２１ｂに第２マスクパターン４２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 （もっと読む）

【課題】曲面上においても露光を行うことができるリソグラフィ用のマスクを製造する方法を提供する。
【解決手段】表面形状の少なくとも一部が曲面である被加工物の表面を加工するために用いられるリソグラフィ用のマスクを製造する方法であって、リソグラフィを行う際に照射する光を透過しポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等からなる基板としての透明フィルム１１に遮光層としての所定のパターンを有するニッケル膜１４を形成する工程と、ニッケル膜１４が形成された透明フィルム１１を押圧することにより変形させ、被加工物の表面の少なくとも一部の形状に沿う形状にする工程と、を含むリソグラフィ用のマスク１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光照射装置で入射光が小光量の場合でも均一化して出射できる入射光を供給する。
【解決手段】光照射装置の絞り板の開口部の形状が、スリット形状で溝幅が連続的に暫減又は暫増するように形成される第１パターン１０１と、第１パターンにおける少なくとも溝幅が所定値以下に狭くなったところの近傍領域に、第１パターンにおける溝幅が暫減又は暫増することと協働して、出射光の通過可能となる面積を暫減又は暫増させるように形成される第２パターン１０２とが組み合わされて構成される。 （もっと読む）

【課題】真空紫外光を用いて高精細かつ複雑なパターン状に、正確に機能性層が分解除去されたパターン形成体を、高感度で製造する。
【解決手段】真空紫外光を照射することにより分解可能な機能性材料の機能性層１ｂを有するパターン形成用基板１を用い、機能性層上にメタルマスク１０を配置する工程と、反応性ガスの存在下で、メタルマスクを介して機能性層の表面に真空紫外光を照射して、機能性層の一部をパターン状に除去する工程とを有するパターン形成体の製造方法であって、メタルマスクが、金属薄板からなり、開口部１２を有するメタルマスク本体１１と、開口部を架橋するように形成されたブリッジ部分１３とを有し、かつ、機能性層上に配置された際に、機能性層とブリッジ部分との間に反応性ガスが通流可能な空隙が形成されるように、ブリッジ部分が形成されていることを特徴とする、パターン形成体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】真空紫外光を用いて浮島パターン状に真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を高感度で製造する。
【解決手段】パターン形成用基板１０１のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、反応性ガスの存在下において上記メタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射することにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理する方法に用いられる真空紫外光用メタルマスク１０であって、金属薄板からなり、開口部を有するメタルマスク本体１と、上記メタルマスク本体の開口部内に配置された浮島部分２と、上記浮島部分およびメタルマスク本体を接続するブリッジ部分３とを有し、かつ、上記パターン形成用基板上に配置された際に、上記パターン形成面とブリッジ部分との間に上記反応性ガスが通流可能な空隙が形成されるように、上記ブリッジ部分を形成する。 （もっと読む）

【課題】夾雑物の混入なくマスクパターンフィルムを巻き付け固定し、ロール・ツー・ロールで好適に電解メッキできるマスクパターンフィルムの巻き付け機構及び露光装置を提供すること。
【解決手段】マスクパターンフィルムの前部及び後部に片面に粘着層を有するテープ体と該テープ体との間で剥離可能な剥離シートを設け、搬送巻き付け手段によって該マスクパターンフィルムを光透過性円筒体に巻き付け、剥離シート除去手段により該マスクパターンフィルムの前部及び後部に設けられた剥離シートを除去し、該マスクパターンフィルムの前部に設けられた該テープ体と該マスクパターンフィルムの後部に設けられた該テープ体が重なり合うように貼り付けて、該マスクパターンフィルムを該光透過性円筒体に巻き付けることを特徴とするマスクパターンフィルムの巻き付け機構、及び前記機構を有する露光装置。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、放射線感受性材料をイメージングするために回転式マスクが使用される、大面積の基体のナノパターン形成に有用な方法および装置に関する。典型的には、この回転式マスクは円筒を含む。このナノパターン形成技術は、基体をパターン形成するために使用されるマスクがその基体と動的接触にある、近接場フォトリソグラフィを利用する。この近接場フォトリソグラフィはエラストマーの位相シフトマスクを利用してもよいし、または回転する円筒表面が金属ナノホールまたはナノ粒子を含む表面プラズモン技術を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを、パターンが描かれた中央部分とその周囲の力伝達部分とに分けて作成し、その後、接合することにより、材料費の低減および新たな設備投資の回避の可能性をもたらす。
【解決手段】フォトマスク１は、パターン表示領域５を含む中央部分３と、中央部分３の外周縁部を取り囲む力伝達部分４とに分けて作成される。両者は粘着テープ７で互いに接合される。力伝達部分４は、中央部分３を弾性的に変形させるための力付与手段と連結するための連結部（孔）８を有する。 （もっと読む）